本發(fā)明涉及的一種陶瓷電容式壓力控制系統(tǒng)，屬于半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域。

背景技術(shù)：
：

壓力傳感器是現(xiàn)代測量和自動(dòng)化系統(tǒng)的重要技術(shù)之一，其具有體積小、重量輕、靈敏度高、穩(wěn)定可靠、便于集成化的優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于壓力、高度、加速度、流速、壓強(qiáng)的測量與控制。在眾多壓力傳感器材料中，陶瓷是一種公認(rèn)的高彈性、抗腐蝕、抗磨損、抗沖擊和振動(dòng)的材料。陶瓷電容式壓力傳感器的熱穩(wěn)定特性可以使它的工作溫度范圍高達(dá)-40～135°C，而且具有測量的高精度、高穩(wěn)定性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是：提供一種可以準(zhǔn)確的檢測并控制密閉容器的氣壓的一種陶瓷電容式壓力控制系統(tǒng)。

針對(duì)以上技術(shù)問題，本發(fā)明涉及的一種陶瓷電容式壓力控制系統(tǒng)，包括封閉容器，安裝在封閉容器內(nèi)的陶瓷電容式壓力傳感器和連接在壓力傳感器上的控制開關(guān)，所述壓力傳感器具有陶瓷蓋板和陶瓷基板，所述陶瓷基板上設(shè)置有平板電極，所述所述陶瓷蓋板與陶瓷基板之間設(shè)有控制間距的隔離墩，所述控制開關(guān)連接有用于調(diào)節(jié)電源的電源控制模塊和用于控制封閉容器換氣的電磁控制閥，所述壓力傳感器外圍設(shè)有用于放置壓力傳感器的測試腔。

作為優(yōu)選，為了提高檢測精度，所述述隔離墩是由環(huán)形的LTCC陶瓷薄膜制成，薄膜的厚度為20～50微米。

作為優(yōu)選，為了提高對(duì)氣壓的檢測效率，所述隔離墩圍繞在平板電極的外面，與平板電極同心。

作為優(yōu)選，所述測試腔上設(shè)置有用于與密閉容器聯(lián)通的導(dǎo)氣孔。

作為優(yōu)選，為了防止密閉容器內(nèi)壓力過低，所述電磁控制閥外側(cè)還連接有用于為密閉容器增壓的增壓泵。

作為優(yōu)選，為了避免壓力傳感器損壞時(shí)密閉容器壓力過大，所述密閉容器上還設(shè)有快速降壓的機(jī)械式減壓閥。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益之處是：可以實(shí)時(shí)的檢測出密閉容器的氣壓狀況，可以根據(jù)實(shí)際要求來調(diào)節(jié)密閉容器的內(nèi)部壓力，結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便。適用范圍廣，可以有效提高密閉容器使用過程中的安全性。

附圖說明：

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。

圖1是陶瓷電容式壓力控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是陶瓷基板平面示意圖。

圖中：1、封閉容器；1-1、機(jī)械式減壓閥；2、壓力傳感器；2-1、陶瓷蓋板；2-2、陶瓷基板；2-3、平板電極；2-4、隔離墩；3、控制開關(guān)；3-1、電源控制模塊；3-2、電磁控制閥；3-3、增壓泵；4、測試腔；4-1、導(dǎo)氣孔。

具體實(shí)施方式：

本發(fā)明涉及的一種陶瓷電容式壓力控制系統(tǒng)，如圖1和圖2所示：包括封閉容器1，安裝在封閉容器1內(nèi)的陶瓷電容式壓力傳感器2和連接在壓力傳感器2上的控制開關(guān)3，所述壓力傳感器2具有陶瓷蓋板2-1和陶瓷基板2-2，所述陶瓷基板2-2上設(shè)置有平板電極2-3，所述所述陶瓷蓋板2-1與陶瓷基板2-2之間設(shè)有控制間距的隔離墩2-4，所述控制開關(guān)3連接有用于調(diào)節(jié)電源的電源控制模塊3-1和用于控制封閉容器1換氣的電磁控制閥3-2，所述壓力傳感器2外圍設(shè)有用于放置壓力傳感器2的測試腔4。

作為優(yōu)選，為了提高檢測精度，所述述隔離墩2-4是由環(huán)形的LTCC陶瓷薄膜制成，薄膜的厚度為20～50微米。

作為優(yōu)選，為了提高對(duì)氣壓的檢測效率，所述隔離墩2-4圍繞在平板電極2-3的外面，與平板電極2-3同心。

作為優(yōu)選，所述測試腔4上設(shè)置有用于與密閉容器聯(lián)通的導(dǎo)氣孔4-1。

作為優(yōu)選，為了防止密閉容器1內(nèi)壓力過低，所述電磁控制閥3-2外側(cè)還連接有用于為密閉容器1增壓的增壓泵3-3。

作為優(yōu)選，為了避免壓力傳感器2損壞時(shí)密閉容器1壓力過大，所述密閉容器1上還設(shè)有快速降壓的機(jī)械式減壓閥1-1。

需要強(qiáng)調(diào)的是：以上僅是本發(fā)明的使用方式的介紹與描述，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。