技術(shù)編號：41960780
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)屬于雙腔室蒸鍍，具體涉及一種雙腔室蒸鍍導(dǎo)磁結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)、真空蒸鍍是指在真空條件下采用加熱蒸發(fā)方式使蒸發(fā)鍍膜材料氣化，從而使蒸發(fā)鍍膜材料在基片表面凝聚成膜的工藝，常見的真空蒸鍍裝置主要由真空系統(tǒng)和蒸鍍室組成，而雙腔室蒸鍍則是由兩個蒸鍍室組成的真空蒸鍍裝置，與傳統(tǒng)的真空蒸鍍裝置相比，雙腔室蒸鍍具有加工效率高的優(yōu)點。、由于雙腔室蒸鍍是采用兩個蒸鍍室對基片進行蒸鍍，同樣的，兩個蒸鍍室的下方均配置有蒸發(fā)源，通過蒸發(fā)源對蒸發(fā)鍍膜材料進行加熱氣化，現(xiàn)有技術(shù)中的雙腔室蒸鍍通常需要在蒸發(fā)源下方布設(shè)磁體...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。