技術(shù)編號：41950543
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于真空離子鍍膜領(lǐng)域，特別涉及一種直筒磁過濾電弧。背景技術(shù)、電弧離子鍍技術(shù)具有離化率高，沉積速率快，結(jié)合強度好的特點，得到了廣泛的應(yīng)用，但是其缺點就是容易產(chǎn)生大顆粒破壞涂層質(zhì)量，未解決該問題出現(xiàn)了彎管磁過濾電弧，雖然可以解決大顆粒問題但是沉積速率大幅下降，且涂層均勻性差，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，成本較高。技術(shù)實現(xiàn)思路、本發(fā)明在于克服上述技術(shù)不足，提供一種直筒磁過濾電弧，可以有效的去除大顆粒并且保持電弧原有的沉積速率，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉。、本發(fā)明解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:?一種直筒磁過濾電弧，...
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