技術(shù)編號(hào):41956395
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及對(duì)襯底支撐件的流體提取系統(tǒng)的鑒定或合格評(píng)定(qualification)。實(shí)施例包括用于確定襯底支撐件的流體提取系統(tǒng)的性能的獨(dú)立工具。實(shí)施例還包括當(dāng)襯底支撐件在光刻設(shè)備內(nèi)操作時(shí)確定襯底支撐件的流體提取系統(tǒng)的性能。背景技術(shù)、光刻設(shè)備是一種被構(gòu)造成將所需圖案應(yīng)用于襯底上的機(jī)器。例如,光刻設(shè)備可用于制造集成電路(ic)。例如,光刻設(shè)備可將圖案形成裝置(例如掩模)的圖案(通常也稱為“設(shè)計(jì)布局”或“設(shè)計(jì)”)投影到設(shè)置在襯底(例如晶片)上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。已知的光刻設(shè)備包括:所謂的步...
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