光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及領(lǐng)域，公開(kāi)了一種光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，包括箱體和光源支架，箱體包括箱體本體、上前艙門(mén)、下前艙門(mén)和后艙門(mén)，箱體本體具有上部空間和下部空間；上部空間分為密封層和操作層；密封層通過(guò)后艙門(mén)密封，用于安裝光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)主體；操作層通過(guò)上前艙門(mén)密封，用于安裝光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)閥組；下部空間通過(guò)下前艙門(mén)密封，用于安裝光催化反應(yīng)系統(tǒng)的反應(yīng)器；下前艙門(mén)設(shè)有光窗，光源支架安裝在與光窗相對(duì)應(yīng)的位置，用于安裝光催化反應(yīng)系統(tǒng)的光源；箱體上設(shè)有惰性氣體充填機(jī)構(gòu)，用于向密封層、操作層和下部空間充填惰性氣體?？梢詾樨?fù)壓條件下進(jìn)行的光催化反應(yīng)系統(tǒng)提供穩(wěn)定的反應(yīng)及測(cè)試環(huán)境，減少環(huán)境對(duì)光催化反應(yīng)及測(cè)試的影響。
【專(zhuān)利說(shuō)明】光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光催化【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]隨著能源危機(jī)和環(huán)境污染的日益加重，新型能源系統(tǒng)越來(lái)越多地受到各國(guó)的重視。采用光催化反應(yīng)系統(tǒng)制氫是獲取氫能的一種重要方法，對(duì)于光催化反應(yīng)系統(tǒng)的研究越來(lái)越受到人們的重視。光催化反應(yīng)系統(tǒng)一般包括氣體循環(huán)單元、檢測(cè)單元、分離單元、光源和反應(yīng)器，其中氣體循環(huán)單元、檢測(cè)單元、分離單元構(gòu)成了系統(tǒng)主體，且通過(guò)一個(gè)玻璃外殼安裝為一體，在殼體外部設(shè)有用于控制系統(tǒng)主體的系統(tǒng)閥組。
[0003]現(xiàn)有的光催化反應(yīng)系統(tǒng)一般是一種敞開(kāi)式的系統(tǒng),系統(tǒng)主體、反應(yīng)器及系統(tǒng)管路都暴露在大氣環(huán)境之下，而光催化反應(yīng)是一種在負(fù)壓狀態(tài)下進(jìn)行的反應(yīng)，負(fù)壓條件下，光催化反應(yīng)系統(tǒng)的閥門(mén)及系統(tǒng)管路連接處不可避免地存在泄漏問(wèn)題，環(huán)境中的氣體可能會(huì)滲入光催化反應(yīng)系統(tǒng)內(nèi)部；直接影響反應(yīng)測(cè)量結(jié)果，同時(shí)干擾光催化反應(yīng)進(jìn)程，從而影響整體實(shí)驗(yàn)的評(píng)價(jià)結(jié)果。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)使用高精密度加工的金屬閥以增加閥體氣密性，解決負(fù)壓條件下環(huán)境氣體滲入的方法，但只能在一定程度上減少氣體滲入，并不能完全杜絕環(huán)境氣體滲入，并且在使用成本上大大增加。由于玻璃閥氣密性要高于金屬閥，一些反應(yīng)系統(tǒng)將多通道金屬取樣閥更換為多通道玻璃取樣閥以增加氣密性。一般閥體通道越多，滲漏的機(jī)率越大，另有一些做法，將六通取樣閥改為四通取樣閥，以提高氣密性和降低工藝難度。反應(yīng)系統(tǒng)的反應(yīng)器、閥組單元及管路一般由玻璃加工而成，存在不確定性的玻璃管路砂眼破裂以及閥門(mén)磨口的缺陷，通過(guò)玻璃磨口連接的非一體式連接方式均存在漏氣缺陷。針對(duì)閥門(mén)接口和局部充氮保護(hù)已不能為系統(tǒng)提供良好的保護(hù)氛圍，而需要更為全面的、與光催化反應(yīng)特征相匹配的防護(hù)?，F(xiàn)有技術(shù)使用真空手套箱(氮?dú)獗Ｗo(hù)箱)將反應(yīng)系統(tǒng)密封，可以為系統(tǒng)提供保護(hù)氛圍，但由于系統(tǒng)在結(jié)構(gòu)及操作上的特殊性，一般的真空手套箱(氮?dú)獗Ｗo(hù)箱)與系統(tǒng)不能良好匹配以至于影響系統(tǒng)操作及影響反應(yīng)過(guò)程及結(jié)果，如系統(tǒng)光源的放置、系統(tǒng)各種管路與外部設(shè)施的連接、操作過(guò)程中的特殊性等。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005](一 )要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0006]本發(fā)明的目的是提供一種光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，該防護(hù)裝置可以為負(fù)壓條件下進(jìn)行的光催化反應(yīng)系統(tǒng)提供穩(wěn)定的反應(yīng)及測(cè)試環(huán)境，減少環(huán)境對(duì)光催化反應(yīng)及測(cè)試的影響。
[0007]( 二 )技術(shù)方案
[0008]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，包括箱體和光源支架，所述箱體包括箱體本體、上前艙門(mén)、下前艙門(mén)和后艙門(mén)，所述箱體本體具有上部空間和下部空間；所述上部空間分為密封層和操作層；所述密封層通過(guò)后艙門(mén)密封，用于安裝所述光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)主體；所述操作層通過(guò)上前艙門(mén)密封，用于安裝所述光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)閥組；所述下部空間通過(guò)下前艙門(mén)密封，用于安裝所述光催化反應(yīng)系統(tǒng)的反應(yīng)器；所述下前艙門(mén)設(shè)有光窗，所述光源支架安裝在與所述光窗相對(duì)應(yīng)的位置，用于安裝所述光催化反應(yīng)系統(tǒng)的光源；所述箱體上設(shè)有惰性氣體充填機(jī)構(gòu)，用于向所述密封層、操作層和下部空間充填惰性氣體。
[0009]其中，所述惰性氣體充填機(jī)構(gòu)包括與所述密封層連通的密封層進(jìn)氣閥、密封層出氣閥，與所述操作層連通的操作層進(jìn)氣閥、操作層出氣閥，與所述下部空間連通的下部空間進(jìn)氣閥、下部空間出氣閥。
[0010]其中，所述惰性氣體充填機(jī)構(gòu)還包括導(dǎo)氣管和氧氣傳感器，所述導(dǎo)氣管分別與所述密封層出氣閥、操作層出氣閥及下部空間出氣閥連接；所述氧氣傳感器與所述導(dǎo)氣管連接，用于檢測(cè)氣體中的氧氣含量。
[0011]其中，所述惰性氣體充填機(jī)構(gòu)還包括總氣體分配接頭，所述總氣體分配接頭為四通接頭，所述四通接頭的一個(gè)接口與外部供氣設(shè)備連接，其余三個(gè)接口分別與所述密封層進(jìn)氣閥、操作層進(jìn)氣閥及下部空間進(jìn)氣閥連接。
[0012]其中，所述箱體內(nèi)設(shè)有壓力檢測(cè)機(jī)構(gòu)，用于檢測(cè)所述箱體的內(nèi)部壓力。
[0013]其中，所述箱體設(shè)有抽真空閥，用于連接外部真空泵。
[0014]其中，所述箱體上設(shè)有脫氧器，所述脫氧器與所述密封層連接。
[0015]其中，所述壓力檢測(cè)機(jī)構(gòu)為箱體壓力表，所述箱體壓力表連接在下部空間進(jìn)氣閥上，用于檢測(cè)箱體內(nèi)部壓力。
[0016]其中，所述光源支架為可升降支架。
[0017]其中，所述箱體設(shè)有載氣進(jìn)氣閥和載氣出氣閥門(mén)，與所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)配合，用于與色譜儀連接。
[0018](三)有益效果
[0019]本發(fā)明提供的整個(gè)反應(yīng)系統(tǒng)置于防護(hù)裝置內(nèi)，光催化反應(yīng)系統(tǒng)處于隔離的惰性氣體氛圍中，其干擾氣體含量可低至IPPM乃至PPB級(jí)別，使得實(shí)驗(yàn)所獲得的結(jié)果誤差更小，有利于對(duì)催化劑效果水平的準(zhǔn)確評(píng)價(jià)，有利于科研工作的深入開(kāi)展。防護(hù)裝置采用抽真空或填充惰性氣體提供保護(hù)氛圍，裝置外部設(shè)置監(jiān)測(cè)儀表及傳感器，反應(yīng)及測(cè)試過(guò)程中，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)裝置內(nèi)部狀態(tài)，系統(tǒng)在防護(hù)裝置的保護(hù)下可大大降低氧氣的滲入率，最大程度上減少空氣滲入對(duì)微量光催化反應(yīng)的干擾及對(duì)結(jié)果測(cè)試的影響。該防護(hù)裝置可在填充氣氛時(shí)保持正壓，可以有效防止外裝置外部氣體滲入，同時(shí)也能阻止或降低反應(yīng)體系內(nèi)的氣體通過(guò)泄漏點(diǎn)向系統(tǒng)外逃逸。防護(hù)裝置可為光催化反應(yīng)系統(tǒng)玻璃部件提供更加全面的防護(hù)，有效降低玻璃部件的損壞概率，同時(shí)提升光催化反應(yīng)系統(tǒng)的使用安全性，杜絕系統(tǒng)局部爆裂、爆炸或是由于壓力過(guò)大造成閥芯噴出對(duì)操作人員的人身傷害事故。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1為本發(fā)明實(shí)施例的前視圖；
[0021]圖2為本發(fā)明實(shí)施例的后視圖。
[0022]圖中，1:箱體；2:光源支架；3:底板；101:箱體本體；102:上部空間；103:下部空間；104:后艙門(mén)；105:上前艙門(mén)；106:下前艙門(mén)；107:光窗；108:視窗；110:密封層；401:操作層出氣閥；402:導(dǎo)氣管；403:冷卻水進(jìn)水閥門(mén)；404:冷卻水出水閥門(mén)；405:密封層出氣閥；406:下部空間出氣閥；407:下部空間進(jìn)氣接口 ；408:密封層進(jìn)氣接口 ；409:操作層進(jìn)氣接口 ；410:恒溫進(jìn)水閥門(mén)；411:恒溫出水閥門(mén)；407密封層進(jìn)氣閥；501:總氣體分配接頭；502:密封層進(jìn)氣閥；503:操作層進(jìn)氣閥；504:下部空間進(jìn)氣閥；505:抽真空閥；506:載氣進(jìn)氣閥；507:載氣出氣閥。

【具體實(shí)施方式】
[0023]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。
[0024]如圖1和2所示，本發(fā)明的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，包括底板3、箱體I和光源支架2，箱體I和光源支架2均安裝在底板3上。箱體I包括箱體本體101、上前艙門(mén)105、下前艙門(mén)106和后艙門(mén)104。箱體本體101為一個(gè)矩形的框體。箱體本體101具有上部空間102和下部空間103。上部空間102分為后側(cè)部分的密封層110和前側(cè)部分的操作層(圖未示出)。上前艙門(mén)105安裝在上部空間102的前側(cè)，下前艙門(mén)106安裝在下部空間103的前側(cè)，后艙門(mén)104安裝在箱體本體101的后側(cè)。上前艙門(mén)105、下前艙門(mén)106和后艙門(mén)104均采用平開(kāi)的旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，門(mén)框上均設(shè)有密封條。密封層110通過(guò)后艙門(mén)104密封，用于安裝光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)主體7。操作層通過(guò)上前艙門(mén)105密封，用于安裝光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)閥組。下部空間103通過(guò)下前艙門(mén)106密封，用于安裝光催化反應(yīng)系統(tǒng)的反應(yīng)器。下前艙門(mén)106設(shè)有光窗107，光源支架2安裝在與光窗107相對(duì)應(yīng)的位置，用于安裝光催化反應(yīng)系統(tǒng)的光源8。優(yōu)選的，光源支架2采用可升降支架。將光源8安裝在可升降支架上，通過(guò)調(diào)節(jié)可升降支架的高度，以使光源8發(fā)出的光與反應(yīng)器的高度相適配。箱體I上設(shè)有惰性氣體充填機(jī)構(gòu)，用于向密封層110、操作層和下部空間103充入惰性氣體。
[0025]惰性氣體充填機(jī)構(gòu)包括總氣體分配接頭501、氧氣傳感器(圖未不出)、導(dǎo)氣管402、密封層進(jìn)氣閥502、密封層出氣閥405、操作層進(jìn)氣閥503、操作層出氣閥401、下部空間進(jìn)氣閥504和下部空間出氣閥406。總氣體分配接頭501、密封層進(jìn)氣閥502、操作層進(jìn)氣閥503、下部空間進(jìn)氣閥504設(shè)置在箱體本體101的一側(cè)外部，總氣體分配接頭501為四通接頭，四通接頭的一個(gè)接口與外部供氣設(shè)備連接，其余三個(gè)接口分別與密封層進(jìn)氣閥502、操作層進(jìn)氣閥503及下部空間進(jìn)氣閥504連接。密封層出氣閥405、操作層出氣閥401和下部空間出氣閥406設(shè)置在箱體本體101的另一側(cè)外部。密封層110上設(shè)有密封層進(jìn)氣接口408，密封層進(jìn)氣閥502通過(guò)管路與密封層進(jìn)氣接口 408連接，從而與密封層110連通；密封層出氣閥405的一端與密封層110連通，另一端與導(dǎo)氣管402連接。操作層設(shè)有操作層進(jìn)氣接口 409，操作層進(jìn)氣閥503通過(guò)管路與操作層進(jìn)氣接口 409連接，從而與操作層連通；操作層出氣閥401的一端與操作層連通，另一端與導(dǎo)氣管402連接。下部空間103設(shè)有下部空間進(jìn)氣接口 407，下部空間進(jìn)氣閥504通過(guò)管路與下部空間進(jìn)氣接口 407連接，從而與下部空間103連通；下部空間出氣閥406的一端與下部空間103連通，另一端與導(dǎo)氣管402連接。氧氣傳感器與導(dǎo)氣管402通過(guò)一個(gè)四通閥連接，用于檢測(cè)從導(dǎo)氣管402流出的氣體中的氧氣含量。
[0026]箱體I內(nèi)設(shè)有壓力檢測(cè)機(jī)構(gòu)(圖未示出)，用于檢測(cè)箱體I的內(nèi)部壓力。本實(shí)施例中的壓力檢測(cè)機(jī)構(gòu)為箱體氣壓表，箱體壓力表連接在下部空間進(jìn)氣閥504上，用于檢測(cè)箱體I的內(nèi)部壓力。另外，壓力檢測(cè)機(jī)構(gòu)也可以采用壓力傳感器，使用壓力傳感器檢測(cè)箱體內(nèi)的壓力，將壓力傳感器采集到的信號(hào)引到外部顯示器上，操作更加直觀。
[0027]箱體上還設(shè)有與反應(yīng)器連接的恒溫進(jìn)水閥門(mén)410和恒溫出水閥門(mén)411，恒溫循環(huán)水通過(guò)恒溫進(jìn)水閥門(mén)410進(jìn)入箱體I的下部空間103，與反應(yīng)器的水套進(jìn)水口連接，經(jīng)循環(huán)后通過(guò)恒溫出水閥門(mén)411流出箱體。箱體上還設(shè)有冷卻水進(jìn)水閥門(mén)403、冷卻水出水閥門(mén)404，光催化反應(yīng)系統(tǒng)的冷卻單元通過(guò)冷卻水進(jìn)水閥門(mén)403、冷卻水出水閥門(mén)404與外部供冷卻水的設(shè)備連接。密封層110和操作層之間具有透明部，透明部所對(duì)應(yīng)的是光催化反應(yīng)系統(tǒng)的氣壓表。上前艙門(mén)105設(shè)有觀察窗108,用于觀察光催化反應(yīng)系統(tǒng)的氣壓表的壓力。
[0028]進(jìn)一步的，箱體I設(shè)有抽真空閥505，用于連接外部真空泵，打開(kāi)抽真空閥505，連接一個(gè)真空泵,使用外部真空泵對(duì)箱體I內(nèi)部空間抽真空。
[0029]進(jìn)一步的，箱體I上設(shè)有脫氧器6，脫氧器6與密封層110連接。脫氧器采用再生式脫氧器，通過(guò)內(nèi)部填充的脫氧劑對(duì)光催化反應(yīng)系統(tǒng)內(nèi)部進(jìn)行脫氧，從而保證在充入惰性氣體后殘余的氧氣被脫氧器吸收，降低箱體內(nèi)的氧含量，使光催化反應(yīng)系統(tǒng)完全與空氣隔絕。
[0030]進(jìn)一步的，箱體I設(shè)有載氣進(jìn)氣閥506和載氣出氣閥門(mén)507，用于與色譜儀連接。載氣進(jìn)氣閥506的兩端分別與外部色譜儀及光催化反應(yīng)系統(tǒng)的進(jìn)氣口連接；載氣出氣閥門(mén)507的兩端分別與外部色譜儀及光催化反應(yīng)系統(tǒng)的取樣管連接。色譜儀的載氣從載氣進(jìn)氣閥506流進(jìn)光催化反應(yīng)系統(tǒng)的進(jìn)氣口，流經(jīng)取樣管，從載氣出氣閥門(mén)507流出，回到色譜儀，從而進(jìn)行取樣檢測(cè)分析。
[0031]在使用時(shí),將管路連接完成后,關(guān)閉上前艙門(mén)105、下前艙門(mén)106、后艙門(mén)104,檢查系統(tǒng)的密封性，按操作說(shuō)明調(diào)整系統(tǒng)閥組，外接真空泵工作，將系統(tǒng)各管路，各閥抽真空，通過(guò)視窗108觀察光催化反應(yīng)系統(tǒng)所帶的壓力表，由內(nèi)部壓力變化判斷光催化反應(yīng)系統(tǒng)的氣密性。箱體I氣密性檢查，向箱體I內(nèi)通入惰性氣體,惰性氣體通過(guò)總氣體分配接頭501將惰性氣體分為三路，一路經(jīng)操作層進(jìn)氣閥503通過(guò)管路與操作層進(jìn)氣接口 409連接，將惰性氣體引入操作層，操作層中的氣體從操作層出氣閥401流出；另一路經(jīng)密封層進(jìn)氣閥502通過(guò)管路與密封層進(jìn)氣接口 408連接，將惰性氣體引入密封層110，密封層110中的氣體從密封層出氣閥405流出；最后一路經(jīng)下部空間進(jìn)氣閥504通過(guò)管路與下部空間進(jìn)氣接口 407連接，將惰性氣體引入下部空間103，下部空間103中的氣體從下部空間出氣閥406流出。由各出氣閥流出的氣體匯集到導(dǎo)氣管402，并經(jīng)過(guò)氧氣傳感器后排出。
[0032]通入惰性氣體過(guò)程中，氧氣傳感器會(huì)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)流經(jīng)各區(qū)層空間的惰性氣體的氧氣含量，當(dāng)氧氣傳感器經(jīng)變送器顯示氧含量達(dá)到100?100ppm時(shí)，停止吹掃過(guò)程，關(guān)閉密封層進(jìn)氣閥502、操作層進(jìn)氣閥503及下部空間進(jìn)氣閥504，并調(diào)整箱體壓力表，測(cè)量箱體內(nèi)部壓力，調(diào)整進(jìn)氣壓力，使箱體內(nèi)維持微正壓，可以防止箱體外部氣體滲入，同時(shí)可以減緩光催化反應(yīng)系統(tǒng)內(nèi)部生成的氣體逃逸擴(kuò)散。
[0033]本發(fā)明的密封層用于密封光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)主體，通過(guò)操作層可對(duì)光催化反應(yīng)系統(tǒng)進(jìn)行操作，密封層連接有真空泵和惰性氣體充填機(jī)構(gòu)，為光催化反應(yīng)提供良好的測(cè)試環(huán)境，減少干擾，實(shí)驗(yàn)及測(cè)試結(jié)果更加穩(wěn)定可靠。
[0034]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，整個(gè)反應(yīng)系統(tǒng)置于防護(hù)裝置內(nèi)，光催化反應(yīng)系統(tǒng)處于隔離的真空氛圍中，其干擾氣體含量可低至IPPM乃至PPB級(jí)別，使得實(shí)驗(yàn)所獲得的結(jié)果誤差更小，有利于對(duì)催化劑效果水平的準(zhǔn)確評(píng)價(jià)，有利于科研工作的深入開(kāi)展。防護(hù)裝置采用抽真空或填充惰性氣體提供保護(hù)氛圍，裝置外部設(shè)置監(jiān)測(cè)儀表及傳感器，反應(yīng)及測(cè)試過(guò)程中，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)裝置內(nèi)部狀態(tài)，系統(tǒng)在防護(hù)裝置的保護(hù)下可大大降低氧氣的滲入率，最大程度上減少空氣滲入對(duì)微量光催化反應(yīng)的干擾及對(duì)結(jié)果測(cè)試的影響。該防護(hù)裝置可在填充氣氛時(shí)保持正壓，可以有效防止外裝置外部氣體滲入，同時(shí)也能阻止或降低反應(yīng)體系內(nèi)的氣體通過(guò)泄漏點(diǎn)向系統(tǒng)外逃逸。防護(hù)裝置可為光催化反應(yīng)系統(tǒng)玻璃部件提供更加全面的防護(hù)，有效降低玻璃部件的損壞概率，同時(shí)提升光催化反應(yīng)系統(tǒng)的使用安全性，杜絕系統(tǒng)局部爆裂、爆炸或是由于壓力過(guò)大造成閥芯噴出對(duì)操作人員的人身傷害事故。
[0035]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，包括箱體和光源支架，所述箱體包括箱體本體、上前艙門(mén)、下前艙門(mén)和后艙門(mén)，所述箱體本體具有上部空間和下部空間；所述上部空間分為密封層和操作層；所述密封層通過(guò)后艙門(mén)密封，用于安裝所述光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)主體；所述操作層通過(guò)上前艙門(mén)密封，用于安裝所述光催化反應(yīng)系統(tǒng)的系統(tǒng)閥組；所述下部空間通過(guò)下前艙門(mén)密封，用于安裝所述光催化反應(yīng)系統(tǒng)的反應(yīng)器；所述下前艙門(mén)設(shè)有光窗，所述光源支架安裝在與所述光窗相對(duì)應(yīng)的位置，用于安裝所述光催化反應(yīng)系統(tǒng)的光源；所述箱體上設(shè)有惰性氣體充填機(jī)構(gòu)，用于向所述密封層、操作層和下部空間充填惰性氣體。
2.如權(quán)利要求1所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述惰性氣體充填機(jī)構(gòu)包括與所述密封層連通的密封層進(jìn)氣閥、密封層出氣閥，與所述操作層連通的操作層進(jìn)氣閥、操作層出氣閥，與所述下部空間連通的下部空間進(jìn)氣閥、下部空間出氣閥。
3.如權(quán)利要求2所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述惰性氣體充填機(jī)構(gòu)還包括導(dǎo)氣管和氧氣傳感器，所述導(dǎo)氣管分別與所述密封層出氣閥、操作層出氣閥及下部空間出氣閥連接；所述氧氣傳感器與所述導(dǎo)氣管連接，用于檢測(cè)氣體中的氧氣含量。
4.如權(quán)利要求3所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述惰性氣體充填機(jī)構(gòu)還包括總氣體分配接頭，所述總氣體分配接頭為四通接頭，所述四通接頭的一個(gè)接口與外部供氣設(shè)備連接，其余三個(gè)接口分別與所述密封層進(jìn)氣閥、操作層進(jìn)氣閥及下部空間進(jìn)氣閥連接。
5.如權(quán)利要求1所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述箱體內(nèi)設(shè)有壓力檢測(cè)機(jī)構(gòu)，用于檢測(cè)所述箱體的內(nèi)部壓力。
6.如權(quán)利要求5所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述箱體設(shè)有抽真空閥，用于連接外部真空泵。
7.如權(quán)利要求6所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述箱體上設(shè)有脫氧器，所述脫氧器與所述密封層連接。
8.如權(quán)利要求5所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述壓力檢測(cè)機(jī)構(gòu)為箱體壓力表，所述箱體壓力表連接在下部空間進(jìn)氣閥上，用于檢測(cè)箱體內(nèi)部壓力。
9.如權(quán)利要求1所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述光源支架為可升降支架。
10.如權(quán)利要求1所述的光催化反應(yīng)系統(tǒng)的防護(hù)裝置，其特征在于，所述箱體設(shè)有載氣進(jìn)氣閥和載氣出氣閥門(mén)，用于與色譜儀連接。
【文檔編號(hào)】B01J19/12GK104162396SQ201410361314
【公開(kāi)日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2014年7月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月25日
【發(fā)明者】劉曉霞, 劉忠寶, 劉彬, 陳磊, 李陣 申請(qǐng)人:北京泊菲萊科技有限公司