本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,具體地,涉及一種流量比例控制方法、裝置和半導(dǎo)體加工設(shè)備、計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)。
背景技術(shù):
1、等離子體蝕刻是確保集成電路制造產(chǎn)品質(zhì)量和技術(shù)先進(jìn)性的重要工藝之一,主要應(yīng)用是將曝光顯影在光阻層的圖形傳遞到目標(biāo)材料上,從而形成設(shè)計(jì)要求的圖案以及三維結(jié)構(gòu)。等離子體蝕刻的本質(zhì)過(guò)程是等離子體與目標(biāo)材料發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng),生成可揮發(fā)性副產(chǎn)物,從而實(shí)現(xiàn)圖形傳遞。因此,提供活性強(qiáng)、可反應(yīng)的等離子體至關(guān)重要,而活性較強(qiáng)的氣源成為超大規(guī)模集成電路制造工藝步驟的必要材料來(lái)源,并且隨著半導(dǎo)體器件尺寸越來(lái)越接近物理極限,蝕刻結(jié)果對(duì)氣體輸送越來(lái)越敏感。
2、為了提高刻蝕均勻性,通常需要對(duì)刻蝕機(jī)臺(tái)的工藝腔室分區(qū)進(jìn)氣,例如將工藝腔室的內(nèi)部劃分為中心區(qū)域、中間區(qū)域和邊緣區(qū)域,并對(duì)向各個(gè)區(qū)域通入的氣體流量比例進(jìn)行控制。具體地,對(duì)應(yīng)每個(gè)區(qū)域的進(jìn)氣管路上都設(shè)置有一個(gè)質(zhì)量流量控制器(mfc),根據(jù)預(yù)設(shè)的總氣體流量和多個(gè)區(qū)域的氣體流量比例的目標(biāo)值,對(duì)各個(gè)mfc的流量進(jìn)行控制,以使多個(gè)區(qū)域的氣體流量比例達(dá)到目標(biāo)值。但是,上述流量比例控制方法的精度依賴(lài)于mfc內(nèi)部硬件pid參數(shù)設(shè)置,控制精度不高,而且對(duì)于小流量比例無(wú)法實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定控制。
3、還有一種流量比例控制方式是對(duì)應(yīng)每個(gè)區(qū)域都設(shè)置進(jìn)氣管路組,每個(gè)進(jìn)氣管路組中包括多個(gè)進(jìn)氣管路,且各進(jìn)氣管路上都設(shè)置有通斷閥,通過(guò)選擇性地控制各通斷閥接通或斷開(kāi),來(lái)控制多個(gè)區(qū)域分配的氣體流量比例。這種控制方法的響應(yīng)速度較快,而且對(duì)于小流量比例可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定控制,但是,目前該方法無(wú)法適用于多種不同的硬件參數(shù),而且為達(dá)到所需的氣體流量比例,選擇需要接通的通斷閥組合的方法較復(fù)雜。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一,提出了一種流量比例控制方法、裝置和半導(dǎo)體加工設(shè)備,其可以適用于多種不同的硬件參數(shù),而且獲得需要接通的通斷閥組合采用的方法更簡(jiǎn)單。
2、為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種流量比例控制方法,應(yīng)用于半導(dǎo)體加工設(shè)備,用于選擇性地控制與工藝腔室內(nèi)的多個(gè)不同區(qū)域分別對(duì)應(yīng)的多個(gè)進(jìn)氣管路組中各進(jìn)氣管路上的通斷閥接通或斷開(kāi),以控制向多個(gè)所述區(qū)域分配的氣體流量比例,包括:
3、根據(jù)預(yù)先配置的硬件參數(shù),確定各所述進(jìn)氣管路組中所有進(jìn)氣管路的通氣截面積中的最大值;
4、確定多個(gè)所述區(qū)域中流量比值最大的區(qū)域,并將該區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積設(shè)定為所述最大值;各所述區(qū)域?qū)?yīng)的所述流量比值等于預(yù)設(shè)的目標(biāo)流量值與所有所述區(qū)域的所述目標(biāo)流量值之和的比值;
5、根據(jù)所述最大值以及各區(qū)域?qū)?yīng)的所述流量比值,計(jì)算獲得其他各區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積;
6、根據(jù)其他各區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積,采用預(yù)設(shè)算法獲得其他各區(qū)域?qū)?yīng)的所述進(jìn)氣管路組中需要接通的通斷閥的最優(yōu)組合;
7、控制流量比值最大的區(qū)域?qū)?yīng)的所述進(jìn)氣管路組中通氣截面積最大的進(jìn)氣管路上的通斷閥接通,控制所述最優(yōu)組合中各所述通斷閥接通,并控制不在所述最優(yōu)組合中的其他通斷閥斷開(kāi),以使向多個(gè)所述區(qū)域分配的氣體流量比例達(dá)到目標(biāo)氣體流量比例。
8、可選地,所述硬件參數(shù)包括各所述進(jìn)氣管路組的通斷閥數(shù)量和各所述進(jìn)氣管路在通斷閥處于接通狀態(tài)時(shí)的通氣截面積;
9、所述最大值大于所述進(jìn)氣管路組中除了通氣截面積最大的進(jìn)氣管路之外的其他進(jìn)氣管路的通氣截面積之和。
10、可選地,所述根據(jù)所述最大值以及各區(qū)域?qū)?yīng)的所述流量比值,計(jì)算獲得其他各區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積,包括:
11、計(jì)算所述最大值與最大的所述流量比值的比值,作為總目標(biāo)通氣面積;
12、計(jì)算除了流量比值最大的區(qū)域之外的其他各區(qū)域?qū)?yīng)的流量比值與所述總目標(biāo)通氣面積的乘積,作為其他各區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積。
13、可選地,各所述區(qū)域?qū)?yīng)的所述目標(biāo)流量值的獲取方法包括:
14、根據(jù)當(dāng)前的工藝配方,確定氣體分配裝置中與各所述區(qū)域?qū)?yīng)的進(jìn)氣通道的子目標(biāo)流量值;
15、根據(jù)預(yù)先配置的所述氣體分配裝置中與各所述區(qū)域?qū)?yīng)的進(jìn)氣通道的數(shù)量,以及與各所述區(qū)域?qū)?yīng)的所述子目標(biāo)流量值,計(jì)算獲得各所述區(qū)域?qū)?yīng)的所述目標(biāo)流量值。
16、可選地,對(duì)于所述其他各區(qū)域,所述預(yù)設(shè)算法包括:
17、執(zhí)行n次計(jì)算過(guò)程,獲得n個(gè)最小差值,并將n個(gè)所述最小差值中最小者對(duì)應(yīng)的閥組合作為所述最優(yōu)組合;n為對(duì)應(yīng)的所述進(jìn)氣管路組的通斷閥數(shù)量;
18、其中,第k次所述計(jì)算過(guò)程,k=1,2,...,n,包括:
19、將對(duì)應(yīng)的所述進(jìn)氣管路組的n個(gè)通斷閥排列組合,獲得個(gè)包含k個(gè)需要接通的通斷閥的閥組合;
20、計(jì)算各所述閥組合所包含的k個(gè)通斷閥對(duì)應(yīng)的通氣截面積之和;
21、計(jì)算所述目標(biāo)通氣面積分別與個(gè)所述閥組合對(duì)應(yīng)的所述通氣截面積之和的差值;
22、將個(gè)所述閥組合對(duì)應(yīng)的所述差值中最小的一者作為所述最小差值。
23、可選地,對(duì)于所述其他各區(qū)域,所述預(yù)設(shè)算法包括:
24、執(zhí)行n次計(jì)算過(guò)程,獲得n個(gè)最小差值,并將n個(gè)所述最小差值中最小者對(duì)應(yīng)的閥組合作為所述最優(yōu)組合;n為對(duì)應(yīng)的所述進(jìn)氣管路組的通斷閥數(shù)量;
25、其中,第k次所述計(jì)算過(guò)程,k=1,2,...,n,包括:
26、將對(duì)應(yīng)的所述進(jìn)氣管路組的n個(gè)通斷閥排列組合,獲得個(gè)包含k個(gè)通斷閥的閥組合;
27、計(jì)算各所述閥組合所包含的k個(gè)通斷閥對(duì)應(yīng)的通氣截面積之和;
28、按從小到大的順序?qū)€(gè)所述閥組合對(duì)應(yīng)的所述通氣截面積之和進(jìn)行排序;
29、按所述通氣截面積之和的排序,依次計(jì)算各所述通氣截面積之和與所述目標(biāo)通氣面積的差值,并在本次計(jì)算獲得的差值大于上一次計(jì)算獲得的差值時(shí),將上一次計(jì)算獲得的差值作為所述最小差值,并停止下一次計(jì)算;在本次計(jì)算獲得的差值小于或等于上一次計(jì)算獲得的差值時(shí),繼續(xù)下一次計(jì)算,直至當(dāng)前獲得的差值大于上一次計(jì)算獲得的差值,并將上一次計(jì)算獲得的差值作為所述最小差值。
30、可選地,在n個(gè)所述最小差值中最小者有多個(gè)的情況下,選擇所有最小者對(duì)應(yīng)的所述閥組合中所包含的通斷閥數(shù)量最少的閥組合作為所述最優(yōu)組合。
31、可選地,對(duì)于所述其他各區(qū)域,所述預(yù)設(shè)算法包括:
32、將res[j]=0,j為目標(biāo)通氣面積,且j=0,1,2,...,target,target為所述區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積;res[j]為最接近j的閥組合的通氣截面積之和;res[0]表示對(duì)應(yīng)的進(jìn)氣管路組的所有通斷閥均處于斷開(kāi)狀態(tài);
33、對(duì)所述進(jìn)氣管路組的各通斷閥執(zhí)行下述計(jì)算過(guò)程,以獲得所述最優(yōu)組合:
34、選取第i個(gè)通斷閥;i=1,2,...,n,n為對(duì)應(yīng)的所述進(jìn)氣管路組的通斷閥數(shù)量;
35、計(jì)算獲得sum,其中,sum=res[j-s[i]]+s[i],s[i]為第i個(gè)通斷閥在接通時(shí)的通氣截面積;res[j-s[i]]為最接近j-s[i]的閥組合的通氣截面積之和;j=target;
36、在sum大于res[j]時(shí),使res[j]=sum,并記錄在j=target時(shí),需要打開(kāi)第i個(gè)通斷閥,且在j大于1的情況下,使target-1,并返回所述選取第i個(gè)通斷閥;在j小于等于1的情況下,將i+1,并返回所述選取第i個(gè)通斷閥;
37、在sum小于等于res[j]時(shí),將i+1,并返回所述選取第i個(gè)通斷閥。
38、可選地,在所述控制流量比值最大的區(qū)域?qū)?yīng)的所述進(jìn)氣管路組中通氣截面積最大的進(jìn)氣管路上的通斷閥接通,控制所述最優(yōu)組合中各所述通斷閥接通,并控制不在所述最優(yōu)組合中的其他通斷閥斷開(kāi)之后,還包括:
39、獲取當(dāng)前工藝步驟對(duì)應(yīng)的各所述區(qū)域?qū)?yīng)的實(shí)際流量值;
40、計(jì)算獲得各所述區(qū)域?qū)?yīng)的流量調(diào)整值,所述流量調(diào)整值等于所述實(shí)際流量值與所述目標(biāo)流量值的差值與預(yù)設(shè)的微調(diào)系數(shù)的乘積;
41、將下一工藝步驟對(duì)應(yīng)的所述目標(biāo)流量值替換為所述流量調(diào)整值。
42、作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種流量比例控制裝置,包括:
43、至少一個(gè)處理器;
44、存儲(chǔ)器,其上存儲(chǔ)有至少一個(gè)程序;
45、當(dāng)所述至少一個(gè)程序被所述至少一個(gè)處理器執(zhí)行時(shí),使得所述至少一個(gè)處理器實(shí)現(xiàn)本發(fā)明提供的上述流量比例控制方法。
46、作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種半導(dǎo)體加工設(shè)備,包括工藝腔室、多個(gè)進(jìn)氣管路組、氣體分配裝置和控制器,其中,所述工藝腔室內(nèi)劃分有多個(gè)不同的區(qū)域;所述氣體分配裝置中對(duì)應(yīng)每個(gè)所述區(qū)域均設(shè)置有多個(gè)進(jìn)氣通道;多個(gè)所述進(jìn)氣管路組與多個(gè)所述區(qū)域一一對(duì)應(yīng),且各所述進(jìn)氣管路組通過(guò)與之對(duì)應(yīng)的所述區(qū)域?qū)?yīng)的各所述進(jìn)氣通道向所述區(qū)域通入氣體;每個(gè)所述進(jìn)氣管路組均包括并聯(lián)的多個(gè)進(jìn)氣管路,每個(gè)所述進(jìn)氣管路上均設(shè)置有通斷閥和節(jié)流閥,所述節(jié)流閥用于設(shè)定其所在進(jìn)氣管路在所述通斷閥接通時(shí)的通氣截面積;
47、所述控制器采用本發(fā)明提供的上述流量比例控制方法,選擇性地控制各所述進(jìn)氣管路組中各進(jìn)氣管路上的通斷閥接通或斷開(kāi),以控制向多個(gè)所述區(qū)域分配的氣體流量比例。
48、作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì),其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,其中,所述程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)本發(fā)明提供的上述流量比例控制方法。
49、本發(fā)明具有以下有益效果:
50、本發(fā)明提供的流量比例控制方法和裝置的技術(shù)方案中,可以在硬件參數(shù)改變時(shí)對(duì)新的硬件參數(shù)預(yù)先進(jìn)行配置,可以適配于多種不同的硬件參數(shù),進(jìn)而既可以提高配置靈活性,又具備通用性。在此基礎(chǔ)上,通過(guò)確定進(jìn)氣管路組中所有進(jìn)氣管路的通氣截面積中的最大值,并確定多個(gè)區(qū)域中流量比值最大的區(qū)域,且將該區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積設(shè)定為上述最大值,即可獲得流量比值最大的區(qū)域的目標(biāo)通氣面積,再根據(jù)該根據(jù)最大值以及各區(qū)域?qū)?yīng)的流量比值,可以計(jì)算獲得其他各區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積,根據(jù)其他各區(qū)域?qū)?yīng)的的目標(biāo)通氣面積,采用預(yù)設(shè)算法獲得其他各區(qū)域?qū)?yīng)的進(jìn)氣管路組中需要接通的通斷閥的最優(yōu)組合。本發(fā)明無(wú)需獲取流量比值最大的區(qū)域?qū)?yīng)的閥組合,而是直接控制該區(qū)域?qū)?yīng)的進(jìn)氣管路組中通氣截面積最大的進(jìn)氣管路上的通斷閥接通,從而可以省去一個(gè)區(qū)域的閥組合的計(jì)算,同時(shí)因?yàn)榱髁勘戎底畲蟮膮^(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積是已知的,其他各區(qū)域?qū)?yīng)的目標(biāo)通氣面積的計(jì)算方法更簡(jiǎn)單,從而無(wú)需進(jìn)行復(fù)雜計(jì)算,算法更簡(jiǎn)單。
51、本發(fā)明提供的半導(dǎo)體加工設(shè)備,其通過(guò)采用本發(fā)明提供的上述流量比例控制裝置,可以適用于多種不同的硬件參數(shù),而且獲得需要接通的閥組合采用的方法更簡(jiǎn)單。