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一種靜電吸盤(pán)的清潔工具及清潔方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):41958603

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本發(fā)明屬于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,特別涉及一種靜電吸盤(pán)的清潔工具及清潔方法。背景技術(shù)、等離子體刻蝕是干法刻蝕中最常見(jiàn)的一種形式,其原理是:將暴露在電子區(qū)域的刻蝕氣體形成等離子體,等離子體通過(guò)電場(chǎng)加速釋放足夠的能量,促使等離子體與晶圓表面發(fā)生反應(yīng),在晶圓表面刻蝕出所需形貌。目前,在半導(dǎo)體行業(yè)中,干法刻蝕中的等離子體刻蝕由于可以使電路圖形變得更加精細(xì),因此得到越來(lái)越廣泛的使用。在等離子體刻蝕過(guò)程中,隨著刻蝕反應(yīng)的進(jìn)行,反應(yīng)室中會(huì)產(chǎn)生刻蝕副產(chǎn)物,該部分副產(chǎn)物會(huì)影響晶圓表面的刻蝕,因此反應(yīng)室中通常是一邊在晶圓...
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