技術(shù)編號(hào)：41959096
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。【】本發(fā)明涉及半導(dǎo)體，特別涉及一種半導(dǎo)體處理裝置及其半導(dǎo)體處理方法。背景技術(shù)、【背景技術(shù)】、隨著半導(dǎo)體尺寸的進(jìn)一步減小，晶圓硅材料本身所含有的雜質(zhì)成為質(zhì)量控制中需要檢測(cè)監(jiān)控的要求，然而目前的晶圓污染檢測(cè)技術(shù)僅限于對(duì)晶圓表面雜質(zhì)污染的提取檢測(cè)或者對(duì)整個(gè)晶圓材料進(jìn)行破壞性檢測(cè)。、申請(qǐng)?zhí)枮?的中國專利申請(qǐng)公開了一種利用微腔室內(nèi)的封閉通道進(jìn)行晶圓污染檢測(cè)的方法。如圖所示的，所述封閉通道通過第一通孔和第二通孔與外部相通。驅(qū)動(dòng)一定體積的提取溶液通過第...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。