本發(fā)明涉及一種曝光裝置。

背景技術(shù)：

1、在制造半導(dǎo)體元件及液晶顯示元件等的光刻工序中，例如主要使用步進(jìn)重復(fù)方式的投影曝光裝置(所謂的步進(jìn)器)、或者步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)器(也被稱作掃描儀))等。

2、此種曝光裝置中，在保持基板的基板保持具上配置基板時(shí)，存在改變基板的方向而配置，或者配置多片基板的情形(例如專利文獻(xiàn)1)。要求對(duì)如此那樣以各種形態(tài)配置的基板的位置進(jìn)行檢測(cè)。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)

5、專利文獻(xiàn)1：日本專利特開2020-194007號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、根據(jù)公開的實(shí)施例，曝光裝置具備：保持部，保持多個(gè)基板；多個(gè)第一傳感器，檢測(cè)所述多個(gè)基板各自相對(duì)于所述保持部的位置；載臺(tái)部，配置所述多個(gè)基板；以及多個(gè)第二傳感器，檢測(cè)所述多個(gè)基板各自相對(duì)于所述載臺(tái)部的位置，所述多個(gè)第二傳感器的數(shù)量少于所述多個(gè)第一傳感器的數(shù)量。

2、根據(jù)另一公開的實(shí)施例，曝光裝置具備：保持部，保持基板；多個(gè)第一傳感器，檢測(cè)所述基板相對(duì)于所述保持部的位置；載臺(tái)部，配置所述基板；以及多個(gè)第二傳感器，檢測(cè)所述基板相對(duì)于所述載臺(tái)部的位置，所述多個(gè)第二傳感器的數(shù)量少于所述多個(gè)第一傳感器的數(shù)量。

3、此外，也可適當(dāng)改良后述實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)，又，也可使至少一部分被其他結(jié)構(gòu)物替代。進(jìn)而，對(duì)于其配置無(wú)特別限定的結(jié)構(gòu)要件并不限于實(shí)施方式中公開的配置，可配置于可實(shí)現(xiàn)其功能的位置。

技術(shù)特征：

1.一種曝光裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，還包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，還包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光裝置，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的曝光裝置，其特征在于，

11.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的曝光裝置，其特征在于，

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的曝光裝置，其特征在于，

13.根據(jù)權(quán)利要求8至12中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其特征在于，還包括：

14.一種曝光裝置，其特征在于，包括：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明的目的在于，在保持基板的基板保持具上配置基板時(shí)，對(duì)如改變基板的方向而配置，或者配置多片基板的情形那樣，以各種形態(tài)配置的基板的位置進(jìn)行檢測(cè)。曝光裝置具備：保持部(201)，保持多個(gè)基板；多個(gè)第一傳感器(210)，檢測(cè)所述多個(gè)基板各自相對(duì)于所述保持部(201)的位置；載臺(tái)部(121)，配置所述多個(gè)基板；以及多個(gè)第二傳感器(150)，檢測(cè)所述多個(gè)基板各自相對(duì)于所述載臺(tái)部(121)的位置，所述多個(gè)第二傳感器(150)的數(shù)量少于所述多個(gè)第一傳感器(210)的數(shù)量。

技術(shù)研發(fā)人員：秋山貴信,大川智之
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會(huì)社尼康
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15