本技術涉及pecvd吸盤,尤其涉及一種pecvd吸盤結構。
背景技術:
1、pecvd即等離子體增強化學氣相沉積,是一種利用等離子體在較低溫度下進行沉積的薄膜生長技術,在pecvd工藝中,需要使用吸盤來固定和移動硅片等工件。
2、現(xiàn)有的pecvd吸盤裝置在進行夾緊工件時,氣源通過充氣管道向氣囊內充入氣體,氣囊逐漸膨脹,將工件牢固地固定在吸盤上,壓力控制系統(tǒng)實時監(jiān)測氣囊內的壓力,當壓力達到預設值時,停止充氣,保持穩(wěn)定的夾緊狀態(tài),在pecvd工藝過程中,吸盤帶著夾緊的工件進行各種操作,工藝完成后,通過閥門放氣,氣囊收縮,解除對工件的夾緊,以便將工件取下,但是pecvd工藝通常在一定的溫度和氣體環(huán)境下進行,氣囊長期暴露在這種環(huán)境中,容易受到化學氣體的腐蝕以及高溫的影響,導致其材質老化、變硬、變脆,從而降低氣囊的使用壽命,因此需要對內部氣囊進行更換,現(xiàn)有裝置的氣囊安裝在固定板內部,多組固定板緊密排列,不便于對氣囊進行更換。
技術實現(xiàn)思路
1、本實用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術中xx問題,而提出的一種pecvd吸盤結構。
2、為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:
3、一種pecvd吸盤結構,包括安裝架,及安裝在所述安裝架外壁的進氣管,還包括:滑槽一,開設在所述安裝架的外壁,所述滑槽一的內壁滑動連接有安裝塊,所述安裝塊的外壁轉動連接有固定板;滑槽二,開設在所述安裝架的外壁,所述滑槽二內壁滑動連接有滑塊,所述滑塊的外壁與滑槽二的內壁之間固定連接有第一彈簧;限位槽,開設在所述固定板的外壁。
4、進一步的,所述固定板的外壁開設有安裝槽,所述安裝槽內部設置有分氣管,所述分氣管的一端固定連接有夾持氣囊。
5、進一步的,所述分氣管遠離夾持氣囊的一端與進氣管的外壁之間固定安裝有連接管。
6、進一步的,所述固定板內部開設有集氣槽,所述集氣槽的內壁滑動連接有活塞,所述活塞的外壁固定連接有連接線,所述連接線遠離活塞的一端貫穿固定板與安裝塊的外壁固定連接。
7、進一步的,所述集氣槽的內壁固定連接有第二彈簧,所述第二彈簧遠離集氣槽內壁的一端固定安裝在活塞的底部。
8、進一步的,所述固定板的內部開設有通槽,所述通槽的一端與集氣槽相連通。
9、進一步的,所述安裝槽的內壁設置有限位氣囊組,所述限位氣囊組包含的多組限位氣囊均與通槽相連通。
10、與現(xiàn)有技術相比,本實用新型提供了一種pecvd吸盤結構,具備以下有益效果:
11、1、該pecvd吸盤結構,通過拉動滑塊,使滑塊擠壓第一彈簧進行滑動,當滑塊滑出限位槽時解除對固定板的限位,可以通過安裝塊對固定板進行轉動,或將安裝塊滑出,使固定板單獨分隔出來,已便于對夾持氣囊進行更換。
12、2、該pecvd吸盤結構,通過轉動固定板,使連接線與安裝塊纏繞,從而使集氣槽內部的活塞在連接線的作用下向上滑動,使得限位氣囊組內部的氣體通過通槽進入集氣槽內部,使得分氣管與夾持氣囊可以便捷的從安裝槽內部取出進行更換。
1.一種pecvd吸盤結構,包括安裝架(1),及安裝在所述安裝架(1)外壁的進氣管(2),其特征在于,還包括:
2.根據(jù)權利要求1所述的一種pecvd吸盤結構,其特征在于,所述固定板(5)的外壁開設有安裝槽(7),所述安裝槽(7)內部設置有分氣管(8),所述分氣管(8)的一端固定連接有夾持氣囊(9)。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種pecvd吸盤結構,其特征在于,所述分氣管(8)遠離夾持氣囊(9)的一端與進氣管(2)的外壁之間固定安裝有連接管(3)。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種pecvd吸盤結構,其特征在于,所述固定板(5)內部開設有集氣槽(14),所述集氣槽(14)的內壁滑動連接有活塞(16),所述活塞(16)的外壁固定連接有連接線(17),所述連接線(17)遠離活塞(16)的一端貫穿固定板(5)與安裝塊(6)的外壁固定連接。
5.根據(jù)權利要求4所述的一種pecvd吸盤結構,其特征在于,所述集氣槽(14)的內壁固定連接有第二彈簧(15),所述第二彈簧(15)遠離集氣槽(14)內壁的一端固定安裝在活塞(16)的底部。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種pecvd吸盤結構,其特征在于,所述固定板(5)的內部開設有通槽(18),所述通槽(18)的一端與集氣槽(14)相連通。
7.根據(jù)權利要求2所述的一種pecvd吸盤結構,其特征在于,所述安裝槽(7)的內壁設置有限位氣囊組(19),所述限位氣囊組(19)包含的多組限位氣囊均與通槽(18)相連通。