技術(shù)編號(hào)：41952441
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種曝光裝置。背景技術(shù)、在制造半導(dǎo)體元件及液晶顯示元件等的光刻工序中，例如主要使用步進(jìn)重復(fù)方式的投影曝光裝置(所謂的步進(jìn)器)、或者步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)器(也被稱作掃描儀))等。、此種曝光裝置中，在保持基板的基板保持具上配置基板時(shí)，存在改變基板的方向而配置，或者配置多片基板的情形(例如專利文獻(xiàn))。要求對(duì)如此那樣以各種形態(tài)配置的基板的位置進(jìn)行檢測(cè)。、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)、專利文獻(xiàn)、專利文獻(xiàn)：日本專利特開-號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、根據(jù)公開的實(shí)施例...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。