專利名稱：非接觸式吸盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型是一種吸盤。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的橡膠吸盤容易在物體表面留下痕跡，而且不適用于粗糙、多孔等表面不平整的物體。

實(shí)用新型內(nèi)容非接觸式吸盤，又稱為懸浮吸盤，是針對傳統(tǒng)橡膠吸盤容易在物體表面留下痕跡且不適用于粗糙多孔等不平整表面物體的缺陷而設(shè)計(jì)的。通過壓縮空氣的流動，實(shí)現(xiàn)一定空間內(nèi)的相對真空，從而吸附物體。一種非接觸式吸盤，所述吸盤包括盤體和導(dǎo)流芯子，所述盤體和導(dǎo)流芯子組成一個(gè)完整的吸盤，在所述吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面形成上下導(dǎo)通的氣體導(dǎo)流通道，氣體導(dǎo)流通道沿吸盤盤徑向外水平方向設(shè)置若干向外擴(kuò)散的噴氣口，空氣從氣體導(dǎo)流通道的一端進(jìn)入，再從氣體導(dǎo)流通道另一端的多個(gè)噴氣口噴出。所述氣體導(dǎo)流通道從上到下包括設(shè)置在導(dǎo)流芯子端面上的沉孔、設(shè)置在沉孔底部·的水平通孔、盤體中的柱形腔室、弧形放射空間及若干噴氣口，所述盤體上端面有一連接導(dǎo)流芯子的連接部，盤體下端面形成弧面導(dǎo)流面，所述柱形腔室設(shè)置在所述盤體的內(nèi)部，所述弧形放射空間是由弧形導(dǎo)流面和導(dǎo)流芯子配合形成的，該空間呈放射狀，該空間的下端是若干呈放射狀的噴氣口。所述導(dǎo)流芯子總體呈有弧度的錐形，所述導(dǎo)流芯子下端面是平面，所述導(dǎo)流芯子從弧面導(dǎo)流面一端倒扣設(shè)置在所述盤體上，所述沉孔底部的水平通孔剛好對應(yīng)所述柱形腔室。所述柱形腔室使空氣流出前在柱形腔室內(nèi)部形成漩渦后沿錐形導(dǎo)流芯子水平均勻噴出。所述氣體導(dǎo)流通道從上到下包括盤體中的沉孔、沉孔底部的若干小通氣孔、導(dǎo)流芯子的導(dǎo)流槽、弧形放射空間及噴氣口，吸盤盤體下端面有圓形弧面沉槽，所述弧形放射空間是由弧面沉槽和導(dǎo)流芯子配合形成的，該空間呈放射狀，該空間的下端是該氣體導(dǎo)流通道的噴氣口。所述導(dǎo)流芯子從該弧面沉槽倒扣上去，導(dǎo)流芯子具有一導(dǎo)流槽，沉孔底部的小通氣孔剛好對應(yīng)導(dǎo)流芯子的導(dǎo)流槽。所述導(dǎo)流槽使空氣流出前在導(dǎo)流槽內(nèi)部形成漩渦后沿錐形導(dǎo)流芯子水平均勻噴出。所述氣體導(dǎo)流通道從上到下包括盤體中的臺階通孔、導(dǎo)流芯子的沉孔、沉孔底部的水平小通孔及噴氣口，從所述盤體上端面設(shè)有臺階通孔，臺階通孔的一個(gè)端面加工出圓形弧面沉槽，所述導(dǎo)流芯子為蘑菇狀，該導(dǎo)流芯子上端面的中心設(shè)有沉孔，沉孔底部深入到蘑菇帽位置，沉孔底部有若干放射狀的水平小通孔，該水平小通孔是該氣體導(dǎo)流通道的噴氣口，導(dǎo)流芯子下端面是一個(gè)平面，芯子的蘑菇柄從圓形弧面沉槽的中心倒扣上去，蘑菇柄的沉孔對應(yīng)弧面沉槽。所述氣體導(dǎo)流通道可以是沿該吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面的中心線形成的。該盤體下端面周圍有若干個(gè)以方便空氣流出的支撐墊塊。非接觸式吸盤是利用伯努力原理,吸盤通過盤體和導(dǎo)流芯子的組合，在吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面形成一個(gè)上下導(dǎo)通的通孔，空氣從通孔上端進(jìn)入，再從另一端的噴氣口中噴出。當(dāng)氣體遇到工件后，從噴氣口所在端面的中心沿吸盤盤徑向外水平方向迅速擴(kuò)散，由壓縮空氣帶走局部空氣而形成當(dāng)前一個(gè)密閉空間，使得噴氣口端面的中心及周邊氣壓低于外部氣壓，由于壓縮空氣在腔體內(nèi)部形成漩渦后沿水平方向向外均勻噴出，壓縮空氣流出對工件的向下的作用力減到最小值，壓力差形成的吸附力大于工件自身的重力和壓縮空氣流出時(shí)對物體的向下的作用力之和，工件就被緊緊吸附在吸盤上。 與傳統(tǒng)的吸盤相比，它僅有幾個(gè)點(diǎn)與物體接觸，不會在物體表面留下痕跡，且能夠吸附粗糙、多孔等表面不平整的物體。

圖I繪示為第一種實(shí)施方式的非接觸式吸盤剖面圖；圖2繪示為第一種實(shí)施方式的非接觸式吸盤俯視圖；圖3繪示為第二種實(shí)施方式的非接觸式吸盤剖面圖；圖4繪示為第二種實(shí)施方式的非接觸式吸盤俯視圖；圖5繪示為第三種實(shí)施方式的非接觸式吸盤剖面圖；圖6繪示為第三種實(shí)施方式的非接觸式吸盤俯視圖。為讓本實(shí)用新型的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下。
具體實(shí)施方式
以下敘述將會配合圖式對本實(shí)用新型的各項(xiàng)模塊進(jìn)行詳細(xì)的說明。圖I繪示為第一種實(shí)施方式的非接觸式吸盤剖面圖。請參照圖1，吸盤包括盤體I和導(dǎo)流芯子2，所述盤體I和導(dǎo)流芯子2組成一個(gè)完整的吸盤，在所述吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面形成上下導(dǎo)通的氣體導(dǎo)流通道3。盤體上端面5的中心是以便連接導(dǎo)流芯子的連接部13，盤體下端面6的中心是弧面導(dǎo)流面14，沿盤體I的中心線是柱形腔室12。該導(dǎo)流芯子2總體呈有弧度的錐形，導(dǎo)流芯子下端面8是平面，在導(dǎo)流芯子上端面7上設(shè)有沉孔11。沉孔11底部有若干個(gè)放射狀水平通孔15。導(dǎo)流芯子2從弧面導(dǎo)流面14 一端倒扣設(shè)置在盤體I上，沉孔11底部的水平通孔15剛好對應(yīng)柱形腔室12，弧形導(dǎo)流面14和導(dǎo)流芯子2配合而形成很精密的弧形放射空間，該空間呈放射狀，該空間的下端即為該氣體導(dǎo)流通道3的噴氣口 9，努力做到壓縮氣體水平吹出。盤體下端面6周圍安裝若干個(gè)支撐墊塊4以方便空氣流出。導(dǎo)流芯子下端面8略短于若干支撐墊塊4的端面。所述柱形腔室12可以使空氣流出前在柱形腔室內(nèi)部形成漩渦后沿錐形導(dǎo)流芯子水平均勻噴出，使氣體流出時(shí)對工件的向下作用力減到最小值。[0026]通過盤體I和導(dǎo)流芯子2的配合，壓縮氣體從錐形導(dǎo)流芯子2的沉孔11進(jìn)入，經(jīng)水平通孔15進(jìn)入柱形腔室12，在柱形腔室12的控制下均勻向弧形放射空間的下端流動，從而形成了第一種實(shí)施方式的氣體導(dǎo)流通道3，使氣體通過氣體導(dǎo)流通道3沿吸盤盤徑向外水平方向擴(kuò)散，即氣體流出后呈水平方向向四周擴(kuò)散，圖I中的箭頭表示了該氣體的流動方向。圖2繪示為第一種實(shí)施方式的非接觸式吸盤俯視圖，標(biāo)明了氣體從吸盤底部呈水平方向發(fā)射狀擴(kuò)散。圖3繪示為第二種實(shí)施方式的非接觸式吸盤剖面圖。請參照圖3，吸盤包括盤體I和導(dǎo)流芯子2，所述盤體I和導(dǎo)流芯子2組成一個(gè)完整的吸盤，在所述吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面形成上下導(dǎo)通的氣體導(dǎo)流通道3。從盤體上端面5的中心設(shè)有沉孔21，沉孔21底部有若干小通氣孔23，吸盤盤體下端面6的中心有圓形弧面沉槽24。導(dǎo)流芯子2具有一導(dǎo)流槽22，該導(dǎo)流芯子2從弧面沉槽24中心倒扣上去，沉孔21底部的小通氣孔23剛好對應(yīng)導(dǎo)流芯子2的導(dǎo)流槽22?；∶娉敛?4和導(dǎo)流芯子2配合而形成很精密的弧形放射空間，該空間呈放射 狀，該空間的下端即為該氣體導(dǎo)流通道的噴氣口 9，努力做到壓縮氣體水平吹出。盤體下端面6周圍安裝若干支撐墊塊4以方便空氣流出。導(dǎo)流芯子下端面8略短于該若干支撐墊塊4的端面。所述導(dǎo)流槽22可以使空氣流出前在導(dǎo)流槽內(nèi)部形成漩渦后沿導(dǎo)流芯子水平均勻噴出，使氣體流出時(shí)對工件的向下作用力減到最小值。通過盤體I和導(dǎo)流芯子2的配合，壓縮氣體從上部沉孔21進(jìn)入，經(jīng)小通氣孔23出來，在導(dǎo)流槽的控制下均勻向弧形放射空間的下端流動，從而形成了第二種實(shí)施方式的氣體導(dǎo)流通道3，使氣體通過氣體導(dǎo)流通道3沿吸盤盤徑向外水平方向擴(kuò)散，即氣體流出后呈水平方向向四周擴(kuò)散，圖3中的箭頭表示了該氣體的流動方向。圖4繪示為第二種實(shí)施方式的非接觸式吸盤俯視圖，標(biāo)明了氣體從吸盤底部呈水平方向發(fā)射狀擴(kuò)散。圖5繪示為第三種實(shí)施方式的非接觸式吸盤剖面圖。請參照圖5，吸盤包括盤體I和導(dǎo)流芯子2，所述盤體I和導(dǎo)流芯子2組成一個(gè)完整的吸盤，在所述吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面形成上下導(dǎo)通的氣體導(dǎo)流通道3。從盤體上端面5的中心設(shè)有臺階通孔31，臺階通孔31的一個(gè)端面加工出圓形弧面沉槽32。導(dǎo)流芯子2為蘑菇狀，包括蘑菇柄34和蘑菇帽35，導(dǎo)流芯子上端面7中心設(shè)有沉孔36，沉孔36底部深入到蘑菇帽35中心位置。沉孔36底部有若干放射狀的水平小通孔33，該水平小通孔33即為該氣體導(dǎo)流通道的噴氣口 9，導(dǎo)流芯子下端面8是一個(gè)平面。導(dǎo)流芯子2的蘑菇柄34從圓形弧面沉槽32的中心倒扣上去，蘑菇柄34的沉孔36對應(yīng)弧面沉槽32。盤體下端面6周圍安裝若干支撐墊塊4以方便空氣流出。導(dǎo)流芯子下端面8略短于于該若干支撐墊塊4的端面。通過盤體I和導(dǎo)流芯子2的配合，氣體從盤體上端面5的臺階通孔31進(jìn)入，經(jīng)蘑菇柄34的沉孔36，再均勻地從沉孔36底部的水平小通孔33出來，從而形成了第三種實(shí)施方式的氣體導(dǎo)流通道3，使氣體通過氣體導(dǎo)流通道3沿吸盤盤徑向外水平方向擴(kuò)散，即氣體流出后呈水平方向向四周擴(kuò)散，圖5中的箭頭表示了該氣體的流動方向。圖6繪示為第三種實(shí)施方式的非接觸式吸盤俯視圖，標(biāo)明了氣體從吸盤底部呈水平方向發(fā)射狀擴(kuò)散。[0035]雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟習(xí)此技藝者，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動與潤飾，因此本 實(shí)用新型的保護(hù)范圍當(dāng)視申請專利范圍所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種非接觸式吸盤，其特征在于，所述吸盤包括盤體和導(dǎo)流芯子，所述盤體和導(dǎo)流芯子組成一個(gè)完整的吸盤，在所述吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面形成上下導(dǎo)通的氣體導(dǎo)流通道，氣體導(dǎo)流通道沿吸盤盤徑向外水平方向設(shè)置若干向外擴(kuò)散的噴氣口，空氣從氣體導(dǎo)流通道的一端進(jìn)入，再從氣體導(dǎo)流通道另一端的多個(gè)噴氣口噴出。
2.如權(quán)利要求I所述的非接觸式吸盤，其特征在于，所述氣體導(dǎo)流通道從上到下包括設(shè)置在導(dǎo)流芯子端面上的沉孔、設(shè)置在沉孔底部的水平通孔、盤體中的柱形腔室、弧形放射空間及若干噴氣口，所述盤體上端面有一連接導(dǎo)流芯子的連接部，盤體下端面形成弧面導(dǎo)流面，所述柱形腔室設(shè)置在所述盤體的內(nèi)部，所述弧形放射空間是由弧形導(dǎo)流面和導(dǎo)流芯子配合形成的，該空間呈放射狀，該空間的下端是若干呈放射狀的噴氣口。
3.如權(quán)利要求2所述的非接觸式吸盤，其特征在于，所述導(dǎo)流芯子總體呈有弧度的錐形，所述導(dǎo)流芯子下端面是平面，所述導(dǎo)流芯子從弧面導(dǎo)流面一端倒扣設(shè)置在所述盤體上，所述沉孔底部的水平通孔剛好對應(yīng)所述柱形腔室。
4.如權(quán)利要求I所述的非接觸式吸盤，其特征在于，所述氣體導(dǎo)流通道從上到下包括盤體中的沉孔、沉孔底部的若干小通氣孔、導(dǎo)流芯子的導(dǎo)流槽、弧形放射空間及噴氣口，吸盤盤體下端面有圓形弧面沉槽，所述弧形放射空間是由弧面沉槽和導(dǎo)流芯子配合形成的，該空間呈放射狀，該空間的下端是該氣體導(dǎo)流通道的噴氣口。
5.如權(quán)利要求4所述的非接觸式吸盤，其特征在于，所述導(dǎo)流芯子從該弧面沉槽倒扣上去，導(dǎo)流芯子具有一導(dǎo)流槽，沉孔底部的小通氣孔剛好對應(yīng)導(dǎo)流芯子的導(dǎo)流槽。
6.如權(quán)利要求I所述的非接觸式吸盤，其特征在于，所述氣體導(dǎo)流通道從上到下包括盤體中的臺階通孔、導(dǎo)流芯子的沉孔、沉孔底部的水平小通孔及噴氣口，從所述盤體上端面設(shè)有臺階通孔，臺階通孔的一個(gè)端面加工出圓形弧面沉槽，該導(dǎo)流芯子上端面的中心設(shè)有沉孔，沉孔底部有若干放射狀的水平小通孔，該水平小通孔是該氣體導(dǎo)流通道的噴氣口，導(dǎo)流芯子下端面是一個(gè)平面。
7.如權(quán)利要求I所述的非接觸式吸盤，其特征在于，所述氣體導(dǎo)流通道可以是沿該吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面的中心線形成的。
8.如權(quán)利要求I所述的非接觸式吸盤，其特征在于，該盤體下端面周圍有若干個(gè)以方便空氣流出的支撐墊塊。
專利摘要非接觸式吸盤是利用伯努力原理，吸盤通過盤體和導(dǎo)流芯子的組合，在吸盤兩個(gè)對應(yīng)端面的中心線處形成一個(gè)上下導(dǎo)通的通孔，空氣從通孔上端進(jìn)入，再從吸盤另一端面的噴氣口中噴出。氣體遇到工件后，自噴氣口端面中心沿吸盤盤徑向外水平方向迅速擴(kuò)散，由壓縮空氣帶走局部空氣而形成一個(gè)密閉空間，使得中心區(qū)域及周邊氣壓低于外部氣壓，由于空氣流出前在腔體內(nèi)部形成漩渦后沿水平方向向外均勻噴出，空氣流出對工件的向下的作用力減到最小值，壓力差形成的吸附力大于工件自身的重力和空氣流出時(shí)對物體的向下的作用力之和，工件就被緊緊吸附在吸盤上。
文檔編號F16B47/00GK202732645SQ20122009010
公開日2013年2月13日 申請日期2012年3月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月12日
發(fā)明者王偉光 申請人:王偉光