一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置的制造方法
【專利摘要】一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置，包括氮?dú)庋b置、真空冷卻箱、排真空回收和發(fā)散裝置，所述氮?dú)庋b置包括氮?dú)鈨?chǔ)存裝置、氮?dú)饨鈮貉b置、調(diào)壓排送裝置，三者依次串聯(lián)在氮?dú)廨斔凸苌希獨(dú)庋b置和排真空回收和發(fā)散裝置連接在真空冷卻箱上；真空冷卻箱包括至少兩只真空箱，兩者并列設(shè)置，兩者之間設(shè)置進(jìn)氣分氣管，所述真空箱還設(shè)置有排氣管和交換管，一只真空箱與另一只并列設(shè)置的真空箱的交換管都連接在它們之間的氣體交換裝置中；排真空回收和發(fā)散泵組其中至少2組為氮?dú)馀耪婵栈厥蘸桶l(fā)散泵，3組為空氣排真空回收和發(fā)散泵，所述排真空回收和發(fā)散泵的所有進(jìn)出氣管都串聯(lián)在主抽氣管和主排放管上。
【專利說明】
一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及熱處理裝置領(lǐng)域，具體為一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]高溫高真空退火裝置是晶振制造過程中的一種冷卻裝置，它能滿足該冷卻要求，但真空加工下還是應(yīng)密封度和溫度等原因產(chǎn)生真空環(huán)境需要大量的限制條件，從而造成的成本上升，所以我們需要能多批量生產(chǎn)的真空退火裝置。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的是設(shè)計(jì)一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置，擁有兩個(gè)或兩個(gè)以上的真空箱，能輪流或共同進(jìn)行冷卻處理，并且可以更加節(jié)約的利用冷卻氣體。
[0004]本實(shí)用新型是通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置，包括氮?dú)庋b置、真空冷卻箱、排真空回收和發(fā)散裝置，所述氮?dú)庋b置包括氮?dú)鈨?chǔ)存裝置、氮?dú)饨鈮貉b置、調(diào)壓排送裝置，三者依次串聯(lián)在氮?dú)廨斔凸苌?，氮?dú)庋b置和排真空回收和發(fā)散裝置連接在真空冷卻箱上；
[0005]真空冷卻箱包括至少兩只真空箱，兩者并列設(shè)置，兩者之間設(shè)置進(jìn)氣分氣管，所述真空箱還設(shè)置有排氣管和交換管，一只真空箱與另一只并列設(shè)置的真空箱的交換管都連接在它們之間的氣體交換裝置中，所述氣體交換裝置，包括氣栗和氣體暫存?zhèn)}，所述氣體交換裝置也設(shè)置有排氣管；
[0006]所述排氣管連接排真空回收和發(fā)散裝置，所述排氣管和交換管、進(jìn)氣分氣管上都設(shè)置有氣栗；
[0007]所述真空回收和發(fā)散裝置包括若干組排真空回收和發(fā)散栗組、氮?dú)膺m力裝置，所述氮?dú)膺m力裝置設(shè)置連接在輸送真空冷卻箱和排真空回收和發(fā)散栗組之間，氮?dú)膺m力裝置包括T形分氣管和設(shè)置在T型輸氣管左邊的壓力栗，以及右邊的適壓栗組成，適壓栗通過內(nèi)排送管連接到真空回收和發(fā)散裝置上，壓力栗通過單循環(huán)管連接到適壓栗；
[0008]排真空回收和發(fā)散栗組其中至少2組為氮?dú)馀耪婵栈厥蘸桶l(fā)散栗，3組為空氣排真空回收和發(fā)散栗，所述排真空回收和發(fā)散栗的所有進(jìn)出氣管都串聯(lián)在主抽氣管和主排放管上。
[0009]作為優(yōu)選所述氮?dú)馀耪婵栈厥蘸桶l(fā)散栗由調(diào)壓栗、解壓栗、氮?dú)膺^濾裝置、氮?dú)鈨?chǔ)存筒組成，所述空氣輔助排真空回收和發(fā)散栗由空氣調(diào)壓栗、空氣解壓栗，空氣過濾裝置、空氣排出栗組成。
[0010]作為優(yōu)選所述真空冷卻箱和排真空回收和發(fā)散裝置之間還設(shè)置有冷壓縮機(jī)。
[0011]本實(shí)用新型與【背景技術(shù)】相比，具有的有益的效果是:擁有兩個(gè)或兩個(gè)以上的真空箱，能輪流或共同進(jìn)行冷卻處理，并且可以更加節(jié)約的利用冷卻氣體，可以任一控制一個(gè)真空箱進(jìn)行使用，也可以控制2個(gè)真空箱進(jìn)行使用，2個(gè)或2個(gè)真空箱進(jìn)行使用的時(shí)候是一定會(huì)有一定時(shí)間間隔進(jìn)行開箱和進(jìn)料的，所以本裝置能解除這個(gè)空隙時(shí)間中的同步排氣和進(jìn)氣的問題，也能降多于的氣體補(bǔ)氣到旁邊的一個(gè)真空箱中。
【附圖說明】

[0012]圖1為本實(shí)用新型整體組合圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面通過實(shí)施例，結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說明:
[0014]如圖1所示，一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置，包括氮?dú)庋b置
(1)、真空冷卻箱(2)、排真空回收和發(fā)散裝置(3)，所述氮?dú)庋b置包括氮?dú)鈨?chǔ)存裝置(4)、氮?dú)饨鈮貉b置(5)、調(diào)壓排送裝置(6)，三者依次串聯(lián)在氮?dú)廨斔凸?7)上，氮?dú)庋b置和排真空回收和發(fā)散裝置連接在真空冷卻箱上；
[0015]真空冷卻箱包括至少兩只真空箱(8)，兩者并列設(shè)置，兩者之間設(shè)置進(jìn)氣分氣管
(9)，所述真空箱還設(shè)置有排氣管(10)和交換管(11)，一只真空箱與另一只并列設(shè)置的真空箱的交換管都連接在它們之間的氣體交換裝置(12)中，所述氣體交換裝置，包括氣栗(13)和氣體暫存?zhèn)}(14)，所述氣體交換裝置也設(shè)置有排氣管；
[0016]所述排氣管連接排真空回收和發(fā)散裝置，所述排氣管、交換管、進(jìn)氣分氣管上都設(shè)置有氣栗(15);
[0017]所述真空回收和發(fā)散裝置包括若干組排真空回收和發(fā)散栗組(16)、氮?dú)膺m力裝置
[17]，所述氮?dú)膺m力裝置設(shè)置連接在輸送真空冷卻箱和排真空回收和發(fā)散栗組之間，氮?dú)膺m力裝置包括T形分氣管(18)和設(shè)置在T型輸氣管左邊的壓力栗(19)，以及右邊的適壓栗
(20)組成，適壓栗通過內(nèi)排送管(21)連接到真空回收和發(fā)散裝置上，壓力栗通過單循環(huán)管
(22)連接到適壓栗；
[0018]排真空回收和發(fā)散栗組其中至少2組為氮?dú)馀耪婵栈厥蘸桶l(fā)散栗(23)，3組為空氣排真空回收和發(fā)散栗(24)，所述排真空回收和發(fā)散栗的所有進(jìn)出氣管都串聯(lián)在主抽氣管
(25)和主排放管(26)上。
[0019]作為優(yōu)選所述氮?dú)馀耪婵栈厥蘸桶l(fā)散栗由調(diào)壓栗、解壓栗、氮?dú)膺^濾裝置、氮?dú)鈨?chǔ)存筒組成，所述空氣輔助排真空回收和發(fā)散栗由空氣調(diào)壓栗、空氣解壓栗，空氣過濾裝置、空氣排出栗組成。
[0020]作為優(yōu)選所述真空冷卻箱和排真空回收和發(fā)散裝置之間還設(shè)置有冷壓縮機(jī)(27)。
[0021]本文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型精神作舉例說明。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，但并不會(huì)偏離本實(shí)用新型的精神或者超越所附權(quán)利要求書所定義的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置，其特征是:包括氮?dú)庋b置(I)、真空冷卻箱(2)、排真空回收和發(fā)散裝置(3)，所述氮?dú)庋b置包括氮?dú)鈨?chǔ)存裝置(4)、氮?dú)饨鈮貉b置(5)、調(diào)壓排送裝置(6)，三者依次串聯(lián)在氮?dú)廨斔凸?7)上，氮?dú)庋b置和排真空回收和發(fā)散裝置連接在真空冷卻箱上； 真空冷卻箱包括至少兩只真空箱(8)，兩者并列設(shè)置，兩者之間設(shè)置進(jìn)氣分氣管(9)，所述真空箱還設(shè)置有排氣管(10)和交換管(11)，一只真空箱與另一只并列設(shè)置的真空箱的交換管都連接在它們之間的氣體交換裝置(12)中，所述氣體交換裝置，包括氣栗(13)和氣體暫存?zhèn)}(14)，所述氣體交換裝置也設(shè)置有排氣管； 所述排氣管連接排真空回收和發(fā)散裝置，所述排氣管、交換管、進(jìn)氣分氣管上都設(shè)置有氣栗(15); 所述真空回收和發(fā)散裝置包括若干組排真空回收和發(fā)散栗組(16)、氮?dú)膺m力裝置(17)，所述氮?dú)膺m力裝置設(shè)置連接在輸送真空冷卻箱和排真空回收和發(fā)散栗組之間，氮?dú)膺m力裝置包括T形分氣管(18)和設(shè)置在T型輸氣管左邊的壓力栗(19)，以及右邊的適壓栗(20)組成，適壓栗通過內(nèi)排送管(21)連接到真空回收和發(fā)散裝置上，壓力栗通過單循環(huán)管(22)連接到適壓栗； 排真空回收和發(fā)散栗組其中至少2組為氮?dú)馀耪婵栈厥蘸桶l(fā)散栗(23)，3組為空氣排真空回收和發(fā)散栗(24)，所述排真空回收和發(fā)散栗的所有進(jìn)出氣管都串聯(lián)在主抽氣管(25)和主排放管(26)上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置，其特征是:所述所述氮?dú)馀耪婵栈厥蘸桶l(fā)散栗由調(diào)壓栗、解壓栗、氮?dú)膺^濾裝置、氮?dú)鈨?chǔ)存筒組成，所述空氣輔助排真空回收和發(fā)散栗由空氣調(diào)壓栗、空氣解壓栗，空氣過濾裝置、空氣排出栗組成。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低應(yīng)力低氧化處理的高溫高真空退火裝置，其特征是:所述真空冷卻箱和排真空回收和發(fā)散裝置之間還設(shè)置有冷壓縮機(jī)(27)。
【文檔編號(hào)】H03H3/02GK205725675SQ201620593867
【公開日】2016年11月23日
【申請(qǐng)日】2016年6月18日
【發(fā)明人】湯海燕
【申請(qǐng)人】匯隆電子（金華）有限公司