專利名稱：水稻缽苗機插育秧盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及插秧機輔助器具，具體為一種水稻缽苗機插育秧盤。
背景技術(shù)：
隨著農(nóng)業(yè)經(jīng)濟的發(fā)展和科技的進步，水稻機械化栽植技術(shù)、水稻的規(guī)格化育秧，商品化供秧、機械化插秧已成為必然趨勢，人為插秧逐步被機械化而取代。機械化栽植體系中，機插育秧是機插水稻高產(chǎn)栽培技術(shù)中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，為適應(yīng)機械播種，秧苗普遍采用育秧盤育種，育秧盤上設(shè)有缽體，缽體內(nèi)開設(shè)缽苗穴，缽體按橫向和縱向均勻排列在缽盤主體上，如專利號為99201642. 8的《水稻缽苗育秧盤》實用新型專利，這類育秧盤存在缽體密度大、缽體的缽苗穴形狀單一(通常為上口大下口小的圓錐臺形狀)、缽體育苗空間小、秧苗的品質(zhì)差等，不能充分發(fā)揮水稻缽苗栽培技術(shù)的增產(chǎn)潛力。

發(fā)明內(nèi)容
為此，本發(fā)明提出了一種水稻缽苗機插育秧盤。本發(fā)明水稻缽苗機插育秧盤的技術(shù)方案包括長方形缽苗盤體，所述缽苗盤體上分布有按長度方向為縱向和按寬度方向為橫向均勻排列的缽體，所述各缽體內(nèi)開設(shè)缽苗穴， 所不同的是所述缽苗穴為以其自身中心線左右對稱的長方形錐臺腔，與圓錐臺形的缽苗穴相比，可最大限度地使缽苗穴能容納更多的培養(yǎng)基，使育秧成的秧苗強壯。為在缽苗盤體上布置更多的缽體(最多為434個)，缽體按缽苗穴的寬度方向沿缽苗盤體的縱向、缽苗穴的長度方向沿缽苗盤體的橫向排列。為使育出的秧苗成片、串根少、機插過程中不傷根、種植后返苗快，一種合理的缽苗穴形狀尺寸為所述缽苗穴的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為35°，頂面開口距離為8mm 15mm，深度為8mm 15mm，底部圓角R3.0 ；所述缽苗穴的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為46°，頂面開口距離為6匪 12mm，深度為6匪 10mm，底部圓角Rl. 0。為了啟盤方便，可將秧盤周邊處缽苗穴的錐面?zhèn)缺陂_口夾角、頂面開口距離和深度加大，即所述缽苗盤體縱向盤邊至少一排缽苗穴，其橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為45°，頂面開口距離為IOmm 17mm，深度為8mm 15mm，底部圓角R3. 0 ；所述缽苗盤體橫向周邊至少三排缽苗穴，其縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為47°，頂面開口距離為9mm 15mm，深度為7mm 11mm，底部圓角R2. 5。與所述缽苗穴形狀和深度相適應(yīng)，所述缽體高度設(shè)為15mm，其底部為長X寬為 12mmX Ilmm的長方形，所述缽體底部長方形的寬度方向沿缽苗盤體的縱向，長度方向沿缽苗盤體的橫向。與所述缽體高度相適應(yīng)，所述缽苗盤體的高度設(shè)為18mm 沈讓，所述缽體與缽苗盤體同底。本發(fā)明的優(yōu)點本發(fā)明水稻缽苗機插育秧盤為一種能與各種水稻插秧機配套的機插秧盤，育秧盤容納育秧培養(yǎng)基多，長出的秧苗強壯、均勻，秧苗自成模塊不串根，便于機插流暢，不傷根， 而且還能方便啟盤脫模。


圖1是本發(fā)明一種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1實施方式左上角的局部放大圖。圖3(a)為圖1實施方式中的A-A剖視圖。圖3(b)為圖1實施方式中的B-B剖視圖。圖號標(biāo)識1、缽苗盤體；2、缽體；3、缽苗穴；4、滲流孔。
具體實施例方式下面結(jié)合圖例對本發(fā)明的技術(shù)方案作進一步說明本發(fā)明水稻缽苗機插育秧盤的主體為長X寬X深等于600mmX ^OmmX 24mm的缽苗盤體1 (僅為系列中的一個規(guī)格)，將缽苗盤體1的長度方向設(shè)為縱向，缽苗盤體1的寬度方向設(shè)為橫向，沿縱向和橫向于缽苗盤體ι上均勻排列布置有缽體2，縱向排列31個缽體，間距為19mm，橫向排列14個缽體2，間距為20mm，所述缽體2與缽苗盤體1同底，缽體2 高度為15mm，如圖1、圖2所示。所述缽體2為以自身中心線左右對稱的長方形錐臺，其底部為長X寬等于 12mmX Ilmm的長方形寬底結(jié)構(gòu)，缽體2的寬度方向沿缽苗盤體1的縱向，缽體2的長度方向沿缽苗盤體1的橫向，缽體2相對的錐面外壁成夾角，缽體2的底部開設(shè)有Φ3.0πιπι 的滲流孔4，如圖1、圖2、圖3所示。如圖1、圖2所示，所述缽體2內(nèi)開設(shè)的缽苗穴3為以其自身中心線左右對稱的長方形錐臺腔，與長方形錐臺形的缽體2方向一致，所述缽苗穴3的寬度方向沿缽苗盤體1的縱向，缽苗穴3的長度方向沿缽苗盤體1的橫向。如圖3(b)所示，缽苗盤體1縱向盤邊(兩對邊)一排缽苗穴3的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為45°，頂面開口距離為14mm，深度為12mm，底部圓角R3. 0，其余缽苗穴3的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為35°，頂面開口距離為12mm，深度為12mm，底部圓角R3. 0 ；如圖3 (a)所示，缽苗盤體1橫向盤邊(兩對邊)三排缽苗穴3的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為47°，頂面開口距離為12mm，深度為10mm，底部圓角R2. 5，其余缽苗穴3的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為 46°，頂面開口距離為9mm，深度為9mm，底部圓角Rl. 0。
權(quán)利要求
1.水稻缽苗機插育秧盤，包括長方形缽苗盤體(1)，所述缽苗盤體(1)上分布有按長度方向為縱向和按寬度方向為橫向均勻排列的缽體0)，各缽體O)內(nèi)開設(shè)缽苗穴(3)，其特征在于所述各缽苗穴(3)為以其自身中心線左右對稱的長方形錐臺腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在于所述缽苗穴(3)的寬度方向沿缽苗盤體(1)的縱向，缽苗穴(3)的長度方向沿缽苗盤體(1)的橫向。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在于所述缽苗穴(3)的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為35°，頂面開口距離為8mm 15mm，深度為8mm 15mm，底部圓角 R3. O ；所述缽苗穴(3)的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為46°，頂面開口距離為6mm 12mm，深度為6mm 10mm，底部圓角Rl. O。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在于所述缽苗盤體(1)縱向盤邊至少一排缽苗穴(3)，其橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為45°，頂面開口距離為IOmm 17mm， 深度為8mm 15mm，底部圓角R3. 0 ；所述缽苗盤體(1)橫向周邊至少三排缽苗穴(3)，其縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為47°，頂面開口距離為9mm 15mm，深度為7mm 11mm，底部圓角 R2. 5。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在于所述缽體⑵高度為15mm，其底部為長X寬為12mmX Ilmm的長方形，所述缽體⑵底部長方形的寬度方向沿缽苗盤體(1)的縱向，長度方向沿缽苗盤體(1)的橫向。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在于所述缽苗盤體(1)高度為18mm ^mm,所述缽體O)與缽苗盤體(1)同底。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種水稻缽苗機插育秧盤，包括長方形缽苗盤體，缽苗盤體上分布有按長度方向為縱向和按寬度方向為橫向均勻排列的缽體，各缽體內(nèi)的缽苗穴為以其自身中心線左右對稱的長方形錐臺腔，缽苗穴的寬度方向沿缽苗盤體的縱向，缽苗穴的長度方向沿缽苗盤體的橫向；缽苗穴的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為35°，頂面開口距離為12mm，深度為12mm，底部圓角R3，缽苗穴的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為46°，頂面開口距離為9mm，深度為9mm，底部圓角R1；缽體高度為15mm，其底部為長×寬為12mm×11mm的長方形，長方形的寬度方向沿缽苗盤體的縱向，長度方向沿缽苗盤體的橫向，缽苗盤體高度為24mm，缽體與缽苗盤體同底。
文檔編號A01G9/10GK102523979SQ20121000683
公開日2012年7月4日 申請日期2012年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月11日
發(fā)明者張金平, 王軍平, 蔣宏偉 申請人:桂林高新區(qū)科豐機械有限責(zé)任公司