技術編號：41953970
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及鍍膜，具體涉及一種鍍膜裝置。背景技術、真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。在真空沉積腔室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。、公開號cnu公開了一種鍍膜均勻的真空鍍膜裝置，其鍍膜倉內設置有用于掛置工件的轉動架組件，轉動架組件周圍設置有用于向工件均勻鍍膜的鍍膜組件，轉動組件用于帶動工件轉動，鍍膜組件能夠驅使輸氣支管升降，從而不僅可使得放置在鍍膜倉內的工件同步轉動，還可使得鍍膜蒸汽在工件周邊空間上下往復噴出。、然而，該專利中一層掛桿上同時掛置多個工件，同...
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