本發(fā)明涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種刻蝕偏差的補(bǔ)償方法、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)、計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品和計(jì)算機(jī)裝置。

背景技術(shù)：

1、光刻技術(shù)和刻蝕技術(shù)都是用于制造超大規(guī)模集成電路的核心技術(shù)。光刻技術(shù)是光刻系統(tǒng)采用光源照射掩模版，通過(guò)投影物鏡將掩模上的集成電路版圖成像到光刻膠上。刻蝕技術(shù)是依靠等離子體等刻蝕工藝把光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到以硅材料為主的襯底上。光刻膠上圖形的尺寸與刻蝕后襯底上圖形的尺寸通常是不一樣的，它們存在著一個(gè)偏差，被稱為刻蝕偏差(etch?bias)。刻蝕偏差的大小不僅與襯底的材料有關(guān)，還與圖形的尺寸和種類有關(guān)。為了保證刻蝕在襯底上的圖形與設(shè)計(jì)的版圖一致，需要對(duì)設(shè)計(jì)圖形做刻蝕偏差的補(bǔ)償從而得到掩模圖形。相關(guān)技術(shù)中，通常針對(duì)設(shè)計(jì)圖形的線段的長(zhǎng)度屬性(length)、厚度屬性(width)和間距屬性(space)等空間度量屬性挑選出來(lái)特征線段，基于由工藝經(jīng)驗(yàn)總結(jié)的刻蝕偏差規(guī)則(etch?bias?rule)，對(duì)設(shè)計(jì)圖形的每個(gè)特征線段移動(dòng)對(duì)應(yīng)的補(bǔ)償值。一個(gè)芯片的設(shè)計(jì)圖形中包括大量具有不同空間度量屬性組合的特征線段，在每種特征線段對(duì)應(yīng)一行腳本代碼的情況下，一個(gè)芯片設(shè)計(jì)版圖刻蝕補(bǔ)償需要幾千行腳本代碼。所有腳本代碼的組合即為上述刻蝕偏差規(guī)則。

2、在開(kāi)發(fā)新的芯片時(shí)，新芯片的設(shè)計(jì)圖形中的各特征線段的空間度量屬性組合可能與已有刻蝕偏差規(guī)則中的不同。各空間度量屬性通常會(huì)在數(shù)值上具有一定的波動(dòng)變化。這就導(dǎo)致已有刻蝕偏差規(guī)則對(duì)新芯片的覆蓋率較低。為了對(duì)新芯片的設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行刻蝕偏差補(bǔ)償，需要對(duì)已有刻蝕偏差規(guī)則進(jìn)行大幅修改以覆蓋新芯片的設(shè)計(jì)圖形中的各特征線段，修改過(guò)程效率較低，且修改周期較長(zhǎng)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于上述問(wèn)題，提出了本發(fā)明以便提供一種克服上述問(wèn)題或者至少部分地解決上述問(wèn)題的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)、計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品和計(jì)算機(jī)裝置。

2、本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，用于提高刻蝕偏差規(guī)則對(duì)芯片的設(shè)計(jì)圖形的覆蓋率，從而提高刻蝕偏差的補(bǔ)償工作效率。

3、具體地，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，本發(fā)明提供了一種刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，包括：

4、提取已獲取的設(shè)計(jì)版圖上的待挑選線段；

5、獲取所述待挑選線段的多個(gè)空間度量屬性，每個(gè)所述空間度量屬性用于描述所述待挑選線段在一個(gè)空間度量維度上的尺寸大小，并且每個(gè)所述空間度量屬性預(yù)先配置成有多個(gè)設(shè)定數(shù)值范圍；

6、根據(jù)所述待挑選線段的多個(gè)所述空間度量屬性各自所屬的所述設(shè)定數(shù)值范圍確定出目標(biāo)偏差補(bǔ)償量。

7、可選地，多個(gè)所述空間度量屬性包括長(zhǎng)度屬性、厚度屬性和間距屬性。

8、可選地，所述根據(jù)所述待挑選線段的多個(gè)所述空間度量屬性各自所屬的所述設(shè)定數(shù)值范圍確定出目標(biāo)偏差補(bǔ)償量的步驟包括：

9、確定所述多個(gè)空間度量屬性各自所屬的所述設(shè)定數(shù)值范圍；

10、根據(jù)確定出的多個(gè)設(shè)定數(shù)值范圍匹配出數(shù)值范圍組合，每個(gè)所述數(shù)值范圍組合包括所述多個(gè)空間度量屬性的一個(gè)設(shè)定數(shù)值范圍，并且預(yù)先配置有一個(gè)對(duì)應(yīng)的偏差補(bǔ)償量；

11、將與匹配出的數(shù)值范圍組合對(duì)應(yīng)的偏差補(bǔ)償量作為所述目標(biāo)偏差補(bǔ)償量。

12、可選地，為每個(gè)所述空間度量屬性設(shè)置所述設(shè)定數(shù)值范圍的過(guò)程包括：

13、以第一預(yù)設(shè)間隔規(guī)則在所述空間度量屬性的數(shù)值涵蓋范圍內(nèi)間隔設(shè)置多個(gè)基準(zhǔn)數(shù)值；

14、為每個(gè)所述基準(zhǔn)數(shù)值配置容差閾值，所述容差閾值的大小與所述基準(zhǔn)數(shù)值的大小正相關(guān)；

15、以每個(gè)所述基準(zhǔn)數(shù)值為區(qū)間中點(diǎn)分別向兩側(cè)擴(kuò)展對(duì)應(yīng)的容差，得到所述設(shè)定數(shù)值范圍。

16、可選地，為每個(gè)所述數(shù)值范圍組合設(shè)置對(duì)應(yīng)的偏差補(bǔ)償量的過(guò)程包括：

17、確定出多個(gè)基準(zhǔn)屬性組合，每個(gè)所述基準(zhǔn)屬性組合包括所述多個(gè)空間度量屬性的一個(gè)基準(zhǔn)數(shù)值；

18、為每個(gè)所述基準(zhǔn)屬性組合配置一個(gè)對(duì)應(yīng)的偏差補(bǔ)償量；

19、將所述基準(zhǔn)屬性組合對(duì)應(yīng)的所述偏差補(bǔ)償量配置為所述基準(zhǔn)屬性組合所屬的所述數(shù)值范圍組合的偏差補(bǔ)償量。

20、可選地，所述的為每個(gè)所述基準(zhǔn)數(shù)值配置容差閾值，包括：

21、以第一預(yù)設(shè)分區(qū)規(guī)則將所述空間度量屬性的數(shù)值涵蓋范圍劃分成多個(gè)數(shù)值區(qū)間，每個(gè)所述數(shù)值區(qū)間內(nèi)具有多個(gè)所述設(shè)定數(shù)值范圍；

22、為每個(gè)所述數(shù)值區(qū)間配置一個(gè)對(duì)應(yīng)的容差閾值，所述容差閾值的大小與所述數(shù)值區(qū)間內(nèi)數(shù)值的大小正相關(guān)；

23、將所述數(shù)值區(qū)間對(duì)應(yīng)的所述容差閾值配置為處于所述數(shù)值區(qū)間的各所述基準(zhǔn)數(shù)值的容差閾值。

24、可選地，所述的為每個(gè)所述數(shù)值區(qū)間配置對(duì)應(yīng)的容差閾值，包括：

25、根據(jù)所述設(shè)計(jì)版圖的制程工藝確定出最小容差閾值和最大容差閾值；

26、以第二預(yù)設(shè)間隔規(guī)則在所述最小容差閾值和所述最大容差閾值之間間隔設(shè)置多個(gè)容差閾值；

27、根據(jù)各所述數(shù)值區(qū)間內(nèi)數(shù)值的大小對(duì)各所述數(shù)值區(qū)間分配對(duì)應(yīng)的所述容差閾值。

28、可選地，所述多個(gè)空間度量屬性的各所述基準(zhǔn)數(shù)值中，大小相同的兩所述基準(zhǔn)數(shù)值均配置大小相同的所述容差閾值。

29、根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，還提供了一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)上述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法的步驟。

30、根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)方面，還提供了一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，包括計(jì)算機(jī)程序，該計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)上述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法的步驟。

31、根據(jù)本發(fā)明的再一個(gè)方面，還提供了一種計(jì)算機(jī)裝置，包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上的計(jì)算機(jī)程序，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序以實(shí)現(xiàn)上述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法的步驟。

32、本發(fā)明的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，通過(guò)建立多個(gè)空間度量屬性各自所屬的設(shè)定數(shù)值范圍與一個(gè)偏差補(bǔ)償量的對(duì)應(yīng)關(guān)系，就可根據(jù)待挑選線段的多個(gè)空間度量屬性各自所屬的設(shè)定數(shù)值范圍確定出目標(biāo)偏差補(bǔ)償量，進(jìn)而對(duì)待挑選線段進(jìn)行調(diào)整。相比于現(xiàn)有的“點(diǎn)對(duì)點(diǎn)”的對(duì)應(yīng)關(guān)系的刻蝕偏差規(guī)則，本方案通過(guò)建立“空間范圍對(duì)點(diǎn)”的對(duì)應(yīng)關(guān)系的刻蝕偏差規(guī)則，提高了刻蝕偏差規(guī)則對(duì)芯片的設(shè)計(jì)圖形的覆蓋率，實(shí)現(xiàn)了提高補(bǔ)償工作效率的效果。

33、根據(jù)下文結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明具體實(shí)施例的詳細(xì)描述，本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)更加明了本發(fā)明的上述以及其他目的、優(yōu)點(diǎn)和特征。

技術(shù)特征：

1.一種刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，其特征在于，所述根據(jù)所述待挑選線段的多個(gè)所述空間度量屬性各自所屬的所述設(shè)定數(shù)值范圍確定出目標(biāo)偏差補(bǔ)償量的步驟包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，其特征在于，為每個(gè)所述空間度量屬性設(shè)置所述設(shè)定數(shù)值范圍的過(guò)程包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，其特征在于，為每個(gè)所述數(shù)值范圍組合設(shè)置對(duì)應(yīng)的偏差補(bǔ)償量的過(guò)程包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，其特征在于，所述的為每個(gè)所述基準(zhǔn)數(shù)值配置容差閾值，包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，其特征在于，所述的為每個(gè)所述數(shù)值區(qū)間配置對(duì)應(yīng)的容差閾值，包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求3-6中任一項(xiàng)所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法，其特征在于，

8.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法的步驟。

9.一種計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，包括計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，該計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法的步驟。

10.一種計(jì)算機(jī)裝置，其特征在于，包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上的計(jì)算機(jī)程序，所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序以實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的刻蝕偏差的補(bǔ)償方法的步驟。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種刻蝕偏差的補(bǔ)償方法及相關(guān)產(chǎn)品。補(bǔ)償方法包括提取已獲取的設(shè)計(jì)版圖上的待挑選線段；獲取待挑選線段的多個(gè)空間度量屬性，每個(gè)空間度量屬性用于描述待挑選線段在一個(gè)空間度量維度上的尺寸大小，并且每個(gè)空間度量屬性預(yù)先配置成有多個(gè)設(shè)定數(shù)值范圍；根據(jù)待挑選線段的多個(gè)空間度量屬性各自所屬的設(shè)定數(shù)值范圍確定出目標(biāo)偏差補(bǔ)償量。本方法可提高刻蝕偏差規(guī)則對(duì)芯片的設(shè)計(jì)圖形的覆蓋率，從而提高補(bǔ)償工作效率。

技術(shù)研發(fā)人員：陳運(yùn)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳晶源信息技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15