本發(fā)明涉及清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析，具體而言，涉及一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法。

背景技術(shù)：

1、藍(lán)寶石加工清洗設(shè)備通常用于在藍(lán)寶石切割、拋光或者其他加工過(guò)程之后，去除表面的污染物，如研磨劑、油脂、灰塵和其他殘留物；

2、針對(duì)相關(guān)技術(shù)中對(duì)于清洗設(shè)備清潔劑用量和溫度的分析，存在的無(wú)法先根據(jù)藍(lán)寶石圖片分析污濁度，再根據(jù)藍(lán)寶石污濁狀態(tài)優(yōu)化清洗設(shè)備清潔劑的噴灑量和溫度，從而無(wú)法根據(jù)清潔前后藍(lán)寶石的污濁狀態(tài)分析藍(lán)寶石是否達(dá)到預(yù)期清潔效果，導(dǎo)致藍(lán)寶加工過(guò)程中清洗效率較低的問(wèn)題，目前尚未提出有效的解決方案；綜上，目前缺乏一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，本發(fā)明根據(jù)清潔前后藍(lán)寶石的污濁狀態(tài)分析藍(lán)寶石是否達(dá)到預(yù)期清潔效果；本發(fā)明通過(guò)對(duì)清潔前后的藍(lán)寶石進(jìn)行分析可以實(shí)現(xiàn)對(duì)藍(lán)寶石污濁狀態(tài)的精確掌控，并根據(jù)污濁狀態(tài)優(yōu)化清洗設(shè)備清潔劑的噴灑量和溫度，通過(guò)對(duì)清洗設(shè)備的控制提高了藍(lán)寶石的清潔效率，實(shí)現(xiàn)藍(lán)寶石加工過(guò)程中清潔步驟的標(biāo)準(zhǔn)化。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本申請(qǐng)的一方面，提供了如下技術(shù)方案：

3、一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，該方法包括：

4、s1、獲取清潔劑清潔前的藍(lán)寶石圖片，根據(jù)清潔劑清潔前的藍(lán)寶石圖片對(duì)清潔前的藍(lán)寶石進(jìn)行污濁狀態(tài)評(píng)估；

5、s2、根據(jù)清潔前藍(lán)寶石污濁狀態(tài)評(píng)估結(jié)果確定清潔劑噴灑用量和清潔劑噴灑時(shí)的最佳溫度；

6、s3、獲取清潔劑清潔后的藍(lán)寶石圖片，根據(jù)清潔后的藍(lán)寶石圖片對(duì)清潔后的藍(lán)寶石進(jìn)行污濁狀態(tài)評(píng)估；

7、s4、根據(jù)清潔前后藍(lán)寶石的污濁狀態(tài)分析藍(lán)寶石是否達(dá)到預(yù)期清潔效果。

8、可選的，所述s1包括以下具體步驟：

9、s101、獲取清潔劑清潔前的藍(lán)寶石圖片，根據(jù)所述清潔劑清潔前的藍(lán)寶石圖片分離清潔前的污濁區(qū)域，根據(jù)所述清潔前的污濁區(qū)域提取清潔前的污濁吸附數(shù)據(jù)和斑點(diǎn)數(shù)據(jù)，所述污濁吸附數(shù)據(jù)包括污濁類型和污濁吸附度，所述清潔前的斑點(diǎn)數(shù)據(jù)包括清潔前的斑點(diǎn)面積、清潔前的斑點(diǎn)間隔和清潔前的斑點(diǎn)色度；

10、s102、根據(jù)清潔前的污濁吸附數(shù)據(jù)和斑點(diǎn)數(shù)據(jù)獲取清潔前藍(lán)寶石的綜合污濁度，所述清潔前藍(lán)寶石的綜合污濁度通過(guò)綜合污濁度計(jì)算公式獲取，所述綜合污濁度計(jì)算公式為：；其中，為清潔前藍(lán)寶石的污濁度，為斑點(diǎn)總個(gè)數(shù)，為第j個(gè)污濁區(qū)域的第i個(gè)斑點(diǎn)的面積，為斑點(diǎn)面積隱患值，為第j個(gè)污濁區(qū)域的第i個(gè)斑點(diǎn)與其距離最近的斑點(diǎn)之間的間隔，為斑點(diǎn)間隔隱患值，為第j個(gè)污濁區(qū)域的第i個(gè)斑點(diǎn)的亮度值，為藍(lán)寶石標(biāo)準(zhǔn)亮度值，為第j個(gè)污濁區(qū)域的污濁吸附度。

11、可選的，所述s2包括以下具體步驟：

12、s201、根據(jù)清潔前藍(lán)寶石的綜合污濁度獲取清潔劑噴灑用量，所述清潔劑噴灑用量通過(guò)噴灑用量計(jì)算公式獲取，所述噴灑用量計(jì)算公式為：；其中，為清潔劑噴灑用量，為清潔比例常數(shù)，為污濁度影響系數(shù)，，為以10為底的對(duì)數(shù)函數(shù)；

13、s202、根據(jù)污濁類型獲取清潔劑噴灑時(shí)的最佳溫度。

14、可選的，所述s3包括以下具體步驟：

15、s301、獲取清潔劑清潔后的藍(lán)寶石圖片，根據(jù)清潔劑清潔后的藍(lán)寶石圖片分離清潔后的污濁區(qū)域，根據(jù)所述清潔后的污濁區(qū)域提取清潔后的污濁吸附數(shù)據(jù)和斑點(diǎn)數(shù)據(jù)，所述清潔后的污濁吸附數(shù)據(jù)包括污濁類型和污濁吸附度，所述清潔后的斑點(diǎn)數(shù)據(jù)包括清潔后的斑點(diǎn)面積、清潔后的斑點(diǎn)間隔和清潔后的斑點(diǎn)色度；

16、s302、根據(jù)清潔后的污濁吸附數(shù)據(jù)和斑點(diǎn)數(shù)據(jù)獲取清潔后藍(lán)寶石的綜合污濁度。

17、可選的，所述s4包括以下具體步驟：

18、s401、根據(jù)清潔前藍(lán)寶石的綜合污濁度和清潔后藍(lán)寶石的綜合污濁度獲取清洗設(shè)備的清洗效率，所述清洗效率通過(guò)清洗效率計(jì)算公式獲取，所述清洗效率計(jì)算公式為：；其中，為藍(lán)寶石的清洗效率，為清潔后藍(lán)寶石的綜合污濁度；

19、s402、將清洗效率與預(yù)設(shè)的清洗效率進(jìn)行對(duì)比，若清洗效率大于等于預(yù)設(shè)的清洗效率，則判斷藍(lán)寶石達(dá)到預(yù)期清潔效果，若清洗效率小于預(yù)設(shè)的清洗效率，則判斷藍(lán)寶石未達(dá)到預(yù)期清潔效果。

20、為實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本申請(qǐng)的另一方面，提供了一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，用于實(shí)現(xiàn)一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，包括控制模塊、圖片處理模塊、污濁評(píng)估模塊、清潔劑用量分析模塊、清洗設(shè)備溫度分析模塊和清洗效果判斷模塊；

21、可選的，所述控制模塊用于控制圖片處理模塊、污濁評(píng)估模塊、清潔劑用量分析模塊、清洗設(shè)備溫度分析模塊和清洗效果判斷模塊的運(yùn)行；

22、所述圖片處理模塊用于獲取藍(lán)寶石圖片，根據(jù)藍(lán)寶石圖片分離污濁區(qū)域，根據(jù)污濁區(qū)域提取污濁吸附數(shù)據(jù)和斑點(diǎn)數(shù)據(jù)，污濁吸附數(shù)據(jù)包括污濁類型和污濁吸附度，斑點(diǎn)數(shù)據(jù)包括斑點(diǎn)面積、斑點(diǎn)間隔和斑點(diǎn)色度；

23、所述污濁評(píng)估模塊用于根據(jù)污濁吸附數(shù)據(jù)和斑點(diǎn)數(shù)據(jù)獲取藍(lán)寶石的污濁度；

24、所述清潔劑用量分析模塊用于根據(jù)清潔前藍(lán)寶石的綜合污濁度獲取清潔劑噴灑用量；

25、所述清洗設(shè)備溫度分析模塊用于根據(jù)污濁類型獲取清潔劑噴灑時(shí)的最佳溫度；

26、所述清洗效果判斷模塊用于根據(jù)清潔前藍(lán)寶石的綜合污濁度和清潔后藍(lán)寶石的綜合污濁度獲取清洗設(shè)備的清洗效率，將清洗效率與預(yù)設(shè)的清洗效率進(jìn)行對(duì)比，若清洗效率大于等于預(yù)設(shè)的清洗效率，則判斷藍(lán)寶石達(dá)到預(yù)期清潔效果，若清洗效率小于預(yù)設(shè)的清洗效率，則判斷藍(lán)寶石未達(dá)到預(yù)期清潔效果。

27、根據(jù)本發(fā)明的另一方面，還提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，所述存儲(chǔ)介質(zhì)用于存儲(chǔ)程序，其中，所述程序執(zhí)行上述中任意一項(xiàng)所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法。

28、根據(jù)本發(fā)明的另一方面，還提供了一種電子設(shè)備，包括一個(gè)或多個(gè)處理器和存儲(chǔ)器，所述存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)程序，其中，當(dāng)所述一個(gè)或多個(gè)程序被所述一個(gè)或多個(gè)處理器執(zhí)行時(shí)，使得所述一個(gè)或多個(gè)處理器實(shí)現(xiàn)上述中任意一項(xiàng)所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法。

29、通過(guò)本發(fā)明，采用以下步驟：獲取清潔劑清潔前的藍(lán)寶石圖片，根據(jù)清潔劑清潔前的藍(lán)寶石圖片對(duì)清潔前的藍(lán)寶石進(jìn)行污濁狀態(tài)評(píng)估，根據(jù)清潔前藍(lán)寶石污濁狀態(tài)評(píng)估結(jié)果確定清潔劑噴灑用量和清潔劑噴灑時(shí)的最佳溫度，獲取清潔劑清潔后的藍(lán)寶石圖片，根據(jù)清潔后的藍(lán)寶石圖片對(duì)清潔后的藍(lán)寶石進(jìn)行污濁狀態(tài)評(píng)估，根據(jù)清潔前后藍(lán)寶石的污濁狀態(tài)分析藍(lán)寶石是否達(dá)到預(yù)期清潔效果；本發(fā)明通過(guò)對(duì)清潔前后的藍(lán)寶石進(jìn)行分析可以實(shí)現(xiàn)對(duì)藍(lán)寶石污濁狀態(tài)的精確掌控，并根據(jù)污濁狀態(tài)優(yōu)化清洗設(shè)備清潔劑的噴灑量和溫度，通過(guò)對(duì)清洗設(shè)備的控制提高了藍(lán)寶石的清潔效率，實(shí)現(xiàn)藍(lán)寶石加工過(guò)程中清潔步驟的標(biāo)準(zhǔn)化。

技術(shù)特征：

1.一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，包括以下具體步驟：

2.如權(quán)利要求1所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述s1包括以下具體步驟：

3.如權(quán)利要求2所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述s2包括以下具體步驟：

4.如權(quán)利要求3所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述s3包括以下具體步驟：

5.如權(quán)利要求4所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述s4包括以下具體步驟：

6.一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，用于實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，包括控制模塊、圖片處理模塊、污濁評(píng)估模塊、清潔劑用量分析模塊、清洗設(shè)備溫度分析模塊和清洗效果判斷模塊；

7.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，所述存儲(chǔ)介質(zhì)用于存儲(chǔ)程序，其中，所述程序執(zhí)行權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法。

8.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括一個(gè)或多個(gè)處理器和存儲(chǔ)器，所述存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)一個(gè)或多個(gè)程序，其中，當(dāng)所述一個(gè)或多個(gè)程序被所述一個(gè)或多個(gè)處理器執(zhí)行時(shí)，使得所述一個(gè)或多個(gè)處理器實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于藍(lán)寶石加工的清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析方法，涉及清洗設(shè)備數(shù)據(jù)分析技術(shù)領(lǐng)域，該方法包括：獲取清潔劑清潔前的藍(lán)寶石圖片，根據(jù)清潔劑清潔前的藍(lán)寶石圖片對(duì)清潔前的藍(lán)寶石進(jìn)行污濁狀態(tài)評(píng)估，根據(jù)清潔前藍(lán)寶石污濁狀態(tài)評(píng)估結(jié)果確定清潔劑噴灑用量和清潔劑噴灑時(shí)的最佳溫度，獲取清潔劑清潔后的藍(lán)寶石圖片，根據(jù)清潔后的藍(lán)寶石圖片對(duì)清潔后的藍(lán)寶石進(jìn)行污濁狀態(tài)評(píng)估，根據(jù)清潔前后藍(lán)寶石的污濁狀態(tài)分析藍(lán)寶石是否達(dá)到預(yù)期清潔效果；本發(fā)明根據(jù)污濁狀態(tài)優(yōu)化清洗設(shè)備清潔劑的噴灑量和溫度，通過(guò)對(duì)清洗設(shè)備的控制提高了藍(lán)寶石的清潔效率，實(shí)現(xiàn)藍(lán)寶石加工過(guò)程中清潔步驟的標(biāo)準(zhǔn)化。

技術(shù)研發(fā)人員：肖迪,徐軍,肖燕青,王雪,唐慧麗,戴磊,賈松松
受保護(hù)的技術(shù)使用者：青島華芯晶電科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/22