本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種觸控屏及顯示裝置。

背景技術(shù)：

觸控屏是一種應(yīng)用越來越廣泛的外部輸入設(shè)備，其通過手指輕觸即可以實(shí)現(xiàn)輸入，進(jìn)而使人機(jī)交互過程更為直接，具有簡(jiǎn)單、快捷、人性化等特點(diǎn)。

隨著觸控屏應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展以及大尺寸觸控屏的普及，觸控屏受靜電(ESD)影響的問題越來越凸顯；具體地，由于目前的觸控屏對(duì)于制程中感應(yīng)靜電的產(chǎn)生以及靜電積聚的釋放，均沒有有效的防護(hù)機(jī)制，從而，觸控屏中的感應(yīng)電極和金屬走線等結(jié)構(gòu)很容易產(chǎn)生靜電感應(yīng)不良；并且，由于目前觸控屏黑矩陣區(qū)域的遮光結(jié)構(gòu)一般由樹脂層包裹碳組成，因此，當(dāng)黑矩陣區(qū)域的金屬走線或者感應(yīng)電極通道產(chǎn)生靜電感應(yīng)電流時(shí)，很容易造成遮光結(jié)構(gòu)的樹脂層電擊穿，進(jìn)而使得遮光結(jié)構(gòu)形成導(dǎo)電通道，從而造成電測(cè)邊緣ADC偏高以及發(fā)射電極與接收電極短路(Tx&Rx short)等問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供了一種觸控屏及顯示裝置，用以解決觸控屏易受靜電(ESD)影響產(chǎn)生不良的問題。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案：

一種觸控屏，包括用于觸控感應(yīng)的第一電極層和第二電極層、位于所述第一電極層和第二電極層之間的絕緣層；還包括：

設(shè)置于所述絕緣層朝向第一電極層一側(cè)的第一地線，

設(shè)置于所述絕緣層朝向第二電極層一側(cè)的第二地線；其中，

所述第一地線與接地端電連接；或者，所述第二地線與接地端電連接；

所述絕緣層設(shè)有地線過孔，所述第一地線與所述第二地線通過所述地線過孔電連接。

上述觸控屏中，在用于進(jìn)行觸控感應(yīng)的兩層電極層(第一電極層和第二電極層)結(jié)構(gòu)中分別設(shè)置了第一地線和第二地線，且該第一地線和第二地線都與接地端電連接；進(jìn)而，一方面，該第一地線和第二地線可以對(duì)上述兩層電極層起到靜電屏蔽的作用、以避免外部電荷的干擾，另一方面，該第一地線和第二地線可以將上述兩層電極層中產(chǎn)生的靜電及時(shí)地導(dǎo)出，以避免靜電積累和釋放而導(dǎo)致觸控感應(yīng)不良。因此，上述觸控屏可以避免受靜電(ESD)影響產(chǎn)生不良。

優(yōu)選地，所述觸控屏包括顯示區(qū)域和包圍所述顯示區(qū)域的黑矩陣區(qū)域；所述第一電極層和第二電極層位于所述顯示區(qū)域內(nèi)；所述第一地線和第二地線沿黑矩陣區(qū)域設(shè)置。

優(yōu)選地，所述第一電極層包括橫向觸控電極和縱向觸控電極；所述第二電極層包括用于實(shí)現(xiàn)橫向觸控電極和縱向觸控電極在交叉處跨接設(shè)計(jì)的電極橋點(diǎn)。

優(yōu)選地，所述觸控屏還包括設(shè)置于所述絕緣層朝向第一電極層一側(cè)、用于將所述橫向觸控電極和縱向觸控電極與驅(qū)動(dòng)芯片電連接的金屬走線；所述第一地線與所述金屬走線同層設(shè)置，所述第一地線的材料與所述金屬走線的材料相同。

優(yōu)選地，所述第二地線與所述第二電極層同層設(shè)置，所述第二地線的材料與所述第二電極層的材料相同。

優(yōu)選地，所述第一電極層的材料為ITO；所述第二電極層的材料為ITO。

優(yōu)選地，所述第一電極層包括橫向觸控電極；所述第二電極層包括縱向觸控電極。

優(yōu)選地，所述第一地線的材料與所述第一電極層的材料相同、且所述第一地線與所述第一電極層同層設(shè)置。

優(yōu)選地，所述第二地線的材料與所述第二電極層的材料相同、且所述第二地線與所述第二電極層同層設(shè)置。

一種顯示裝置，包括上述任一技術(shù)方案所述的觸控屏。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種觸控屏的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種觸控屏的部分切面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型另一實(shí)施例提供的一種觸控屏的部分切面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實(shí)用新型另一實(shí)施例提供的一種觸控屏的部分切面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種觸控屏的制備方法流程圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參考圖1～圖5。

如圖1～圖4所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種觸控屏，包括用于觸控感應(yīng)的第一電極層1和第二電極層2、位于第一電極層1和第二電極層2之間的絕緣層3；還包括：

設(shè)置于絕緣層3朝向第一電極層1一側(cè)的第一地線4，

設(shè)置于絕緣層3朝向第二電極層2一側(cè)的第二地線5；其中，

第一地線4與接地端電連接和/或第二地線5與接地端電連接；

絕緣層3設(shè)有地線過孔31，第一地線4與第二地線5通過地線過孔31電連接。

上述觸控屏中，在用于進(jìn)行觸控感應(yīng)的兩層電極層(第一電極層1和第二電極層2)結(jié)構(gòu)中分別設(shè)置了第一地線4和第二地線5，且該第一地線4和第二地線5與接地端電連接；進(jìn)而，一方面，該第一地線4和第二地線5可以對(duì)上述兩層電極層起到靜電屏蔽的作用、以避免外部電荷的干擾，另一方面，該第一地線4和第二地線5可以將上述兩層電極層中產(chǎn)生的靜電及時(shí)地導(dǎo)出，以避免靜電積累和釋放而導(dǎo)致觸控感應(yīng)不良。因此，上述觸控屏可以避免受靜電(ESD)影響產(chǎn)生不良。

如圖1所示，一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏可以包括顯示區(qū)域和包圍顯示區(qū)域的黑矩陣區(qū)域；上述第一電極層1和第二電極層2位于顯示區(qū)域內(nèi)；上述第一地線4和第二地線5沿黑矩陣區(qū)域設(shè)置。優(yōu)選地，上述第一地線4和第二地線5可以呈沿黑矩陣區(qū)域延伸的條狀結(jié)構(gòu)。

第一地線4和第二地線5沿黑矩陣區(qū)域延伸，即第一地線4和第二地線5對(duì)第一電極層1和第二電極層2呈包圍狀，進(jìn)而，該第一地線4和第二地線5可以對(duì)第一電極層1和第二電極層2形成顯著有效地屏蔽作用，從而可以有效地避免外部電荷對(duì)第一電極層1和第二電極層2的干擾；同時(shí)，該第一地線4和第二地線5可以及時(shí)地將第一電極層1和第二電極層2周邊產(chǎn)生的靜電導(dǎo)出，進(jìn)而有效地避免靜電積累，從而可以有效地避免靜電釋放導(dǎo)致的觸控感應(yīng)不良；另外，第一地線4和第二地線5沿黑矩陣區(qū)域設(shè)置，則其不容易與第一電極層1和第二電極層2發(fā)生接觸短路，而且不會(huì)對(duì)顯示區(qū)域產(chǎn)生遮光等影響。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，

實(shí)施例一，如圖1和圖2所示，本實(shí)用新型的觸控屏可以為OGS(One glass solution)結(jié)構(gòu)，具體地，本實(shí)用新型的觸控屏中，

第一電極層1可以包括橫向觸控電極11和縱向觸控電極12；

第二電極層2可以包括用于實(shí)現(xiàn)橫向觸控電極11和縱向觸控電極12在交叉處跨接設(shè)計(jì)的電極橋點(diǎn)21，如圖1所示，該電極橋點(diǎn)12可以為架設(shè)在交叉處、用于連接縱向觸控電極12的橋接結(jié)構(gòu)。

如圖1和圖2所示，一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏中，第一電極層1和第二電極層2的材料都為透明電極材料，具體地，第一電極層1和第二電極層2都為氧化銦錫(ITO)材料。

如圖1和圖2所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏還包括設(shè)置于絕緣層3朝向第一電極層1一側(cè)、用于將橫向觸控電極11和縱向觸控電極12與驅(qū)動(dòng)芯片7電連接的金屬走線6。

如圖2所示，優(yōu)選地，第一地線4可以與該金屬走線6同層設(shè)置，且第一地線4的材料可以與該金屬走線6的材料相同；進(jìn)而，第一地線4與金屬走線6可以通過同一次構(gòu)圖工藝制備，從而可以簡(jiǎn)化觸控屏的制作工藝。

如圖1所示，進(jìn)一步優(yōu)選地，第一地線4可以與驅(qū)動(dòng)芯片7電連接，以實(shí)現(xiàn)與接地端的電連接。

如圖2所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，第二地線5可以與第二電極層2同層設(shè)置，且第二地線5的材料也可以與第二電極層2的材料相同；進(jìn)而，第二地線5與第二電極層2可以通過同一次構(gòu)圖工藝制備，從而可以簡(jiǎn)化觸控屏的制作工藝。

實(shí)施例二，如圖4所示，本實(shí)用新型的觸控屏中，

第一電極層1可以包括橫向觸控電極11；

第二電極層2可以包括縱向觸控電極12。

如圖4所示，一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏可以為金屬網(wǎng)狀觸控(metal mesh)結(jié)構(gòu)，具體地，第一電極層1和第二電極層2的材料都為金屬，橫向觸控電極11和縱向觸控電極12為金屬網(wǎng)狀電極。

如圖4所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，第一地線4的材料可以與第一電極層1的材料相同、且第一地線4可以與第一電極層1同層設(shè)置；進(jìn)而，第一地線4與第一電極層1可以通過同一次構(gòu)圖工藝制備，從而可以簡(jiǎn)化觸控屏的制作工藝。

進(jìn)一步地，第二地線5的材料可以與第二電極層2的材料相同、且第二地線5可以與第二電極層2同層設(shè)置；進(jìn)而，第二地線5與第二電極層2可以通過同一次構(gòu)圖工藝制備，從而可以簡(jiǎn)化觸控屏的制作工藝。

如圖4所示，另一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏中，第一電極層1和第二電極層2的材料可以都為透明電極材料；具體地，橫向觸控電極11和縱向觸控電極12可以都為ITO電極。

如圖4所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種優(yōu)選的實(shí)施例中，第一地線4的材料可以與橫向觸控電極11的金屬走線材料相同且同層設(shè)置；第二地線5的材料可以與豎向觸控電極的金屬走線材料相同且同層設(shè)置。

具體地，上述各實(shí)施例中的橫向觸控電極11和縱向觸控電極12中，可以是橫向觸控電極11為發(fā)射電極、縱向觸控電極12為感應(yīng)電極；也可以是，橫向觸控電極11為感應(yīng)電極，縱向觸控電極12為發(fā)射電極。

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括上述任一實(shí)施例中的觸控屏。本實(shí)用新型顯示裝置中的觸控屏可以避免受靜電(ESD)影響產(chǎn)生不良，進(jìn)而，本實(shí)用新型的顯示裝置的觸控感應(yīng)性能較好，可靠性較高。

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種觸控屏的制備方法，如圖1～圖5所示，該觸控屏的制備方法包括以下步驟：

步驟S101，在基板10上形成第一電極層1和第一地線4；

步驟S102，在第一電極層1和第一地線4上形成絕緣層3，該絕緣層3設(shè)有地線過孔31；

步驟S103，在絕緣層3上形成第二電極層2和第二地線5；其中，

第一地線4與接地端電連接；或者，第二地線4與接地端電連接；

第一地線4與第二地線5通過絕緣層3的地線過孔31電連接。

通過上述制備方法制備形成的觸控屏中，用于進(jìn)行觸控感應(yīng)的兩層電極層(第一電極層1和第二電極層2)結(jié)構(gòu)中分別設(shè)置了第一地線4和第二地線5，且該第一地線4和第二地線5都與接地端電連接；進(jìn)而，一方面，該第一地線4和第二地線5可以對(duì)上述兩層電極層起到靜電屏蔽的作用、以避免外部電荷的干擾，另一方面，該第一地線4和第二地線5可以將上述兩層電極層中產(chǎn)生的靜電及時(shí)地導(dǎo)出，以避免靜電積累和釋放而導(dǎo)致觸控感應(yīng)不良。因此，上述觸控屏可以避免受靜電(ESD)影響產(chǎn)生不良。

如圖1所示，一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏可以包括顯示區(qū)域和包圍顯示區(qū)域的黑矩陣區(qū)域；上述第一電極層1和第二電極層2位于顯示區(qū)域內(nèi)；上述第一地線4和第二地線5沿黑矩陣區(qū)域設(shè)置。優(yōu)選地，上述第一地線4和第二地線5可以呈沿黑矩陣區(qū)域延伸的條狀結(jié)構(gòu)。

第一地線4和第二地線5沿黑矩陣區(qū)域延伸，即第一地線4和第二地線5對(duì)第一電極層1和第二電極層2呈包圍狀，進(jìn)而，該第一地線4和第二地線5可以對(duì)第一電極層1和第二電極層2形成顯著有效地屏蔽作用，從而可以有效地避免外部電荷對(duì)第一電極層1和第二電極層2的干擾；同時(shí)，該第一地線4和第二地線5可以及時(shí)地將第一電極層1和第二電極層2周邊產(chǎn)生的靜電導(dǎo)出，進(jìn)而有效地避免靜電積累，從而可以有效地避免靜電釋放導(dǎo)致的觸控感應(yīng)不良；另外，第一地線4和第二地線5沿黑矩陣區(qū)域設(shè)置，則其不容易與第一電極層1和第二電極層2發(fā)生接觸短路，而且不會(huì)對(duì)顯示區(qū)域產(chǎn)生遮光等影響。

在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，

實(shí)施例一，如圖1和圖2所示，本實(shí)用新型的制備方法所制備形成的觸控屏中，第一電極層1包括橫向觸控電極11和縱向觸控電極12；第二電極層2包括用于實(shí)現(xiàn)橫向觸控電極11和縱向觸控電極12在交叉處跨接設(shè)計(jì)的電極橋點(diǎn)21；如圖1所示，該電極橋點(diǎn)12可以為架設(shè)在交叉處、用于連接縱向觸控電極12的橋接結(jié)構(gòu)。

如圖1、圖2和圖5所示，一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏的制備方法中，

步驟S101，即在基板10上形成第一電極層1和第一地線4的步驟，具體可以包括：

在基板10上沉積透明電極層，如ITO層，通過構(gòu)圖工藝形成橫向觸控電極11和縱向觸控電極12的圖形；

在基板10上沉積金屬層，通過構(gòu)圖工藝形成第一地線4和金屬走線6的圖形；其中，金屬走線6將橫向觸控電極11以及縱向觸控電極12與驅(qū)動(dòng)芯片7電連接。

優(yōu)選地，第一地線4與驅(qū)動(dòng)芯片7電連接，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)與接地端的電連接。

步驟S102，即在絕緣層10上形成第二電極層2和第二地線5的步驟，具體可以包括：

在絕緣層3上沉積透明電極層，如ITO層，通過構(gòu)圖工藝形成電極橋點(diǎn)21和第二地線5的圖形。

本實(shí)施例的觸控屏的制備方法中，第一地線4與感應(yīng)電極(橫向觸控電極11和縱向觸控電極12)的金屬走線6通過同一次構(gòu)圖工藝制備，第二地線5與第二電極層2通過同一次構(gòu)圖工藝制備，從而，第一地線4和第二地線5的制備過程無需增加額外的工藝步驟，進(jìn)而，該觸控屏制備方法的制作工藝比較簡(jiǎn)單。

實(shí)施例二，如圖1和圖3所示，本實(shí)用新型的制備方法所制備形成的觸控屏中，第二電極層2包括橫向觸控電極11和縱向觸控電極12；第一電極層1包括用于實(shí)現(xiàn)橫向觸控電極11和縱向觸控電極12在交叉處跨接設(shè)計(jì)的電極橋點(diǎn)21。

如圖1、圖3和圖5所示，一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏的制備方法中，

步驟S101，即在基板10上形成第一電極層1和第一地線4的步驟，具體可以包括：

在基板10上沉積透明電極層，如ITO層，通過構(gòu)圖工藝形成電極橋點(diǎn)21和第一地線4的圖形；

步驟S102，即在絕緣層3上形成第二電極層2和第二地線5的步驟，具體可以包括：

在絕緣層3上沉積透明電極層，如ITO層，通過構(gòu)圖工藝形成橫向觸控電極11和縱向觸控電極12的圖形；

在絕緣層3上沉積金屬層，通過構(gòu)圖工藝形成第二地線5和金屬走線6的圖形；其中，金屬走線6將橫向觸控電極11以及縱向觸控電極12與驅(qū)動(dòng)芯片7電連接。

優(yōu)選地，第二地線5與驅(qū)動(dòng)芯片7電連接，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)與接地端的電連接。

進(jìn)一步優(yōu)選地，如圖3所示，對(duì)透明電極層進(jìn)行構(gòu)圖形成橫向觸控電極11和縱向觸控電極12圖形的過程，也可以同時(shí)形成位于絕緣層3的地線過孔31上的搭接部13，該搭接部13通過地線過孔31與第一地線4電連接，進(jìn)而，位于絕緣層3上的第二地線5只需要與該搭接部13相連即可以實(shí)現(xiàn)與第一地線4的電連接。

本實(shí)施例的觸控屏的制備方法中，第一地線4與第一電極層1通過同一次構(gòu)圖工藝制備，第二地線5與感應(yīng)電極(橫向觸控電極11和縱向觸控電極12)的金屬走線6通過同一次構(gòu)圖工藝制備，從而，第一地線4和第二地線5的制備過程無需增加額外的工藝步驟，進(jìn)而，該觸控屏制備方法的制作工藝比較簡(jiǎn)單。

實(shí)施例三，如圖4和圖5所示，本實(shí)用新型的制備方法所制備形成的觸控屏中，第一電極層1包括橫向觸控電極11；第二電極層2包括縱向觸控電極12。

如圖4和圖5所示，一種具體的實(shí)施例中，本實(shí)用新型的觸控屏的制備方法中，

步驟S101，即在基板10上形成第一電極層1和第一地線4的步驟，具體可以包括：

在基板10上沉積電極層，通過構(gòu)圖工藝形成橫向觸控電極11和第一地線4的圖形；具體地，該電極層可以為金屬層，此時(shí)，橫向觸控電極11為金屬網(wǎng)狀電極；另外，該電極層也可以為透明電極層，此時(shí)，橫向觸控電極11可以為ITO電極。

步驟S102，即在絕緣層3上形成第二電極層2和第二地線5的步驟，具體可以包括：

在絕緣層3上沉積電極層，通過構(gòu)圖工藝形成縱向觸控電極12和第二地線5的圖形；具體地，該電極層可以為金屬層，此時(shí)，豎向觸控電極12為金屬網(wǎng)狀電極；另外，該電極層可以為透明電極層，此時(shí)，豎向觸控電極12可以為ITO電極。

需要說明的是，上述實(shí)施例只是對(duì)本實(shí)用新型的觸控屏制備方法的舉例說明，本實(shí)用新型的觸控屏的制備方法并不限于上述實(shí)施例。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。