技術(shù)編號：41954781
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明關(guān)于抗蝕劑材料及圖案形成方法。背景技術(shù)、伴隨lsi的高集成化與高速化，圖案規(guī)則的微細(xì)化也在急速進(jìn)展。這是由于g的高速通信與人工智能(artificial?intelligence，ai)的普及進(jìn)展，用以處理其的高性能器件成為必要所致。就最先進(jìn)的微細(xì)化技術(shù)而言，波長.nm的極紫外線(euv)光刻所為的nm節(jié)點及nm節(jié)點的器件的量產(chǎn)已在進(jìn)行。此外，在下一代的nm節(jié)點器件、下下一代的節(jié)點亦已進(jìn)行使用了euv光刻的探討，比利時的imec已發(fā)表器件的開發(fā)。、隨著微細(xì)化的進(jìn)行，酸的擴(kuò)...
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