專利名稱：光敏電阻涂層沉淀工藝及設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于化工噴涂技術(shù)領(lǐng)域，是一種光敏電阻涂層沉淀工藝，本發(fā)明還涉及適用于該工藝的沉淀設(shè)備。
光敏電阻生產(chǎn)線中，噴涂設(shè)備是最容易出現(xiàn)故障，由于該設(shè)備自動化程度高，維修起來非常困難。而且，噴涂機是生產(chǎn)線的獨苗，出現(xiàn)故障后，整個生產(chǎn)線基本處于停滯狀戊。嚴重制約生產(chǎn)的發(fā)展。而且現(xiàn)有的噴涂機是氣動噴液，霧化的藥液彌散在空氣中，造成大氣污染。噴涂法由于使用氣體攜帶噴涂，大量的硫化鎘混合液被抽風(fēng)排掉而浪費了。由噴涂法而設(shè)計的噴涂機單機成本是30萬元，成本太高。
本發(fā)明的目的是提供一種無污染、降低成本，節(jié)省原材料，工藝簡單，維修設(shè)備方便的光敏電阻涂層生產(chǎn)工藝。
本發(fā)明的另一目的是提供一種適用于上述工藝的生產(chǎn)設(shè)備。
本發(fā)明所采取的涂層生產(chǎn)工藝是利用沉淀法。
沉淀工藝與噴涂工藝有著本質(zhì)的不同，因為沉淀工藝是在水中進行的，所以，不但要找出硫化鎘薄膜的沉淀方法，而且，也是更重要的是要將沉淀上硫化鎘薄的基板從水溶液中取出。在以前的試驗中對沉淀法的否定就是因為找不到這樣的一種方法。
基板的表面沉淀上硫化鎘并不難，關(guān)鍵的問題是如何拿出這些沉淀上硫化鎘薄膜的基板，經(jīng)過無數(shù)次的試驗，終于找到了一種比較好且比較容易實施的方法，在沉淀溶器的底部開一小孔，基板沉淀上硫化鎘后，打開容器底部的小孔，緩慢的將水引出，這樣，只要水流控制得當，沉淀在基板表面的硫化鎘就能保持不動，經(jīng)多次的試驗，將基板放在網(wǎng)格板上，沉淀好以后，將基板連同網(wǎng)板一起拿出，沉淀效果就更好了。沉淀到基板表面的硫化鎘烘干后，非常光滑平整。
因此，本發(fā)明的光敏電阻涂層沉淀工藝如下1、將配制好的藥液倒入漿料燒杯，然后將燒杯放在磁力攪拌器上。
2、依次打開沉淀臺上的總電源開關(guān)和磁力攪拌器電源開關(guān)以及攪拌器旋鈕開關(guān)。將旋鈕調(diào)至中速，開始攪拌藥液。
3、在沉淀槽里注入適量的沉淀液，水深4.0CM--6.5CM。
4、把基板整列在網(wǎng)板上，然后將網(wǎng)板均勻放置在沉淀槽里，并檢查平整度。
5、開啟步進電動機驅(qū)動器，帶動噴淋泵及噴淋管往復(fù)運動。將藥液均勻地噴灑在沉淀槽內(nèi)。
6、用清洗燒杯中的水沖洗水泵和噴淋管。
7、復(fù)位。按相反順序依次關(guān)掉各電源開關(guān)。
8、蓋上沉淀槽蓋子，讓藥液自然沉淀。
9、6小時后，打開放水閥門，把沉淀液緩速排入蓄水箱中。
10、沉淀液排放完后，讓基板上沉積的一層硫化鎘膜層自然涼干和固定后，輕輕搬動網(wǎng)板，清除吸附網(wǎng)板背面的液體，然后放入烘箱烘干。
由于本明采取了上述工藝方案，與現(xiàn)有噴涂法工藝相比，具有無污染、降低成本、節(jié)省原材料、工藝簡單、維修設(shè)備方便等優(yōu)點。


圖1表示本發(fā)明沉淀工藝流程圖。
如圖1所示，將配制好的硫化鎘混合液(日本稱藥液)倒入漿料燒杯，再加些純水(電阻率要大于10MΩ)，使燒杯液體總量達到8-9成，以防止攪拌時藥液溢出。然后將燒杯放在磁力攪拌器上。
依次打出沉淀臺上的總電源開關(guān)、磁力攪拌器電源開關(guān)和攪拌器電源開關(guān)和攪拌器旋鈕開關(guān)，將旋鈕開關(guān)由小到大調(diào)至中速，使燒杯中的藥液攪拌為旋渦狀即可。攪拌時間為2-3小時，且藥液越勻越好。攪拌過程中，不得隨意停止，要防止意外停電。
在沉淀槽內(nèi)注入適量的沉淀液。沉淀液是由純水配制而成。純水電阻率必須大于10MΩ。沉淀槽嚴禁污染。沉淀液在槽內(nèi)的深度為4.0CM-6.5CM。沉淀槽嚴禁震動和晃動。始終保持平和穩(wěn)。槽內(nèi)的液體不能有任何流動和抖動的跡象。
把陶瓷基板整列在網(wǎng)板上，網(wǎng)板要平整，陶瓷基板才能擺放平整，網(wǎng)板上的陶瓷基板要擺滿，四周稍留有空隙，然后將整列好基板的網(wǎng)板慢慢地放入槽內(nèi)沉淀液中，靠槽底一個網(wǎng)板挨一個網(wǎng)板擺整齊。然后仔細檢查網(wǎng)板的平整度和陶瓷基板的平整度，發(fā)現(xiàn)有不平整的要及時擺平。
開啟步進電動驅(qū)動器，打開電腦，檢查絲杠和道軌確認正常后，給電腦輸入程序。同時將噴淋泵移入正在攪拌的燒杯中，電機啟動，噴淋管以均勻的速度向沉淀槽淋藥液。原則是，由沉淀槽的始端，到沉淀槽的終端，噴淋管的行進速度要一致，不能忽快忽慢，還要將燒杯內(nèi)的藥液全部噴灑完，這樣才能保證噴淋的藥液均勻。
噴完藥液后，將噴淋泵移入盛有純水的燒杯中，開啟泵電源，沖洗噴淋管，待用。
將步進電機復(fù)位，按照相反的順序依次關(guān)掉各電源開關(guān)。
蓋上沉淀槽蓋子，防止槽內(nèi)空氣污染和落入微塵。沉淀液開始自然沉淀。這時，沉淀槽要絕對保持平穩(wěn)，不能有絲毫的震動和抖動。沉淀進程大約需4-6小時。
沉淀4-6小時后，沉淀槽內(nèi)的沉淀液明顯變清，陶瓷基板上均勻地沉積了一層薄薄的硫化鎘藥液膜層。這時打開放水閥，把沉淀液緩慢地通過導(dǎo)管排放在蓄水箱中，排放水的時間6-8小時。
沉淀槽內(nèi)的沉淀液排放完后，讓陶瓷基板上沉積的硫化鎘膜層自然涼干后，輕輕搬動網(wǎng)板，依次取出，吸附網(wǎng)板背面的殘留液體，然后將產(chǎn)品放入烘箱內(nèi)烘干。
整個工藝的重點是，利用沉淀液為載體，均勻地在沉淀槽內(nèi)噴淋硫化鎘藥液。經(jīng)過自然沉淀，使陶瓷基板上均勻地沉積一層硫化鎘膜層，在沉淀過程中，絕對不可以有震動和抖動。
本發(fā)明的第二目的是這樣實現(xiàn)的，一種光阻電阻涂層沉淀裝置，它的主要特點是具有支架，支架上設(shè)置有沉淀池，沉淀池位于支架上部，四周設(shè)置有排水槽，底部設(shè)置有排水管道，與其下部循環(huán)水箱連通；沉淀地的側(cè)面設(shè)置有噴淋泵，噴淋泵分別與藥液杯和噴淋管連接，噴淋管頭設(shè)置有均勻的小孔，藥液杯座落在噴料車上，其下部設(shè)置有磁力攪拌器；噴料車座落在導(dǎo)軌上并與絲桿連動，絲桿與步進電動機連動；循環(huán)水箱通過噴淋管與噴淋泵連通。
由于本發(fā)明采取了上述技術(shù)方案，具有適用于沉淀法生產(chǎn)光阻電阻涂層工藝的特點。
圖2表示本發(fā)明沉淀裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖2所示，本發(fā)明具有支架10，支架10上設(shè)置有沉淀池15，沉淀池15四周設(shè)置有排水槽，底部設(shè)置有排水管道，與其下部循環(huán)水箱5連通；沉淀池15的側(cè)面設(shè)置有噴淋泵13，噴淋泵13分別與藥液杯11和噴淋管14連接，藥液杯11座落在噴料車6上，藥液杯11的下部設(shè)置有磁力攪拌器7，噴料車6上還設(shè)置有清洗杯12，噴料車6座落在導(dǎo)軌8上并與絲桿9連動，絲桿9與步進電動機連動，步進電動機4受驅(qū)動器3驅(qū)動，并受操作控制臺1和計算機2控制步進動作。循環(huán)水箱5通過噴淋管14與噴淋泵13連通，支架1的側(cè)面還設(shè)置有與沉淀池15連通的清洗槽16。
沉淀工藝產(chǎn)品各項參數(shù)測試結(jié)果匯總NO 測度項目及要求測試結(jié)果結(jié)論1沉淀產(chǎn)品的合格率統(tǒng)計 83.1％ 合格2亮電阻、暗電阻、γ值 合格3經(jīng)時測試 90天變化率小于±20％11.25％ 合格360天變化率 4.13％ 合格4、 溫度特性 低溫特性小于±20％ 9.85％ 合格高溫特性小于±20％ 6.48％ 合格5前列效應(yīng)誤差小于±0.3 0.260 合格6溫度沖擊試驗變化率小于±20％ 2.14％ 合格7潮濕試驗變化率小于±20％ 5.90％ 合格測試結(jié)論合格
權(quán)利要求
1.一種光敏電阻涂層沉淀工藝，其特征在于采用以下工藝過程(1)、將配制好的藥液倒入漿料燒杯，然后將燒杯放在磁力攪拌器上；(2)、依次打開沉淀臺上的總電源開關(guān)和磁力攪拌器電源開關(guān)以及攪拌器旋鈕開關(guān)。將旋鈕調(diào)至中速，開始攪拌藥液；(3)、在沉淀槽里注入適量的沉淀液，水深4.0CM--6.5CM；(4)、把基板整列在網(wǎng)板上，然后將網(wǎng)板均勻放置在沉淀槽里，并檢查平整度；(5)、開啟步進電動機驅(qū)動器，帶動噴淋泵及噴淋管往復(fù)運動。將藥液均勻地噴灑在沉淀槽內(nèi)；(6)、用清洗燒杯中的水沖洗水泵和噴淋管；(7)、復(fù)位。按相反順序依次關(guān)掉各電源開關(guān)；(8)、蓋上沉淀槽蓋子，讓藥液自然沉淀；(9)、6小時后，打開放水閥門，把沉淀液緩速排入蓄水箱中；(10)、沉淀液排放完后，讓基板上沉積的一層硫化鎘膜層自然涼干和固定后，輕輕搬動網(wǎng)板，清除吸附網(wǎng)板背面的液體，然后放入烘箱烘干；
2.一種光敏電阻涂層沉淀裝置，其特征在于具有支架，支架上設(shè)置有沉淀池，沉淀池位于支架上部，四周設(shè)置有排水槽，底部設(shè)置有排水管道，與其下部循環(huán)水箱連通；沉淀地的側(cè)面設(shè)置有噴淋泵，噴淋泵分別與藥液杯和噴淋管連接，噴淋管頭設(shè)置有均勻的小孔，藥液杯座落在噴料車上，其下部設(shè)置有磁力攪拌器；噴料車座落在導(dǎo)軌上并與絲桿連動，絲桿與步進電動機連動；循環(huán)水箱通過噴淋管與噴淋泵連通。
全文摘要
本發(fā)明為化工噴涂技術(shù)領(lǐng)域提供一種光敏電阻涂層沉淀工藝,涂層生產(chǎn)工藝是利用沉淀法,將基板放在網(wǎng)格板上,沉淀好以后,將基板連同網(wǎng)板一起拿出,在沉淀溶器的底部開一小孔,基板沉淀上硫化鎘后,打開容器底部的小孔,緩慢的將水引出,本發(fā)明還提供了一種適用于該工藝的沉淀裝置,與現(xiàn)有噴涂法工藝相比,具有無污染、降低成本、節(jié)省原材料、工藝簡單、維修設(shè)備方便等優(yōu)點。
文檔編號H01L31/08GK1383216SQ01121339
公開日2002年12月4日 申請日期2001年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2001年5月31日
發(fā)明者李宗樵, 胡旭東, 楊育興, 王伍慶, 路玉梅, 劉素英, 張紅軍 申請人:南陽利達光電有限公司電子公司