技術(shù)編號：41955189
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種刻蝕偏差的補(bǔ)償方法、計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)、計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品和計(jì)算機(jī)裝置。背景技術(shù)、光刻技術(shù)和刻蝕技術(shù)都是用于制造超大規(guī)模集成電路的核心技術(shù)。光刻技術(shù)是光刻系統(tǒng)采用光源照射掩模版，通過投影物鏡將掩模上的集成電路版圖成像到光刻膠上?？涛g技術(shù)是依靠等離子體等刻蝕工藝把光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到以硅材料為主的襯底上。光刻膠上圖形的尺寸與刻蝕后襯底上圖形的尺寸通常是不一樣的，它們存在著一個(gè)偏差，被稱為刻蝕偏差(etch?bias)。刻蝕偏差的大小不僅與襯底的材料有關(guān)，還與圖形的尺寸...
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