本發(fā)明涉及清洗構(gòu)件的定位方法。

背景技術(shù)：

1、例如用于lcd(liquid?crystal?display：液晶顯示器)、oled(organic?light-emitting?diode：有機(jī)發(fā)光二極管)等的平板顯示器(fpd：flat?panel?display)用的玻璃板的表面被清洗裝置清洗。

2、在專利文獻(xiàn)1中，作為玻璃板的清洗裝置，記載了使由多個(gè)盤(pán)刷構(gòu)成的清洗構(gòu)件在與輸送過(guò)程中的玻璃板的表面接觸的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)，去除附著于玻璃板的表面的附著物。在該清洗裝置中，利用調(diào)整單元對(duì)清洗構(gòu)件相對(duì)于玻璃板的表面的位置進(jìn)行微調(diào)來(lái)調(diào)整接觸狀態(tài)。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)

5、專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2015-30570號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明所要解決的課題

2、然而，如專利文獻(xiàn)1那樣，若僅調(diào)整清洗構(gòu)件的高度，則由于玻璃板的撓曲等的影響、清洗構(gòu)件的傾斜，有時(shí)難以定位成在與輸送路徑正交的寬度方向上接觸狀態(tài)均等。

3、因此，本發(fā)明的目的在于提供一種清洗構(gòu)件的定位方法，能夠高精度地對(duì)清洗玻璃板的清洗構(gòu)件進(jìn)行定位。

4、用于解決課題的技術(shù)方案

5、本發(fā)明由下述結(jié)構(gòu)構(gòu)成。

6、一種基板清洗裝置中的清洗構(gòu)件的定位方法，所述基板清洗裝置具備：多個(gè)輸送輥，沿著水平方向的輸送路徑輸送玻璃板；及所述清洗構(gòu)件，在相鄰的兩個(gè)輸送輥之間的至少一處，沿著與所述輸送路徑正交的路徑寬度方向配置于所述輸送路徑的上下的至少一方，一邊旋轉(zhuǎn)一邊與由所述輸送輥輸送的所述玻璃板接觸而對(duì)主面進(jìn)行清洗，其中，

7、使多個(gè)定位用基板在所述路徑寬度方向上排列并架設(shè)于在所述清洗構(gòu)件的所述輸送路徑的上下游相鄰的所述輸送輥，且

8、使所述清洗構(gòu)件向所述定位用基板接近，并且使所述清洗構(gòu)件旋轉(zhuǎn)，并監(jiān)視多個(gè)所述定位用基板的移動(dòng)而對(duì)所述清洗構(gòu)件的高度進(jìn)行定位。

9、發(fā)明效果

10、根據(jù)本發(fā)明，能夠高精度地對(duì)清洗玻璃板的清洗構(gòu)件進(jìn)行定位。

技術(shù)特征：

1.一種基板清洗裝置中的清洗構(gòu)件的定位方法，所述基板清洗裝置具備：多個(gè)輸送輥，沿著水平方向的輸送路徑輸送玻璃板；及所述清洗構(gòu)件，在相鄰的兩個(gè)輸送輥之間的至少一處，沿著與所述輸送路徑正交的路徑寬度方向配置于所述輸送路徑的上下的至少一方，一邊旋轉(zhuǎn)一邊與由所述輸送輥輸送的所述玻璃板接觸而對(duì)主面進(jìn)行清洗，其中，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗構(gòu)件的定位方法，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗構(gòu)件的定位方法，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗構(gòu)件的定位方法，其中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的清洗構(gòu)件的定位方法，其中，

6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的清洗構(gòu)件的定位方法，其中，

技術(shù)總結(jié)
提供一種清洗構(gòu)件的定位方法。本發(fā)明涉及一種基板清洗裝置(100)中的輥刷(37)的定位方法，該基板清洗裝置(100)具備：多個(gè)輸送輥(11)，將玻璃板(G)沿著水平方向的路徑線(PL)輸送；及輥刷(37)，在相鄰的兩個(gè)輸送輥(11)之間的至少一處，沿著與路徑線(PL)正交的路徑寬度方向(PW)配置于路徑線(PL)的上下的至少一方，一邊旋轉(zhuǎn)一邊與玻璃板(G)接觸而對(duì)主面進(jìn)行清洗，使多個(gè)定位用基板(SGR、SGC、SGL)在路徑寬度方向(PW)上排列并架設(shè)于在輥刷(37)的上下游相鄰的輸送輥(11)，且使輥刷(37)向定位用基板(SGR、SGC、SGL)接近并旋轉(zhuǎn)，并且監(jiān)視多個(gè)定位用基板(SGR、SGC、SGL)的移動(dòng)而對(duì)輥刷(37)的高度進(jìn)行定位。

技術(shù)研發(fā)人員：石川智章
受保護(hù)的技術(shù)使用者：AGC株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/19