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基板處理方法以及基板處理裝置與流程

文檔序號(hào):11170658閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
提供基板處理方法及基板處理裝置。基板處理方法包括:水分除去工序,從基板上除去水分;硅烷化工序,在所述水分除去工序之后,對(duì)基板供給硅烷化試劑;蝕刻工序,在所述硅烷化工序之后,對(duì)所述基板供給蝕刻劑。所述基板的表面可以露出氮化膜以及氧化膜,此時(shí),所述蝕刻工序可以是通過所述蝕刻劑對(duì)所述氮化膜進(jìn)行選擇蝕刻的選擇蝕刻工序。可以通過供給含有蝕刻成分的蒸汽的方式供給所述蝕刻劑。

技術(shù)研發(fā)人員:太田喬;赤西勇哉;橋詰彰夫
受保護(hù)的技術(shù)使用者:斯克林集團(tuán)公司
文檔號(hào)碼:201210360017
技術(shù)研發(fā)日:2012.09.24
技術(shù)公布日:2017.10.03

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