一種立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于粉磨技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]立式輥磨簡(jiǎn)稱立磨，其粉磨原理是料層粉磨，即通過(guò)顆粒與顆粒之間相互擠壓來(lái)實(shí)現(xiàn)物料的粉磨，粉磨過(guò)程可控性好，粉磨效率高。立式輥磨目前采用的粉磨結(jié)構(gòu)為:新喂料及選粉機(jī)回料在重力作用下由料倉(cāng)混合喂入磨盤(pán)中部，磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)物料轉(zhuǎn)動(dòng)，物料在離心力的作用下由磨盤(pán)中部向磨盤(pán)邊緣運(yùn)動(dòng)，當(dāng)物料運(yùn)動(dòng)至磨輥下方時(shí)，在擋料圈和磨輥壓力的共同作用下，磨輥擠壓物料(料層)，物料被粉磨，粉磨后的物料在離心力的作用下越過(guò)擋料圈，離開(kāi)磨盤(pán)，在重力作用下落入風(fēng)環(huán)，隨后被風(fēng)環(huán)內(nèi)向上的高速氣流帶入磨機(jī)上部的選粉機(jī)，合格成品被選粉機(jī)選走，不合格的大顆粒經(jīng)選粉機(jī)的回料口進(jìn)入料倉(cāng)，與新喂料混合后重回磨盤(pán)繼續(xù)粉磨，直至粉磨成合格粒度要求的成品。
[0003]料層粉磨確保高效的前提是:料層穩(wěn)定。立式輥磨粉磨單元現(xiàn)有結(jié)構(gòu)在粉磨水泥生料、礦渣等料層穩(wěn)定性好的物料時(shí)，粉磨效率高，但當(dāng)粉磨水泥，尤其是粉磨高硅(熟料配比多85% )和純硅水泥時(shí)，立磨暴露出振動(dòng)大、系統(tǒng)電耗高、主機(jī)電流低等問(wèn)題，其主要原因是:粉磨高硅或純硅水泥時(shí)，因入磨物料易磨性變差，盤(pán)上料中半成品顆粒(45?80 μm)含量增加，料層的流動(dòng)性變好、失穩(wěn)，料層粉磨的前提喪失。因此要解決粉磨高硅或純硅水泥時(shí)立磨振動(dòng)大、產(chǎn)量低、電耗高等問(wèn)題，關(guān)鍵在于解決水泥半成品的粉磨效率問(wèn)題。
[0004]針對(duì)立式輥磨粉磨高硅或純硅水泥時(shí)暴露出的振動(dòng)大、電耗高等問(wèn)題，國(guó)際上普遍采用的做法是:采用磨內(nèi)噴水的措施來(lái)緩解，但磨內(nèi)噴水對(duì)水泥強(qiáng)度等性能指標(biāo)有不利影響，因此研究不噴水條件下立式輥磨粉磨高硅或純硅水泥技術(shù)十分必要。
[0005]傳統(tǒng)的立式輥磨采用混合粉磨結(jié)構(gòu)，選粉機(jī)回料同新喂料先于磨盤(pán)上方喂料倉(cāng)中混合后再喂入磨盤(pán)上方，這樣會(huì)導(dǎo)致磨盤(pán)上新喂料層在被磨輥粉磨之前已夾雜大量細(xì)粉，料層的穩(wěn)定性變差，粉磨效率降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題而提供一種立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)，采用該結(jié)構(gòu)，立磨在磨內(nèi)不噴水的條件下，能夠提高運(yùn)行的穩(wěn)定性，提高粉磨效率、改善產(chǎn)品質(zhì)量、降低電耗。
[0007]本實(shí)用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題所采取的技術(shù)方案是:一種立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)，所述立式輥磨設(shè)有均勻分布的至少2個(gè)粉磨輥和I個(gè)磨盤(pán)，在所述磨盤(pán)上方設(shè)置與其固接的輔助磨盤(pán)，在所述輔助磨盤(pán)上設(shè)有均勻分布的至少2個(gè)研磨輥，所述輔助磨盤(pán)上面的區(qū)域形成研磨區(qū)；所述研磨區(qū)與回料管的出口相對(duì)，所述回料管的進(jìn)口與選粉機(jī)的回料口連接，所述回料管的數(shù)量與所述研磨輥的數(shù)量相同，所有所述回料管均勻布置，每個(gè)所述研磨輥的前方設(shè)置一根所述回料管。
[0008]所有所述粉磨輥設(shè)有一套加壓系統(tǒng)I，所有所述研磨輥設(shè)有一套加壓系統(tǒng)II。
[0009]在每個(gè)所述研磨輥的前方30°?45°處設(shè)置一根所述回料管。
[0010]所述磨盤(pán)中部采用錐形結(jié)構(gòu)與粉磨區(qū)相連。
[0011]本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:通過(guò)采用在磨盤(pán)上方設(shè)置與其固接的輔助磨盤(pán)，在輔助磨盤(pán)上設(shè)有研磨輥的結(jié)構(gòu)，使輔助磨盤(pán)上面的區(qū)域成為研磨區(qū)，通過(guò)采用在選粉機(jī)的回料口連接回料管，并使回料管的出口與研磨區(qū)相對(duì)的結(jié)構(gòu)，將制約立式輥磨料層穩(wěn)定的較細(xì)的從選粉機(jī)返回的二級(jí)物料從新喂料料層中分離出來(lái)，喂入研磨區(qū)集中研磨，一方面能夠確保二級(jí)物料的研磨有比較高的效率，另一方面能夠改善磨盤(pán)上新喂料料層的穩(wěn)定性，提高新喂料的粉磨效率。綜上所述，采用該結(jié)構(gòu)，立式輥磨在磨內(nèi)不噴水的條件下，能夠提尚運(yùn)彳丁的穩(wěn)定性，提尚粉磨效率、改善廣品質(zhì)量、降低電耗。
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2是圖1的俯視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]為能進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的
【發(fā)明內(nèi)容】
、特點(diǎn)及功效，茲例舉以下實(shí)施例，并配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如下:
[0015]請(qǐng)參見(jiàn)圖1?圖2，一種立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)，所述立式輥磨設(shè)有均勻分布的至少2個(gè)粉磨輥I和I個(gè)磨盤(pán)2，在所述磨盤(pán)2上方設(shè)置與其固接的輔助磨盤(pán)6，在所述輔助磨盤(pán)6上設(shè)有均勻分布的至少2個(gè)研磨輥7，所述輔助磨盤(pán)6上面的區(qū)域形成研磨區(qū)；所述研磨區(qū)與回料管4的出口相對(duì)，所述回料管4的進(jìn)口與選粉機(jī)的回料口連接，所述回料管4的數(shù)量與所述研磨輥7的數(shù)量相同，所有所述回料管4均勻布置，每個(gè)所述研磨輥7的前方設(shè)置一根所述回料管4。
[0016]上述立式輥磨采用雙層磨盤(pán)結(jié)構(gòu)，由同一驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)。粉磨輥I和磨盤(pán)2主要承擔(dān)對(duì)一級(jí)新喂料的破碎和研磨以及成品顆粒的修形，一級(jí)新喂料由料倉(cāng)3喂入；所述輔助磨盤(pán)6和研磨輥7承擔(dān)二級(jí)物料的集中研磨。每個(gè)所述研磨輥7的前方設(shè)置I根所述回料管4，能夠?qū)崿F(xiàn)多點(diǎn)喂料集中研磨。上述回料管4最好布置在研磨輥7的前方30°?45°處，可以縮短二級(jí)物料的空行程。由選粉機(jī)返回的二級(jí)物料由回料管4從每個(gè)研磨輥7的前方處喂入所述輔助磨盤(pán)6，研磨后的物料在離開(kāi)輔助磨盤(pán)6下落過(guò)程中被磨盤(pán)2上方的向上氣流帶入選粉機(jī)，完成一次粉磨循環(huán)。施加在所有粉磨輥I上的壓力Fl由加壓系統(tǒng)I提供，施加在所有研磨輥7上的壓力F2由加壓系統(tǒng)II提供，粉磨輥I和研磨輥7各自設(shè)置獨(dú)立的加壓系統(tǒng)進(jìn)行加壓，可方便地實(shí)現(xiàn)研磨強(qiáng)度的靈活調(diào)整。在本實(shí)施例中，回料管4布置在研磨輥的前方30°處。磨盤(pán)中部采用錐形結(jié)構(gòu)與粉磨區(qū)相連，以加快物料向粉磨區(qū)運(yùn)動(dòng)的速度，提高粉磨效率。
[0017]本實(shí)用新型來(lái)源于水泥立式輥磨，但不限于水泥立式輥磨，可在水泥生料、礦渣、煤、石油焦、超細(xì)粉磨等立式輥磨中推廣應(yīng)用。
[0018]盡管上面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行了描述，但是本實(shí)用新型并不局限于上述的【具體實(shí)施方式】，上述的【具體實(shí)施方式】?jī)H僅是示意性的，并不是限制性的，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本實(shí)用新型的啟示下，在不脫離本實(shí)用新型宗旨和權(quán)利要求所保護(hù)的范圍情況下，還可以作出很多形式，這些均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)，所述立式輥磨設(shè)有均勻分布的至少2個(gè)粉磨輥和I個(gè)磨盤(pán)，其特征在于，在所述磨盤(pán)上方設(shè)置與其固接的輔助磨盤(pán)，在所述輔助磨盤(pán)上設(shè)有均勻分布的至少2個(gè)研磨輥，所述輔助磨盤(pán)上面的區(qū)域形成研磨區(qū)；所述研磨區(qū)與回料管的出口相對(duì)，所述回料管的進(jìn)口與選粉機(jī)的回料口連接，所述回料管的數(shù)量與所述研磨輥的數(shù)量相同，所有所述回料管均勻布置，每個(gè)所述研磨輥的前方設(shè)置一根所述回料管。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)，其特征在于，所有所述粉磨輥設(shè)有一套加壓系統(tǒng)I，所有所述研磨輥設(shè)有一套加壓系統(tǒng)II。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)，其特征在于，在每個(gè)所述研磨輥的前方30°?45°處設(shè)置一根所述回料管。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述磨盤(pán)中部采用錐形結(jié)構(gòu)與粉磨區(qū)相連。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種立式輥磨的雙層磨盤(pán)分級(jí)粉磨結(jié)構(gòu)，所述立式輥磨設(shè)有均布的至少2個(gè)粉磨輥和1個(gè)磨盤(pán)，在所述磨盤(pán)上方設(shè)置與其固接的輔助磨盤(pán)，在所述輔助磨盤(pán)上設(shè)有均布的至少2個(gè)研磨輥，所述輔助磨盤(pán)上面的區(qū)域形成研磨區(qū)；所述研磨區(qū)與回料管的出口相對(duì)，所述回料管的進(jìn)口與選粉機(jī)的回料口連接，所述回料管的數(shù)量與所述研磨輥的數(shù)量相同，所有所述回料管均勻布置，每個(gè)所述研磨輥的前方設(shè)置一根所述回料管。本實(shí)用新型將制約立式輥磨料層穩(wěn)定的較細(xì)的從選粉機(jī)返回的二級(jí)物料從新喂料料層中分離出來(lái)，喂入研磨區(qū)集中研磨，一方面能夠確保二級(jí)物料的研磨有比較高的效率，另一方面能夠改善磨盤(pán)上新喂料料層的穩(wěn)定性，提高新喂料的粉磨效率。
【IPC分類】B02C15/00
【公開(kāi)號(hào)】CN204865995
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520397076
【發(fā)明人】豆海建, 王秀龍, 王維莉
【申請(qǐng)人】天津水泥工業(yè)設(shè)計(jì)研究院有限公司
【公開(kāi)日】2015年12月16日
【申請(qǐng)日】2015年6月10日