基板處理設(shè)備和基板處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種適合在對包含各種材質(zhì)(玻璃、合成樹脂、金屬等)的基板的端面進行蝕刻時應(yīng)用的基板處理設(shè)備和基板處理方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在這種基板處理設(shè)備中，進行以下基板處理:通過將基板(被處理物)浸漬到貯存于處理槽的蝕刻液(處理藥液)中，來利用蝕刻液對該基板的端面進行蝕刻。當(dāng)持續(xù)進行這樣的基板處理時，伴隨著蝕刻的化學(xué)反應(yīng)，處理槽內(nèi)的蝕刻液升溫而成為高溫(例如約50°C )，有可能產(chǎn)生對基板造成不良影響的問題(例如導(dǎo)致基板被過度地蝕刻)。因而，為了事先避免這種問題，需要在蝕刻處理中對蝕刻液進行冷卻來將蝕刻液保持在規(guī)定的溫度范圍內(nèi)。
[0003]作為其方法，以往，一般利用以下技術(shù):在冷卻水所流經(jīng)的冷卻裝置內(nèi)配置蝕刻液循環(huán)管路，通過使蝕刻液在該蝕刻液循環(huán)管路內(nèi)通過，來使蝕刻液與冷卻水之間進行熱交換，從而對該蝕刻液進行冷卻(例如參照日本特開2000-96264號公報(第〔0035〕段?〔0037〕段、圖 1、圖 3)。
[0004]然而，在以往的這種利用熱交換的方法中，蝕刻液在蝕刻液循環(huán)管路內(nèi)流動，因此，在蝕刻液是強酸性調(diào)合液的情況下，僅能夠?qū)⒕邆淠突瘜W(xué)品性(耐酸性)的材料(耐酸合金等)用作蝕刻液循環(huán)管路的材料。另外，由于經(jīng)由蝕刻液循環(huán)管路進行熱交換，因此，期望的是，盡量將熱傳導(dǎo)率大的材料用作蝕刻液循環(huán)管路的材料，以提高熱交換的效率。因而，需要一種具備耐化學(xué)品性并且熱傳導(dǎo)率大的材料，但現(xiàn)狀是這種材料實際上非常少。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供如下一種基板處理設(shè)備和基板處理方法:通過在蝕刻處理中對蝕刻液進行冷卻，能夠在避免由于蝕刻液成為高溫而對基板產(chǎn)生不良影響的同時繼續(xù)進行基板處理。
[0006]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所涉及的基板處理設(shè)備具有用于貯存蝕刻液的處理槽，該基板處理設(shè)備構(gòu)成為:通過將基板浸漬到貯存于該處理槽的蝕刻液中，來利用該蝕刻液對該基板進行蝕刻，該基板處理設(shè)備的特征在于，設(shè)置有蝕刻冷卻單元，該蝕刻冷卻單元向用于蝕刻上述基板的蝕刻液送入冷卻空氣來對該蝕刻液進行冷卻。
[0007]優(yōu)選的是，本發(fā)明的基板處理設(shè)備還設(shè)置有蝕刻循環(huán)供給機構(gòu)，該蝕刻循環(huán)供給機構(gòu)具備貯存槽和冷卻槽，使上述處理槽內(nèi)的蝕刻液經(jīng)由上述貯存槽和上述冷卻槽返回到上述處理槽，其中，該貯存槽用于從上述處理槽回收蝕刻液并暫時貯存所回收的蝕刻液，該冷卻槽用于取入該貯存槽內(nèi)貯存的蝕刻液并對所取入的蝕刻液進行冷卻，上述蝕刻冷卻單元包括冷卻空氣管和冷卻空氣供給裝置，其中，該冷卻空氣管具有將內(nèi)外連通的噴出口，以浸漬于蝕刻液的狀態(tài)配置于上述冷卻槽的內(nèi)部，該冷卻空氣供給裝置向該冷卻空氣管的內(nèi)部供給冷卻空氣。
[0008]優(yōu)選的是，在本發(fā)明的基板處理設(shè)備中，上述冷卻空氣管大致水平地配置于上述冷卻槽的內(nèi)部，以從上述噴出口朝向下方噴出冷卻空氣的方式構(gòu)成。
[0009]優(yōu)選的是，在本發(fā)明的基板處理設(shè)備中構(gòu)成為:貯存于上述貯存槽的內(nèi)部的蝕刻液的上清液被供給到上述冷卻槽。
[0010]優(yōu)選的是，在本發(fā)明的基板處理設(shè)備中，并排地設(shè)置有多個上述處理槽，且設(shè)置有向這些處理槽大致均等地分配并供給蝕刻液的均衡槽。
[0011]優(yōu)選的是，本發(fā)明的基板處理設(shè)備還設(shè)置有蝕刻加熱單元，該蝕刻加熱單元對用于蝕刻上述基板的蝕刻液進行加熱。
[0012]優(yōu)選的是，本發(fā)明的基板處理設(shè)備構(gòu)成為:通過適當(dāng)?shù)厥褂蒙鲜鑫g刻冷卻單元和上述蝕刻加熱單元中的至少一方，來將用于蝕刻上述基板的蝕刻液保持在規(guī)定的溫度范圍內(nèi)。
[0013]本發(fā)明所涉及的基板處理方法通過將基板浸漬到貯存于處理槽的蝕刻液中，來利用該蝕刻液對該基板進行蝕刻，該基板處理方法的特征在于，向用于蝕刻上述基板的蝕刻液送入冷卻空氣來對該蝕刻液進行冷卻。
[0014]根據(jù)本發(fā)明，通過利用蝕刻冷卻單元向蝕刻液送入冷卻空氣，能夠?qū)ξg刻液進行冷卻。因而，能夠在避免由于蝕刻液成為高溫而對基板產(chǎn)生不良影響的同時繼續(xù)進行基板處理。
[0015]在本發(fā)明中，即使在強酸性調(diào)合液的蝕刻液內(nèi)使用冷卻空氣管的情況下，只要使用針對該蝕刻液具備耐化學(xué)品性的配管即可，也能夠使用不具備熱傳導(dǎo)率大這一特性的配管。其結(jié)果，冷卻空氣管的材料的選擇范圍擴大，能夠低成本地構(gòu)建基板處理設(shè)備。
[0016]在本發(fā)明中，通過使冷卻空氣以從冷卻空氣管的噴出口朝向下方噴出后朝向上方的方式進行對流，能夠攪拌(Stirring)該蝕刻液來均勾地進行冷卻。因而，能夠?qū)睦鋮s槽返回到處理槽的蝕刻液調(diào)整為均勻的溫度。
[0017]在本發(fā)明中，通過將貯存于貯存槽的內(nèi)部的蝕刻液的上清液供給到冷卻槽，能夠使腐蝕生成物沉淀到貯存槽的底部，從而能夠?qū)缀醪缓懈g生成物的蝕刻液供給到冷卻槽進而供給到處理槽。其結(jié)果，能夠保持蝕刻液對基板的腐蝕能力，能夠貫穿對多個基板進行蝕刻的所有工序而維持蝕刻的成品品質(zhì)。
[0018]在本發(fā)明中，通過使用均衡槽，能夠向多個處理槽大致均等地分配蝕刻液并均衡性良好地供給蝕刻液。其結(jié)果，能夠事先避免在這些處理槽之間產(chǎn)生蝕刻液過量或不足的情形，能夠利用多個處理槽順利地進行高效的基板處理。
[0019]在本發(fā)明中，通過設(shè)置蝕刻加熱單元，能夠事先避免蝕刻液的溫度過度降低的情形。因而，能夠消除因蝕刻液的溫度過度降低導(dǎo)致的不良影響。
[0020]在本發(fā)明中，通過適當(dāng)?shù)厥褂梦g刻冷卻單元和蝕刻加熱單元來將蝕刻液保持在規(guī)定的溫度范圍內(nèi)，能夠最大限度地發(fā)揮蝕刻液的腐蝕能力，從而能夠迅速且可靠地執(zhí)行基板處理。
【附圖說明】
[0021]參照以下的附圖來說明本發(fā)明的其它目的和優(yōu)點。
[0022]圖1是表示本發(fā)明的實施方式I所涉及的基板處理設(shè)備的主視圖。
[0023]圖2是表示該實施方式I所涉及的基板處理設(shè)備的控制裝置的控制框圖。
[0024]圖3A、圖3B、圖3C以及圖3D分別是表示蝕刻液的溫度推移的例子的曲線圖。
【具體實施方式】
[0025]下面，說明本發(fā)明的實施方式。
[0026]圖1至圖3表示本發(fā)明的實施方式I。
[0027]如圖1所示，實施方式I所涉及的基板處理設(shè)備I具有并排地設(shè)置在一條直線上的三個六面體箱形的處理槽2。形成為能夠在各處理槽2的內(nèi)部分別貯存蝕刻液S。在這三個處理槽2的附近(圖1中右方)設(shè)置有六面體箱形的循環(huán)槽3，形成為能夠在循環(huán)槽3的內(nèi)部貯存蝕刻液S。在此，各處理槽2分別通過單獨(共計三根)的連通管5而與循環(huán)槽3在底部的附近連結(jié)。因此，根據(jù)帕斯卡原理，貯存于三個處理槽2和循環(huán)槽3這些槽的內(nèi)部的蝕刻液S的液面始終為相同高度。并且，在循環(huán)槽3處安裝有對貯存于其內(nèi)部的蝕刻液S的液面進行檢測的液面?zhèn)鞲衅?浮動開關(guān))6。
[0028]另外，如圖1所示，在循環(huán)槽3的附近(圖1中右方)設(shè)置有六面體箱形的貯存槽7，形成為能夠在貯存槽7的內(nèi)部貯存蝕刻液S。在循環(huán)槽3與貯存槽7之間配置有蝕刻液供給管9，在蝕刻液供給管9的途中設(shè)置有循環(huán)栗10和循環(huán)閥11。而且，構(gòu)成為:通過在打開了循環(huán)閥11的狀態(tài)下驅(qū)動循環(huán)栗10，能夠經(jīng)由蝕刻液供給管9將循環(huán)槽3內(nèi)的蝕刻液S供給到貯存槽7的內(nèi)部。此外，在貯存槽7的內(nèi)部的上部附近安裝有擋板12，只有越過該擋板12的蝕刻液S被引導(dǎo)至出口 7a。
[0029]另外，如圖1所示，在貯存槽7的附近(圖1中左方)設(shè)置有六面體箱形的冷卻槽15，形成為能夠在冷卻槽15的內(nèi)部貯存蝕刻液S。在該冷卻槽15處安裝有對貯存于其內(nèi)部的蝕刻液S的溫度進行檢測的熱敏電阻器等測溫電阻器16，并且設(shè)置有對該蝕刻液S進行加熱的電加熱器17。并且，在冷卻槽15的內(nèi)部，上下兩層地水平配置有包含具備耐化學(xué)品性的合成樹脂的兩個冷卻空氣管19。各冷卻空氣管19分別具有以下構(gòu)造:在圓筒狀的管主體19a的下部，以朝向下方的方式等間隔地形成有多個噴出口 19b，管主體19a的一端(圖1中左側(cè)的端部)被封閉，并且在管主體19a的另一端(圖1中右側(cè)的端部)形成有吸氣口 19c。此外，各噴出口 19b分別形成為規(guī)定的直徑(例如5mm?12mm)的圓形。另外，在貯存槽7的出口 7a與冷卻槽15的入口 15a之間，以相對于水平面傾斜的形式配置有蝕刻液供給管29，構(gòu)成為:從貯存槽7的出口 7a排出的蝕刻液S由于其自重而在蝕刻液供給管29內(nèi)流下，從而從冷卻槽15的入口 15a被供給到冷卻槽15的內(nèi)部。
[0030]另外，如圖1所示，在冷卻槽15的附近(圖1中右方)設(shè)置有冷卻空氣供給裝置20，在冷卻空氣供給裝置20與冷卻槽15之間配置有冷卻空氣供給管21。該冷卻空氣供給管21在從冷卻空氣供給裝置20朝向冷卻槽15的途中分支為兩個冷卻空氣供給管之后，與兩個冷卻空氣管19的吸氣口 19c分別連接，在其分支后的部位分別設(shè)置有冷卻閥22。而且，構(gòu)成為:通過在打開了兩個冷卻閥22的狀態(tài)下將冷卻空氣供給裝置20的電源接通，能夠?qū)⒁?guī)定的溫度范圍(例如_5°C?_30°C )的冷卻空氣A從冷卻空氣供給裝置20經(jīng)由冷卻空氣供給管21供給到兩個冷卻空氣管19。
[0031]并且，如圖1所示，在冷卻槽15的附近(圖1中左方)設(shè)置有均衡槽23，該均衡槽23用于將蝕刻液S大致均等地(即、各1/3)分配并供給到三個處理槽2。另外，在冷卻槽15的出口 15b與均衡槽23的入口 23a之間，以相對于水平面傾斜的形式配置有蝕刻液供給管30，構(gòu)成為:從冷卻槽15的出口 15b排出的蝕刻液S由于其自重而在蝕刻液供給管30內(nèi)流下，從而從均衡槽23的入口 23a被供給到均衡槽23的內(nèi)部。
[0032]另外，如圖1所示，基板處理設(shè)備I具有控制盤25，在控制盤25中組裝有控制裝置26。如圖2所示，該控制裝置26具有主控制部27，主控制部27上連接有循環(huán)控制部31和溫度控制部32。在此，在循環(huán)控制部31的輸入側(cè)連接有上述液面?zhèn)鞲衅?，并且在輸出側(cè)連接有上述循環(huán)栗10和上述循環(huán)閥11。另一方面，在溫度控制部32的輸入側(cè)連接有上測述溫電阻器16，并且在輸出側(cè)連接有上述冷卻空氣供給裝置20、上述冷卻閥22以及上述電加熱器17。
[0033]基板處理設(shè)備I具有如上所述的結(jié)構(gòu)，因此，在該基板處理設(shè)備I中，在對長方形板狀的含有玻璃的多個基板33的端面33a連續(xù)地進行蝕刻時，在將第一個基板33分別在貯存于各處理槽2的蝕刻液S中浸漬規(guī)定時間之后，從處理槽2取出這三個基板33。接著，在將第二個基板33分別在貯存于各處理槽2的蝕刻液S中浸漬規(guī)定時間之后，從處理槽2取出這三個基板33。在之后同樣地從處理槽2取出最后的基板33后，多個基板33的端面33a