技術(shù)編號：41960690
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請涉及電漿蝕刻，特別是涉及一種表面平坦化機(jī)構(gòu)。背景技術(shù)、電漿蝕刻技術(shù)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及微機(jī)電系統(tǒng)(mems)的制程中，特別在提升制程物品表面平整度方面，已被證明是一種有效的技術(shù)。其主要原理是利用高能電漿選擇性地移除材料表面的一部分，從而達(dá)到制程物品表面平整處理的目的。、然而，由于電漿噴頭在蝕刻過程中無法停止電漿的噴射，而待制程物品的表面平坦度通常是屬于非線性分布的狀況，亦即，高低起伏落差可能相當(dāng)大，因此現(xiàn)有的電漿蝕刻方式需要通過極為復(fù)雜的演算法以及精準(zhǔn)的電漿蝕刻機(jī)構(gòu)，才能維持平坦化處...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。