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用于清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)構(gòu)件的干式去垢劑的制作方法

文檔序號(hào):11226325閱讀:715來源:國知局
用于清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)構(gòu)件的干式去垢劑的制造方法與工藝

本主題大體涉及燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī),且更具體而言,本主題涉及構(gòu)造成在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)構(gòu)件的干式去垢劑。



背景技術(shù):

燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)大體包括處于連續(xù)流順序的壓縮器區(qū)段、燃燒區(qū)段、渦輪區(qū)段和排氣區(qū)段。在運(yùn)行中,空氣進(jìn)入壓縮器區(qū)段的入口,在這里,一個(gè)或多個(gè)軸向或離心壓縮器逐漸壓縮空氣,直到其到達(dá)燃燒區(qū)段。燃料在燃燒區(qū)段內(nèi)與壓縮空氣混合且燃燒,以提供燃燒氣體。燃燒氣體從燃燒區(qū)段被引導(dǎo)通過限定在渦輪區(qū)段內(nèi)的熱氣體路徑且然后經(jīng)由排氣區(qū)段從渦輪區(qū)段排出。

在特定構(gòu)造中,渦輪區(qū)段包括處于連續(xù)流順序的高壓(hp)渦輪和低壓(lp)渦輪。hp渦輪和lp渦輪各自包括多個(gè)可旋轉(zhuǎn)渦輪構(gòu)件諸如渦輪轉(zhuǎn)子葉片、轉(zhuǎn)子盤和固持件,以及多個(gè)靜態(tài)渦輪構(gòu)件諸如定子導(dǎo)葉或噴嘴、渦輪護(hù)罩和發(fā)動(dòng)機(jī)框架??尚D(zhuǎn)和靜態(tài)渦輪構(gòu)件至少部分地限定通過渦輪區(qū)段的熱氣體路徑。隨著燃燒氣體流過熱氣體路徑,熱能從燃燒氣體傳遞到可旋轉(zhuǎn)和靜態(tài)渦輪構(gòu)件。

在運(yùn)行期間,環(huán)境微粒積聚在發(fā)動(dòng)機(jī)構(gòu)件上。這種積聚可導(dǎo)致構(gòu)件的冷卻效果降低和/或與發(fā)動(dòng)機(jī)構(gòu)件的金屬和/或涂層的腐蝕性反應(yīng)。因而,微粒累積可導(dǎo)致過早的損壞和/或減少的發(fā)動(dòng)機(jī)壽命。

因此,本公開涉及解決了前面提到的問題的清潔去垢劑和其使用方法。更具體而言,本公開涉及具有特別可用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)構(gòu)件的不同大小的磨蝕性去垢劑顆粒的干式去垢劑。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

在以下描述中部分地闡述本發(fā)明的各方面和優(yōu)點(diǎn),或者根據(jù)該描述,本發(fā)明的各方面和優(yōu)點(diǎn)可為顯而易見的,或者可通過實(shí)踐本發(fā)明來學(xué)習(xí)本發(fā)明的各方面和優(yōu)點(diǎn)。

在一個(gè)方面,本公開涉及一種用于在原地(例如在運(yùn)行中)清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法。方法包括將干式去垢劑噴射進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)。干式去垢劑包括具有不同的顆粒大小的多個(gè)顆粒。更具體而言,多個(gè)去垢劑顆粒包括具有在第一微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第一組顆粒和具有在第二微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第二組顆粒。進(jìn)一步,第二微米范圍的中值或均值大于第一微米范圍的中值。另外,方法包括使干式去垢劑循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的至少一部分,以便清潔其一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。

在另一個(gè)方面,本公開涉及一種用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的干式去垢劑。干式去垢劑包括具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒。更具體而言,多個(gè)去垢劑顆??砂ň哂性诘谝晃⒚追秶鷥?nèi)的中值顆粒直徑的第一組顆粒和具有在第二微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第二組顆粒。進(jìn)一步,第二微米范圍的中值大于第一微米范圍的中值。因而,第一組顆粒構(gòu)造成沉積在一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的表面上。另外,第二組顆粒構(gòu)造成以磨蝕的方式清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。應(yīng)當(dāng)理解,干式去垢劑可進(jìn)一步包括本文描述的任何額外的特征。

在又一個(gè)方面,本公開涉及一種用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法。方法包括將干式去垢劑提供到燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)中。干式去垢劑包括具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒。多個(gè)去垢劑顆粒包括具有等于或小于10微米的中值顆粒直徑的第一組顆粒和具有等于或大于40微米的中值顆粒直徑的第二組顆粒。因而,方法還包括使第一組顆粒循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)冷卻通路和使第二組顆粒循環(huán)穿過構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)表面。

技術(shù)方案1.一種用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法,所述方法包括:

將干式去垢劑噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī),所述干式去垢劑包括具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒,所述多個(gè)去垢劑顆粒包括具有在第一微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第一組顆粒和具有在第二微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第二組顆粒,其中,所述第二微米范圍的中值大于所述第一微米范圍的中值;以及

使所述干式去垢劑循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的至少一部分以便清潔其一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。

技術(shù)方案2.根據(jù)技術(shù)方案1所述的方法,其特征在于,所述第一組顆粒包括等于或小于20微米的中值顆粒直徑,且其中,所述第二組顆粒包括等于或大于20微米的中值顆粒直徑。

技術(shù)方案3.根據(jù)技術(shù)方案2所述的方法,其特征在于,所述第一組顆粒包括等于或小于10微米的中值顆粒直徑,且其中,所述第二組顆粒包括等于或大于40微米的中值顆粒直徑。

技術(shù)方案4.根據(jù)技術(shù)方案1所述的方法,其特征在于,將所述干式去垢劑噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)進(jìn)一步包括將所述干式去垢劑噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的入口或所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)端口中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案5.根據(jù)技術(shù)方案4所述的方法,其特征在于,使所述干式去垢劑循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的至少一部分進(jìn)一步包括在噴射所述干式去垢劑期間運(yùn)行所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī),以便提供使所述顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的空氣流。

技術(shù)方案6.根據(jù)技術(shù)方案4所述的方法,其特征在于,使所述干式去垢劑循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的至少一部分進(jìn)一步包括使用一個(gè)或多個(gè)外部壓力源來提供使所述顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的空氣流。

技術(shù)方案7.根據(jù)技術(shù)方案1所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在使所述干式去垢劑循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的至少一部分之后,經(jīng)由流體激活所述干式去垢劑,其中,所述流體包括水或蒸汽中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案8.根據(jù)技術(shù)方案6所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在激活之后,沖洗掉所述干式去垢劑。

技術(shù)方案9.根據(jù)技術(shù)方案1所述的方法,其特征在于,所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件包括所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的壓縮器、高壓渦輪、低壓渦輪、燃燒器、燃燒室、噴嘴、一個(gè)或多個(gè)葉片或?qū)~、增壓器或殼中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案10.根據(jù)技術(shù)方案1所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在將所述干式去垢劑噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)之前,將流體噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī),以便濕潤所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)表面。

技術(shù)方案11.一種用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的干式清潔去垢劑,所述干式清潔去垢劑包括:

具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒,所述多個(gè)去垢劑顆粒包括:

第一組顆粒,其具有在第一微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑,所述第一組顆粒構(gòu)造成沉積在所述一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的表面上,以及

第二組顆粒,其具有在第二微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑,所述第二微米范圍的中值大于所述第一微米范圍的中值,所述第二組顆粒構(gòu)造成以磨蝕的方式清潔所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。

技術(shù)方案12.根據(jù)技術(shù)方案11所述的清潔去垢劑,其特征在于,所述第一組顆粒包括等于或小于10微米的中值顆粒直徑,且其中,所述第二組顆粒包括等于或大于40微米的中值顆粒直徑。

技術(shù)方案13.根據(jù)技術(shù)方案11所述的清潔去垢劑,其特征在于,所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件包括所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的壓縮器、高壓渦輪、低壓渦輪、燃燒室、噴嘴、一個(gè)或多個(gè)葉片、增壓器或殼中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案14.一種用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法,所述方法包括:

將干式去垢劑提供到所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)中,所述干式去垢劑包括具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒,所述多個(gè)去垢劑顆粒包括第一組顆粒和第二組顆粒,所述第一組顆粒包括等于或小于10微米的中值顆粒直徑而所述第二組顆粒包括等于或大于40微米的中值顆粒直徑;

使所述第一組顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)冷卻通路,以及

使所述第二組顆粒循環(huán)穿過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。

技術(shù)方案15.根據(jù)技術(shù)方案14所述的方法,其特征在于,將所述干式去垢劑提供到所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)中進(jìn)一步包括將所述干式去垢劑噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的入口或所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)端口中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案16.根據(jù)技術(shù)方案15所述的方法,其特征在于,使所述第一組顆粒和所述第二組顆粒循環(huán)進(jìn)一步包括在噴射所述干式去垢劑期間運(yùn)行所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī),以便提供使所述顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的空氣流。

技術(shù)方案17.根據(jù)技術(shù)方案15所述的方法,其特征在于,使所述第一組顆粒和所述第二組顆粒循環(huán)進(jìn)一步包括使用一個(gè)或多個(gè)外部壓力源來提供使所述顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的空氣流。

技術(shù)方案18.根據(jù)技術(shù)方案14所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在使所述第一和第二組顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)之后,經(jīng)由流體激活所述干式去垢劑。

技術(shù)方案19.根據(jù)技術(shù)方案18所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在激活之后,沖洗掉所述干式去垢劑。

技術(shù)方案20.根據(jù)技術(shù)方案15所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在將所述干式去垢劑噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)之前,將流體噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī),以便濕潤所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)表面。

技術(shù)方案21.一種用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法,所述方法包括:

將干式去垢劑(84)噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10),所述干式去垢劑(84)包括具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒,所述多個(gè)去垢劑顆粒包括具有在第一微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第一組顆粒和具有在第二微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第二組顆粒,其中,所述第二微米范圍的中值大于所述第一微米范圍的中值;以及

使所述干式去垢劑(84)循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的至少一部分,以便清潔其一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。

技術(shù)方案22.根據(jù)技術(shù)方案21所述的方法,其特征在于,所述第一組顆粒包括等于或小于20微米的中值顆粒直徑,且其中,所述第二組顆粒包括等于或大于20微米的中值顆粒直徑。

技術(shù)方案23.根據(jù)技術(shù)方案22所述的方法,其特征在于,所述第一組顆粒包括等于或小于10微米的中值顆粒直徑,且其中,所述第二組顆粒包括等于或大于40微米的中值顆粒直徑。

技術(shù)方案24.根據(jù)技術(shù)方案21所述的方法,其特征在于,將所述干式去垢劑(84)噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)進(jìn)一步包括將所述干式去垢劑(84)噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的入口或所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)端口中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案25.根據(jù)技術(shù)方案24所述的方法,其特征在于,使所述干式去垢劑(84)循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的至少一部分進(jìn)一步包括在噴射所述干式去垢劑(84)期間運(yùn)行所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10),以便提供使所述顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的空氣流。

技術(shù)方案26.根據(jù)技術(shù)方案24所述的方法,其特征在于,使所述干式去垢劑(84)循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的至少一部分進(jìn)一步包括使用一個(gè)或多個(gè)外部壓力源來提供使所述顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的空氣流。

技術(shù)方案27.根據(jù)技術(shù)方案21所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在使所述干式去垢劑(84)循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的至少一部分之后,經(jīng)由流體激活所述干式去垢劑(84),其中,所述流體包括水或蒸汽中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案28.根據(jù)技術(shù)方案27所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在激活之后沖洗掉所述干式去垢劑(84)。

技術(shù)方案29.根據(jù)技術(shù)方案21所述的方法,其特征在于,所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件包括所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的壓縮器(24)、高壓渦輪(28)、低壓渦輪(32)、燃燒器、燃燒室(62)、噴嘴、一個(gè)或多個(gè)葉片或?qū)~、增壓器(22)或殼中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案30.根據(jù)技術(shù)方案21所述的方法,其特征在于,進(jìn)一步包括在將所述干式去垢劑(84)噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)之前,將流體噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10),以便濕潤所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)表面。

技術(shù)方案31.一種用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的干式清潔去垢劑(84),所述干式清潔去垢劑(84)包括:

多個(gè)去垢劑顆粒,其具有不同的顆粒大小,所述多個(gè)去垢劑顆粒包括:

第一組顆粒,其具有在第一微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑,所述第一組顆粒構(gòu)造成沉積在所述一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的表面上,以及

第二組顆粒,其具有在第二微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑,所述第二微米范圍的中值大于所述第一微米范圍的中值,所述第二組顆粒構(gòu)造成以磨蝕的方式清潔所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。

技術(shù)方案32.根據(jù)技術(shù)方案31所述的清潔去垢劑,其特征在于,所述第一組顆粒包括等于或小于10微米的中值顆粒直徑,且其中,所述第二組顆粒包括等于或大于40微米的中值顆粒直徑。

技術(shù)方案33.根據(jù)技術(shù)方案31所述的清潔去垢劑,其特征在于,所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件包括所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的壓縮器、高壓渦輪、低壓渦輪、燃燒室、噴嘴、一個(gè)或多個(gè)葉片、增壓器或殼中的至少一個(gè)。

技術(shù)方案34.一種用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法,所述方法包括:

將干式去垢劑(84)提供到所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)中,所述干式去垢劑(84)包括具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒,所述多個(gè)去垢劑顆粒包括第一組顆粒和第二組顆粒,所述第一組顆粒包括等于或小于10微米的中值顆粒直徑而所述第二組顆粒包括等于或大于40微米的中值顆粒直徑;

使所述第一組顆粒循環(huán)通過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)冷卻通路,以及

使所述第二組顆粒循環(huán)穿過所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。

技術(shù)方案35.根據(jù)技術(shù)方案34所述的方法,其特征在于,將所述干式去垢劑(84)提供到所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)中進(jìn)一步包括將所述干式去垢劑(84)噴射進(jìn)入所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的入口或所述燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(10)的一個(gè)或多個(gè)端口中的至少一個(gè)。

參照以下描述和所附權(quán)利要求,本發(fā)明的這些和其它特征、方面和優(yōu)點(diǎn)將變得更好理解。附圖結(jié)合在本說明書中且構(gòu)成說明書的一部分,附圖示出本發(fā)明的實(shí)施例,并且和描述共同用來說明本發(fā)明的原理。

附圖說明

針對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員,在說明書中闡述本發(fā)明的完整和能夠?qū)嵤┑墓_,包括其最佳模式,說明書參照了附圖,其中:

圖1示出根據(jù)本公開的燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)實(shí)施例的示例性橫截面圖;

圖2示出根據(jù)本公開的用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法的一個(gè)實(shí)施例的流程圖;

圖3示出根據(jù)本公開的燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)實(shí)施例的局部橫截面圖,特別示出干式去垢劑在多個(gè)位置處噴射進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī);以及

圖4示出根據(jù)本公開的用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法的另一個(gè)實(shí)施例的流程圖。

部件列表:

10燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)

12中心線軸線

14核心發(fā)動(dòng)機(jī)

16風(fēng)扇區(qū)段

18外殼

20環(huán)形入口

22增壓器

24壓縮器

26燃燒器

28第一渦輪

30第一驅(qū)動(dòng)軸

32第二渦輪

34第二驅(qū)動(dòng)軸

36排氣噴嘴

38風(fēng)扇轉(zhuǎn)子

40風(fēng)扇殼

42導(dǎo)葉

44轉(zhuǎn)子葉片

46下游區(qū)段

48空氣流導(dǎo)管

50箭頭

52入口

54箭頭

56箭頭

58箭頭

60燃燒產(chǎn)物

62燃燒室

64入口

66出口

68燃料噴嘴末梢組件

69排出出口

70燃料分配器末梢

72第一級(jí)渦輪噴嘴

74噴嘴導(dǎo)葉

80燃料噴嘴

82端口

84清潔去垢劑

100方法

102方法步驟

104方法步驟

200方法

202方法步驟

204方法步驟

206方法步驟。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在將詳細(xì)參照本發(fā)明的實(shí)施例,在附圖中示出實(shí)施例的一個(gè)或多個(gè)示例。以闡述本發(fā)明,而非限制本發(fā)明的方式提供各個(gè)示例。實(shí)際上,對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員將顯而易見的是,在本發(fā)明中可作出修改和變型,而不偏移本發(fā)明的范圍或精神。例如,作為一個(gè)實(shí)施例的一部分示出或描述的特征可用于另一個(gè)實(shí)施例上,以產(chǎn)生又一個(gè)實(shí)施例。因而,意圖的是,本發(fā)明覆蓋落在所附權(quán)利要求和其等效方案的范圍內(nèi)的這種修改和變型。

如本文所用,用語“第一”、“第二”和“第三”可互換使用,以區(qū)分一個(gè)構(gòu)件與另一個(gè)構(gòu)件,而不意于表示單獨(dú)的構(gòu)件的位置或重要性。

用語“上游”和“下游”指的是相對(duì)于流體路徑中的流體流的相對(duì)方向。例如,“上游”表示流體流出的方向,而“下游”則表示流體流到的方向。

大體,本公開涉及特別可用于在原地或在運(yùn)行中清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)構(gòu)件的干式去垢劑。干式去垢劑由具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒形成。更具體而言,多個(gè)去垢劑顆??砂ň哂性诘谝晃⒚追秶鷥?nèi)的中值顆粒直徑的第一組顆粒和具有在第二微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第二組顆粒。進(jìn)一步,第二微米范圍的中值或均值可大于第一微米范圍的中值。例如,第一組顆粒的中值顆粒直徑可等于或小于10微米,而第二組顆粒的中值顆粒直徑可等于或大于40微米。因而,方法包括將干式去垢劑噴射進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī),例如通過其入口或端口。另外,方法包括使干式去垢劑循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的至少一部分,以便清潔其一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。因此,不同的顆粒大小構(gòu)造成清潔渦輪構(gòu)件的不同的表面。

本公開提供在現(xiàn)有技術(shù)中不存在的多個(gè)優(yōu)點(diǎn)。例如,根據(jù)本公開的燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)可在運(yùn)行中、在原地和/或在場外清潔。進(jìn)一步,本公開的清潔方法同時(shí)提供燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)的冷卻通路中的微粒沉積的機(jī)械和化學(xué)移除。另外,本公開的系統(tǒng)和方法改進(jìn)清潔效果,且對(duì)發(fā)動(dòng)機(jī)運(yùn)行時(shí)間耐用性有顯著意義。

現(xiàn)在參照附圖,圖1示出根據(jù)本公開的燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10(高旁通類型)的一個(gè)實(shí)施例的示例性橫截面圖。如顯示,燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10具有通過其中的軸向縱向中心線軸線12,以用于參照目的。進(jìn)一步,如顯示,燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10優(yōu)選地包括大體以標(biāo)號(hào)14表示的核心燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)和定位在其上游的風(fēng)扇區(qū)段16。核心發(fā)動(dòng)機(jī)14典型地包括大體管狀外殼18,其限定環(huán)形入口20。外殼18進(jìn)一步包圍和支承增壓器22,以將進(jìn)入核心發(fā)動(dòng)機(jī)14的空氣的壓力提高到第一壓力水平。高壓多級(jí)軸向流壓縮器24接收來自增壓器22的加壓空氣且進(jìn)一步提高空氣的壓力。加壓空氣流到燃燒器26,在這里,燃料噴射進(jìn)入加壓空氣流且點(diǎn)燃,以提高加壓空氣的溫度和能量水平。高能燃燒產(chǎn)物從燃燒器26流到第一(高壓)渦輪28,以通過第一(高壓)驅(qū)動(dòng)軸30驅(qū)動(dòng)高壓壓縮器24,且然后流到第二(低壓)渦輪32,以通過第二(低壓)驅(qū)動(dòng)軸34驅(qū)動(dòng)增壓器22和風(fēng)扇區(qū)段16,第二(低壓)驅(qū)動(dòng)軸34與第一驅(qū)動(dòng)軸30同軸。在驅(qū)動(dòng)渦輪28和32中的各個(gè)之后,燃燒產(chǎn)物通過排氣噴嘴36離開核心發(fā)動(dòng)機(jī)14,以提供發(fā)動(dòng)機(jī)10的噴氣推力的至少一部分。

風(fēng)扇區(qū)段16包括可旋轉(zhuǎn)的軸向流風(fēng)扇轉(zhuǎn)子38,其被環(huán)形風(fēng)扇殼40包圍。將理解,風(fēng)扇殼40從核心發(fā)動(dòng)機(jī)14由多個(gè)基本沿徑向延伸的沿周向間隔開的出口導(dǎo)葉42支承。照這樣,風(fēng)扇殼40包圍風(fēng)扇轉(zhuǎn)子38和風(fēng)扇轉(zhuǎn)子葉片44。風(fēng)扇殼40的下游區(qū)段46延伸經(jīng)過核心發(fā)動(dòng)機(jī)14的外部部分,以限定輔助或旁通空氣流導(dǎo)管48,其提供額外的噴氣推力。

從流的觀點(diǎn)看,將理解,由箭頭50表示的初始空氣流通過風(fēng)扇殼40的入口52進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10??諝饬鱾魉屯ㄟ^風(fēng)扇葉片44和分成移動(dòng)通過導(dǎo)管48的第一空氣流(由箭頭54表示)和進(jìn)入增壓器22的第二空氣流(由箭頭56表示)。

第二壓縮空氣流56的壓力提高且進(jìn)入高壓力壓縮器24,這由箭頭58表示。在燃燒器26中與燃料混合和燃燒之后,燃燒產(chǎn)物60離開燃燒器26且流過第一渦輪28。燃燒產(chǎn)物60然后流過第二渦輪32且離開排氣噴嘴36,以對(duì)燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10提供至少一部分推力。

仍然參照?qǐng)D1,燃燒器26包括與縱向中心線軸線12同軸的環(huán)形燃燒室62,以及入口64和出口66。如上面所提到,燃燒器26接收來自高壓壓縮器排出出口69的環(huán)形加壓空氣流。這個(gè)壓縮器排出空氣流的一部分進(jìn)入混合器(未顯示)。燃料從燃料噴嘴80噴射,以與空氣混合且形成燃料-空氣混合物,燃料-空氣混合物被提供給燃燒室62,以進(jìn)行燃燒。燃料-空氣混合物的點(diǎn)燃通過適當(dāng)?shù)狞c(diǎn)火器實(shí)現(xiàn),且產(chǎn)生的燃燒氣體60沿軸向方向流向和進(jìn)入環(huán)形的第一級(jí)渦輪噴嘴72。噴嘴72由環(huán)形流通道限定,環(huán)形流通道包括多個(gè)沿徑向延伸的沿周向間隔開的噴嘴導(dǎo)葉74,其使氣體轉(zhuǎn)向,使得它們成角度地流動(dòng)且沖擊在第一渦輪28的第一級(jí)渦輪葉片上。如圖1中顯示,第一渦輪28優(yōu)選地通過第一驅(qū)動(dòng)軸30使高壓壓縮器24旋轉(zhuǎn),而低壓渦輪32優(yōu)選地通過第二驅(qū)動(dòng)軸34驅(qū)動(dòng)增壓器22和風(fēng)扇轉(zhuǎn)子38。

燃燒室62容納在發(fā)動(dòng)機(jī)外殼18內(nèi)且燃料被一個(gè)或多個(gè)燃料噴嘴80供應(yīng)進(jìn)入燃燒室62。更具體而言,液體燃料運(yùn)送通過在燃料噴嘴80的莖干內(nèi)的一個(gè)或多個(gè)通路或?qū)Ч堋?/p>

現(xiàn)在參照?qǐng)D2,示出用于在原地清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)(例如諸如示出在圖1中的燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10)的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法100的一個(gè)實(shí)施例的流程圖。例如,在某些實(shí)施例中,燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的構(gòu)件可包括發(fā)動(dòng)機(jī)10的任何構(gòu)件,如本文描述的那樣,包括但不限于,燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的壓縮器24、高壓渦輪28、低壓渦輪32、燃燒器26、燃燒室62、一個(gè)或多個(gè)噴嘴72,80、一個(gè)或多個(gè)葉片44或?qū)~42、增壓器22、殼18等。

因而,如在102處顯示,方法100可包括將干式去垢劑噴射進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10,例如進(jìn)入其任何構(gòu)件。更具體而言,將干式去垢劑噴射進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的步驟可包括將干式去垢劑噴射進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10的入口(例如入口20、52或64)。備選地或另外,如顯示,將干式去垢劑噴射進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的步驟可包括將干式去垢劑噴射進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10的一個(gè)或多個(gè)端口82。進(jìn)一步,干式去垢劑可使用任何適當(dāng)?shù)钠骷娚溥M(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10。更具體而言,在某些實(shí)施例中,干式去垢劑可使用構(gòu)造成將物質(zhì)灌注、運(yùn)送或引導(dǎo)進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10的自動(dòng)和/或人工裝置噴射進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10。

例如,現(xiàn)在參照?qǐng)D3,示出根據(jù)本公開的燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的一個(gè)實(shí)施例的局部橫截面圖。如顯示,干式去垢劑(如箭頭84指示)可在多個(gè)位置處噴射進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10。更具體而言,如顯示,干式去垢劑噴射到發(fā)動(dòng)機(jī)10的入口20。進(jìn)一步,如顯示,干式去垢劑84可噴射進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10的一個(gè)或多個(gè)端口82。例如,如顯示,干式去垢劑84可噴射進(jìn)入壓縮器24的端口82和/或燃燒室62的端口82。因而,干式去垢劑顆粒構(gòu)造成流過發(fā)動(dòng)機(jī)10,以便清潔構(gòu)造在其中的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。

本公開的干式去垢劑84可包括現(xiàn)有技術(shù)中現(xiàn)在已知或以后開發(fā)的的任何適當(dāng)?shù)某煞?。例如,在一個(gè)實(shí)施例中,干式去垢劑顆粒可包括可生物降解的檸檬酸和乙醇酸成分,其包括離子和非離子表面活化劑,以及防腐蝕屬性,使得該成分與在發(fā)動(dòng)機(jī)內(nèi)部和外部的所有涂層和構(gòu)件相適應(yīng),且最少根據(jù)ams1551,符合運(yùn)行應(yīng)用的規(guī)定。此外,去垢劑成分構(gòu)造成符合前面提到的規(guī)定,而不需要在清潔之后在發(fā)動(dòng)機(jī)點(diǎn)火之前的沖洗掉步驟,對(duì)發(fā)動(dòng)機(jī)構(gòu)件母金屬或涂層系統(tǒng)不會(huì)產(chǎn)生點(diǎn)腐蝕或間粒狀沖擊。

另外,干式去垢劑84的顆??蔀榫哂胁煌念w粒大小的去垢劑顆粒。例如,在某些實(shí)施例中,多個(gè)去垢劑顆粒包括具有在第一較小的微米范圍內(nèi)的中值或均值顆粒直徑的第一組顆粒和具有在第二較大的微米范圍內(nèi)的中值顆粒直徑的第二組顆粒。更具體而言,如本文使用,“微米范圍”大體包含以微米進(jìn)行度量的顆粒直徑大小范圍。例如,在某些實(shí)施例中,第一組顆粒可具有等于或小于20微米的中值顆粒直徑,而第二組顆粒可具有等于或大于20微米的中值顆粒直徑。更具體而言,第一微米范圍可等于或小于10微米,而第二微米范圍可等于或大于30微米,或更優(yōu)選地等于或大于40微米。因而,第二微米范圍的中值可大于第一微米范圍的中值或均值。

因此,如104處顯示,方法100可還包括使干式去垢劑84循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的至少一部分,以便清潔其一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件。更具體而言,干式去垢劑的較小的顆??杀粩y帶進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10的對(duì)于較大的顆粒不可接近的較小的區(qū)域,例如進(jìn)入較小的冷卻通路。因而,較小的去垢劑顆粒構(gòu)造成沉積在期望清潔位置(即之前沉積有灰塵處)而較大的顆粒構(gòu)造成以磨蝕的方式清潔較大的構(gòu)件表面。

更具體而言,在某些實(shí)施例中,使干式去垢劑84循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的至少一部分的步驟可包括在噴射干式去垢劑84期間運(yùn)行或開動(dòng)發(fā)動(dòng)機(jī)10,以便經(jīng)由空氣流使顆粒循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10。備選地,使干式去垢劑84循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的至少一部分的步驟可包括使用一個(gè)或多個(gè)外部壓力源來提供使顆粒循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的空氣流。例如,在某些實(shí)施例中,外部壓力源可包括風(fēng)扇、吹送器等。

在另一個(gè)實(shí)施例中,方法100可包括在使顆粒循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10之后,例如經(jīng)由流體激活干式去垢劑84。更具體而言,在某些實(shí)施例中,干式去垢劑84可通過添加水或蒸汽來激活。在這種實(shí)施例中,方法100可還包括在干式去垢劑84激活之后,將干式去垢劑84沖洗出渦輪10。

在又一個(gè)實(shí)施例中,方法100可還包括在將干式去垢劑84噴射進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10之前將流體噴射進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10,以便濕潤燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)表面。渦輪構(gòu)件的這種初步濕潤可進(jìn)一步協(xié)助清潔構(gòu)件。

現(xiàn)在參照?qǐng)D4,示出用于在原地或在運(yùn)行中清潔燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的一個(gè)或多個(gè)構(gòu)件的方法200的另一個(gè)實(shí)施例的流程圖。如202處顯示,方法200包括將干式去垢劑84提供到燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10中。如提到的那樣,干式去垢劑84包括具有不同的顆粒大小的多個(gè)去垢劑顆粒。更具體而言,多個(gè)去垢劑顆粒包括具有等于或小于10微米的中值顆粒直徑的第一組顆粒和具有等于或大于40微米的中值顆粒直徑的第二組顆粒。因而,如204處顯示,方法200還包括使第一組顆粒循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)冷卻通路。如206處顯示,方法200還包括使第二組顆粒循環(huán)穿過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的構(gòu)件的一個(gè)或多個(gè)表面。

在另一個(gè)實(shí)施例中,將干式去垢劑84提供到燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10中的步驟可包括將干式去垢劑84噴射進(jìn)入燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的入口(例如入口20、52、64)或燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10的一個(gè)或多個(gè)端口82。在另外實(shí)施例中,使第一組顆粒和第二組顆粒循環(huán)通過發(fā)動(dòng)機(jī)10的至少一部分的步驟可包括在噴射干式去垢劑84期間運(yùn)行或開動(dòng)發(fā)動(dòng)機(jī)10,以便提供使去垢劑循環(huán)通過其中的空氣流。備選地或另外,第一和第二組顆??山?jīng)由一個(gè)或多個(gè)外部壓力源(例如風(fēng)扇或吹送器)循環(huán)通過發(fā)動(dòng)機(jī)10,外部壓力源提供空氣流來使去垢劑84循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10。進(jìn)一步,應(yīng)當(dāng)理解,去垢劑的第一和第二組顆??赏瑫r(shí)(例如作為混合物或通過不同的入口或端口分開來)或接連地(例如一個(gè)在另一個(gè)之后)噴射進(jìn)入發(fā)動(dòng)機(jī)10。

在另一個(gè)實(shí)施例中,方法200可包括在使第一和第二組顆粒循環(huán)通過燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)10之后,激活干式去垢劑84,例如經(jīng)由水或蒸汽。在進(jìn)一步實(shí)施例中,方法200可包括在激活之后,沖洗掉干式去垢劑84。

本書面描述使用示例來公開本發(fā)明,包括最佳模式,并且還使本領(lǐng)域任何技術(shù)人員能夠?qū)嵺`本發(fā)明,包括制造和使用任何裝置或系統(tǒng),以及實(shí)行任何結(jié)合的方法。本發(fā)明的可取得專利的范圍由權(quán)利要求限定,并且可包括本領(lǐng)域技術(shù)人員想到的其它示例。如果這樣的其它示例包括不異于權(quán)利要求的字面語言的結(jié)構(gòu)要素,或者如果它們包括與權(quán)利要求的字面語言無實(shí)質(zhì)性差異的等效結(jié)構(gòu)要素,則它們意于處在權(quán)利要求的范圍之內(nèi)。

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