技術(shù)編號：41961165
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及pecvd吸盤，尤其涉及一種pecvd吸盤結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)、pecvd即等離子體增強化學(xué)氣相沉積，是一種利用等離子體在較低溫度下進(jìn)行沉積的薄膜生長技術(shù)，在pecvd工藝中，需要使用吸盤來固定和移動硅片等工件。、現(xiàn)有的pecvd吸盤裝置在進(jìn)行夾緊工件時，氣源通過充氣管道向氣囊內(nèi)充入氣體，氣囊逐漸膨脹，將工件牢固地固定在吸盤上，壓力控制系統(tǒng)實時監(jiān)測氣囊內(nèi)的壓力，當(dāng)壓力達(dá)到預(yù)設(shè)值時，停止充氣，保持穩(wěn)定的夾緊狀態(tài)，在pecvd工藝過程中，吸盤帶著夾緊的工件進(jìn)行各種操作，工藝完成后，通過閥門放...
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