包括可單獨(dú)運(yùn)輸?shù)钠髅蟮牡入x子設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種等離子設(shè)備(10)。所述等離子設(shè)備(10)包括至少兩個(gè)單獨(dú)的部件，即用于要處理的物體(18)的器皿(14)和包括用于在器皿(14)中觸發(fā)等離子體(26)的電的等離子源(19)的等離子單元(12)。等離子單元(12)不具有用于其他介質(zhì)的另外的組件，從而等離子單元(12)可以在結(jié)構(gòu)上尤其簡單地構(gòu)成并且容易被操作。尤其優(yōu)選器皿(14)具有由玻璃制成的器皿體(16)。器皿體(16)優(yōu)選一件式地構(gòu)成并且完全包圍物體(18)。等離子體(26)可以與等離子單元(12)隔開距離地借助電的等離子源(19)的高頻發(fā)生器(20)、感應(yīng)線圈和/或磁控管被觸發(fā)。
【專利說明】
包括可單獨(dú)運(yùn)輸?shù)钠髅蟮牡入x子設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種用于處理物體、尤其是處理植入物的等離子設(shè)備，其中，所述等離子設(shè)備具有用于容納物體的可封閉的器皿并且具有包括用于在所述器皿中產(chǎn)生等離子體的電的等離子源的等離子單元，其中，所述器皿構(gòu)成為可獨(dú)立于等離子單元運(yùn)輸?shù)膯卧?，其中，在器皿中的等離子體可直接通過等離子單元的電的等離子源產(chǎn)生并且所述器皿具有器皿體，所述器皿體基本上由電介質(zhì)的材料構(gòu)成。
【背景技術(shù)】
[0002]在等離子體中處理物體是已知的。此外已知，植入物、尤其是牙種植體在其即將要植入之前在等離子體中處理。這種等離子體處理方法例如由DE19502133A1已知。
[0003]在等離子體中對甚至多重抵抗的病菌的殺滅由Peter Trechow在VD1-Nachrichten，2013年11月22日，第47版中說明。其中解釋到，由于植入物的基于等離子體的表面功能化可能的是，使得該植入物選擇性地對于細(xì)胞尤其有吸引力并且由此加速持久性植入物的融合。因此，將等離子體使用到植入物上能夠使吸引細(xì)胞的特性與抗微生物的特性結(jié)合在一起。
[0004]此外，在等離子體中對植入物的凈化由文章“Microscopical an microb1logiccharacterizat1n of customized titanium abutments after different cleaningprocedures，，，Clinical Oral Implants Research，0,2012/1-9已知。
[0005]US2013/0230426A1公開了一種等離子設(shè)備，用于在真空容器中對植入物進(jìn)行消毒。該真空容器與栗單元連接，以便在等離子體處理期間在容器中產(chǎn)生負(fù)壓。此外，這種用于等離子體消毒的裝置由W020101/044669A1已知。
[0006]為了獲得盡可能好的效果，對植入物的等離子體處理直接在植入之前進(jìn)行。為此，迄今需要將耗費(fèi)且昂貴的等離子設(shè)備安裝在診所或醫(yī)院中。這些等離子設(shè)備必須通常與一個(gè)栗和多個(gè)貯氣瓶連接在一起，由此提高了用于等離子設(shè)備的耗費(fèi)和成本。此外，這種等離子設(shè)備必須由專門受過訓(xùn)練的人員操作。
[0007]與之相對，由DE102004049783B4和W003/059400A1已知，將等離子設(shè)備分成包括電的等離子源的等離子單元和可獨(dú)立于等離子單元運(yùn)輸?shù)钠髅蟆?br>[0008]然而，已知的器皿必須耗費(fèi)地設(shè)有電極。這些電極必須為了物體的等離子體處理而被觸點(diǎn)接通。由此增加了器皿的構(gòu)造成本。此外，器皿的觸點(diǎn)接通必須由受過訓(xùn)練的人員進(jìn)行。
[0009]由W02011/116984A2已知一種包括器皿的等離子設(shè)備，其中，所述器皿不具有用于觸發(fā)等離子體的電極。然而，為了觸發(fā)等離子體，所述器皿必須被置于與等離子設(shè)備的電極結(jié)構(gòu)直接接觸。
[0010]US6558621B1公開了在器皿中的等離子體處理之后直接將植入物包圍起來并且從等離子體處理室中提取出來。
[0011 ]此外，由W097/44503A1已知，在等離子室中借助等離子體處理對容器的內(nèi)側(cè)進(jìn)行消毒。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]與之相對地，本發(fā)明的任務(wù)是，提供一種等離子設(shè)備，用該等離子設(shè)備能夠簡單并且低成本地對物體、尤其是對植入物進(jìn)行等離子體處理。
[0013]該任務(wù)按照本發(fā)明通過具有權(quán)利要求1的特征的等離子設(shè)備解決。權(quán)利要求2至權(quán)利要求8給出了這種等離子設(shè)備的優(yōu)選擴(kuò)展方案。
[0014]用于處理物體、尤其是處理植入物的等離子設(shè)備包括用于容納物體的可封閉的器皿并且包括具有用于在所述器皿中產(chǎn)生等離子體的電的等離子源的等離子單元，其中，所述器皿構(gòu)成為可獨(dú)立于等離子單元運(yùn)輸?shù)膯卧⑶业入x子體可直接通過等離子單元的電的等離子源產(chǎn)生，其中，器皿具有器皿體，所述器皿體基本上由電介質(zhì)的材料構(gòu)成，其中，等離子單元不具有氣體接頭和/或不具有栗并且構(gòu)成為:當(dāng)器皿相對于等離子單元隔開距離時(shí)，等尚子體可被觸發(fā)。
[0015]因此，所述等離子設(shè)備具有可獨(dú)立運(yùn)輸?shù)摹⒖煞忾]的器皿。在所述器皿中可以容納物體、尤其是植入物。因此，物體的制造者可以將物體封閉在器皿中并且供應(yīng)該物體。在此，“可獨(dú)立運(yùn)輸?shù)钠髅蟆钡母拍罾斫鉃椴⒎浅志玫嘏c等離子單元連接的器皿。尤其是所述器皿不通過用于氣體的軟管和/或電線路持久地與等離子單元連接。
[0016]直接在使用物體之前，器皿可直接在使用地點(diǎn)被置于等離子單元附近。于是，等離子單元在器皿中產(chǎn)生等離子體。所述等離子體在器皿中對物體進(jìn)行處理。接著可以打開器皿、將物體從器皿中取出并且進(jìn)行嵌入(尤其是植入)。由此，等離子單元僅須具有用于產(chǎn)生等離子體的電的組件、即電的等離子源。由此，等離子單元可以尤其簡單且低成本地構(gòu)成。
[0017]電的等離子源在器皿中直接產(chǎn)生等離子體。所述“直接產(chǎn)生等離子體”在此理解為電的等離子源“遠(yuǎn)距離作用”到器皿上。由此，器皿可以無電極地構(gòu)成。由此，用于制造器皿的成本，尤其是用于觸發(fā)等離子體的電極必須以精確地限定的間隔在器皿中構(gòu)成引起的成本顯著減少。在此，等離子單元構(gòu)成為，使得當(dāng)器皿相對于等離子單元隔開距離時(shí)，等離子體可被觸發(fā)。因此，為了觸發(fā)在器皿中的等離子體，器皿僅必須被置于等離子單元的附近。由此省去由受過訓(xùn)練的人員對器皿觸點(diǎn)接通。
[0018]所述器皿尤其優(yōu)選可持久地空氣密封地封閉。
[0019]所述器皿可設(shè)有快速耦聯(lián)部、例如螺紋管接頭(Cajon)或套管接頭(Swagelok)，以便在器皿中能快速且簡單地進(jìn)行壓力調(diào)節(jié)。
[0020]尤其優(yōu)選器皿設(shè)有不可逆的溫度指示器，以便能監(jiān)測在器皿中的物體是否已經(jīng)被等離子體處理。在此，所述溫度指示器優(yōu)選構(gòu)成為用于在30°C和100°C之間的溫度范圍、優(yōu)選在40°C和60°C之間的溫度范圍中。此外，通過這種溫度指示器可以觀察:等離子體處理所需要的持續(xù)時(shí)間是否已經(jīng)達(dá)到。
[0021 ]所述等離子單元不具有氣體接頭和/或不具有栗。由此，等離子單元尤其簡單地構(gòu)成。此外沒有介質(zhì)接頭的等離子單元可尤其容易地操作。
[0022]所述等離子設(shè)備構(gòu)成為，使得等離子單元不具有、尤其是在等離子體處理期間不具有至器皿的連接。換句話說，在器皿和等離子單元之間既不存在電線路、也不存在流體線路。優(yōu)選在等離子單元和器皿之間也不存在固定的機(jī)械連接。等離子單元優(yōu)選不具有封閉的等1?子室。
[0023]等離子單元尤其優(yōu)選具有包括用于容納器皿的容納部的殼體，其中，所述殼體只部分地包圍器皿。
[0024]器皿體可以由陶瓷或耐受性塑料構(gòu)成。尤其優(yōu)選器皿體完全由電介質(zhì)的材料構(gòu)成。
[0025]在本發(fā)明的尤其優(yōu)選的構(gòu)成方案中，器皿體至少部分地由玻璃構(gòu)成、尤其基本上由玻璃構(gòu)成、優(yōu)選完全由玻璃構(gòu)成。玻璃是透明的，使得等離子設(shè)備的用戶可以觀察在器皿中的等離子體的觸發(fā)并且此外尤其耐受等離子體。
[0026]器皿可以由包括玻璃板的金屬管構(gòu)成。
[0027]在此，器皿體優(yōu)選以安瓿的形式構(gòu)成。這種安瓿尤其良好地適用于處理植入物，因?yàn)榘碴吃谠\所和門診室中已經(jīng)已知并且廣為流傳。因此，安瓿的使用對于診所和門診室的人員而言已經(jīng)是熟練的。安瓿可以具有至少一個(gè)封焊的尖部。
[0028]器皿可以具有用于封閉器皿體的塞子。在此，器皿體和塞子優(yōu)選分別具有磨口，以便可以將器皿體用塞子空氣密封地封閉。
[0029]在本發(fā)明的一種另外的優(yōu)選實(shí)施形式中，所述器皿在容納物體之后不能無破壞地打開。這種器皿一方面可以尤其低成本地制造并且另一方面具有尤其高的密封性的優(yōu)點(diǎn)。此外，在這種器皿中可立即看出，該器皿是仍處于制造者的“原裝”的狀態(tài)還是已經(jīng)被打開或操縱過了。在此，器皿體可以一件式地構(gòu)成并且完全包圍物體。
[0030]在此，器皿的器皿體尤其優(yōu)選地以折斷式安瓿(Brechampul Ie)的形式構(gòu)成。所述“折斷式安瓿”理解為一種為了打開而必須被折斷的玻璃安瓿。折斷式安瓿可以具有尤其是環(huán)形的理論斷裂位置。該理論斷裂位置可以例如被刻入到器皿體中。替代或附加于此地，理論斷裂位置可構(gòu)成烙印的琺瑯環(huán)的形式。
[0031]為了簡單地制造器皿體并且為了將器皿體容易地引入到等離子單元中，所述器皿體優(yōu)選相對于其縱軸線基本上旋轉(zhuǎn)對稱地構(gòu)成。在此，尤其優(yōu)選器皿體具有圓柱形的區(qū)段。
[0032]器皿體優(yōu)選一件式地構(gòu)成并且尤其構(gòu)成為，使得該器皿體將容納在其中的物體完全包圍。
[0033]為了能在器皿體中觸發(fā)低壓等離子體，在器皿體中的氣體壓力可以少于I巴、尤其少于0.1巴、優(yōu)選少于0.01巴、尤其優(yōu)選少于0.001巴。
[0034]按照本發(fā)明的等離子設(shè)備可以用于，對在器皿中的物體的表面進(jìn)行腐蝕。在該情況中，在器皿中優(yōu)選包含腐蝕性氣體，例如四氟化碳(CF4)、六氟乙烷(C2F6)、全氟丙烷(C3F8)、八氟環(huán)丁烷(C4F8)、六氟化硫(SF6)和/或三氟化氮(NF3)。器皿包含優(yōu)選含氟的氣體，以便在器皿中腐蝕物體的鈦表面。
[0035]此外，按照本發(fā)明的等離子體處理方法可用于活化物體的表面。為此，在器皿中包含優(yōu)選以氬氣(Ar)、氧氣(O2)和/或空氣形式的氣體。替代或附加于此地，可以在器皿中包含水(H2O)、尤其是氣態(tài)的水。
[0036]此外，器皿可以包含含胺的氣體、尤其是甲胺(CH5N)、二甲胺(C2H7N)、三甲胺(C3H9N)、氨(NH3)、三甲胺乙內(nèi)酯(C5HnNO2)和/或丁胺(C4H11N)。含胺的氣體尤其優(yōu)選在所述物體是植入物的形式的情況中使用，因?yàn)榻?jīng)證明，生物學(xué)的細(xì)胞尤其良好地在以含胺的氣體等離子體處理過的植入物上生長。
[0037]當(dāng)在封閉之后應(yīng)在器皿中存在大氣壓(即環(huán)境壓力)時(shí)，器皿的填充得到顯著地簡化。盡管存在大氣壓，為了能夠?qū)崿F(xiàn)等離子體的觸發(fā)，器皿在該情況中以多于40%、尤其多于50%、優(yōu)選多于60%、尤其優(yōu)選多于70%用氦氣(He)填充。
[0038]此外，按照本發(fā)明的等離子體處理方法可以用于將層涂敷到在器皿中的物體上。為此，所述器皿可以包含在等離子體中分解的化合物、例如硅烷化合物。
[0039]為了在器皿中直接產(chǎn)生等離子體，等離子單元的電的等離子源可以具有高頻發(fā)生器和與高頻發(fā)生器電連接的電極，器皿可至少部分地引入到所述電極之間。在此，電極優(yōu)選基本上環(huán)形地構(gòu)成，以便能將器皿以簡單的方式方法引入到電極之間。尤其優(yōu)選電極構(gòu)成為環(huán)繞等離子單元?dú)んw的凹部，該凹部構(gòu)成為用于容納器皿。
[0040]為了在器皿中直接產(chǎn)生等離子體，電的等離子源可具有磁控管，其中，所述器皿至少部分地可由磁控管的微波輻射穿透。為了可以將磁控管的電磁輻射針對性地朝向器皿定向，磁控管可以與用于發(fā)射電磁輻射的天線連接。所述天線尤其優(yōu)選構(gòu)成為環(huán)繞等離子單元的殼體的凹部，該凹部構(gòu)成為用于容納器皿。
[0041]此外，在器皿中的等離子體的直接的產(chǎn)生可以以如下方式實(shí)現(xiàn):電的等離子源具有感應(yīng)線圈，器皿可至少部分地引入到所述感應(yīng)線圈中。感應(yīng)線圈尤其優(yōu)選構(gòu)成為環(huán)繞等離子單元的殼體的凹部，該凹部構(gòu)成用于容納器皿。
[0042]此外，本發(fā)明涉及一種按照權(quán)利要求9的用于處理物體、尤其是處理植入物的方法，該方法具有如下方法步驟:
[0043]a)將物體放入到器皿中，所述器皿基本上由電介質(zhì)的材料構(gòu)成；
[0044]b)調(diào)節(jié)器皿中的氣體壓力和/或氣體組分；
[0045]c)封閉器皿；
[0046]d)將器皿運(yùn)輸至等離子單元；
[0047]e)借助等離子單元的電的等離子源在器皿中直接觸發(fā)等離子體，其中，等離子單元不具有氣體接頭和/或不具有栗并且器皿與等離子單元隔開距離。
[0048]如上所述，按照本發(fā)明的方法提供特別的優(yōu)點(diǎn):物體的應(yīng)用者、例如植入物的使用者可以在診所或門診室中使用在結(jié)構(gòu)方面非常簡單地構(gòu)成的等離子單元。物體、尤其是植入物可以由該物體的制造者在器皿中提供給物體的使用者。在植入物的情況中，等離子體處理可以在即將手術(shù)之前進(jìn)行，即最多在手術(shù)之前大約I小時(shí)進(jìn)行。于是，物體或植入物能夠以新鮮涂敷的、腐蝕的和/或活化的表面被使用。所述器皿在觸發(fā)等離子體時(shí)與等離子單元隔開距離、即間隔開。由此，器皿僅須大約被置于等離子單元附近。精確的定位是不需要的。
[0049]所使用的等離子設(shè)備優(yōu)選具有一個(gè)或多個(gè)上面所描述的特征。
[0050]尤其優(yōu)選使用由玻璃制成的器皿體。
[0051 ]優(yōu)選使用一件式構(gòu)成的并且尤其是完全包圍物體的器皿體。
[0052]在本發(fā)明的一種尤其優(yōu)選的構(gòu)造方案中使用在容納物體之后不能無破壞地打開的器皿。
[0053]在方法步驟b)中，優(yōu)選調(diào)節(jié)有少于I巴、尤其是少于0.1巴、優(yōu)選少于0.01巴、尤其優(yōu)選少于0.001巴的氣體壓力。
[0054]為了等離子體的觸發(fā)，可以使用在等離子單元中的電的等離子源，該電的等離子源具有高頻發(fā)生器和與高頻發(fā)生器電連接的電極，器皿至少部分地被引入到所述電極之間。
[0055]此外，為了等離子體的直接的觸發(fā)，可以使用電的等離子源，該電的等離子源具有磁控管，其中，所述器皿至少部分地由磁控管的微波輻射穿透。
[0056]按照本發(fā)明的方法尤其優(yōu)選用于在即將要植入之前活化植入物、尤其是牙種植體。由此，植入物的粘附可以在避免表面腐蝕的情況下、尤其是在避免使用氫氟酸(HF)的情況下進(jìn)行。
[0057]優(yōu)選用于實(shí)施按照本發(fā)明的方法的參數(shù)選擇為，使得物體的表面能量至少增加一倍。關(guān)于由鈦制成的物體的試驗(yàn)已表明:表面能量可以在實(shí)施按照本發(fā)明的方法的情況下從43mN/m提高至遠(yuǎn)超過100mN/m。由此達(dá)到物體的表面的尤其有效的活化。
[0058]按照本發(fā)明的方法尤其優(yōu)選用于實(shí)施等離子體處理，以便改善植入物的生長。在此不發(fā)生在等離子體中對植入物進(jìn)行消毒，而是發(fā)生對植入物進(jìn)行活化。因此，植入物已經(jīng)在等離子體處理之前無菌地存在于器皿中。
[0059]最后，本發(fā)明按照權(quán)利要求10涉及無電極地構(gòu)成的、可獨(dú)立于等離子單元運(yùn)輸?shù)钠髅蟮膽?yīng)用，所述器皿至少部分地由玻璃制成，用于在等離子單元中對物體進(jìn)行等離子體處理、尤其是對植入物進(jìn)行等離子體處理，其中，等離子單元不具有氣體接頭和/或不具有栗O
[0060]所使用的器皿優(yōu)選具有一個(gè)或多個(gè)上面描述的特征。
[0061 ]所述器皿尤其優(yōu)選在診所、尤其是牙科診所或門診室中使用。
[0062]在此，器皿的尤其合適的使用于，在即將要處理之前對植入物、尤其是牙種植體進(jìn)行活化，從而該植入物可以在沒有另外的化學(xué)處理的情況下、尤其是在避免表面腐蝕和類似情形的情況下使用。
[0063]本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)由下面借助附圖對本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例的詳細(xì)說明以及權(quán)利要求書得出，所述附圖示出對本發(fā)明重要的細(xì)節(jié)。
[0064]在附圖中示出的特征描述成，使得按照本發(fā)明的特點(diǎn)可以是明顯可見的。在本發(fā)明的變型中，各不同的特征可以分別單獨(dú)地實(shí)現(xiàn)或者由多個(gè)特征以任意的組合實(shí)現(xiàn)。
【附圖說明】
[0065]附圖如下:
[0066]圖1示出第一等離子設(shè)備的示意視圖；
[0067]圖2示出第二等離子設(shè)備的示意視圖；
[0068]圖3示出第三等離子設(shè)備的示意視圖；
[0069]圖4a示出按照US6558621B1的等離子設(shè)備；
[0070]圖4b相比于圖4a的等離子設(shè)備示出按照本發(fā)明的等離子設(shè)備；
[0071]圖5a示出按照US6558621B1實(shí)施的方法的示意性的壓力時(shí)間曲線圖；并且
[0072]圖5b相比于按照圖5a的方法示出按照本發(fā)明的方法的示意性的壓力時(shí)間曲線圖。
【具體實(shí)施方式】
[0073]圖1示出第一等離子設(shè)備10。第一等離子設(shè)備10具有等離子單元12和器皿14。器皿14作為無電極的、可獨(dú)立于等離子單元12運(yùn)輸?shù)膯卧獦?gòu)成。器皿14包括由玻璃制成的器皿體16。器皿體16包圍物體18。物體18以牙種植體的形式存在。
[0074]物體18在其制造之后被置于器皿14中。隨后在器皿14中產(chǎn)生負(fù)壓并且器皿14空氣密封地封閉。器皿體16在容納物體之后、即在圖1中示出的狀態(tài)中，不能無破壞地打開。為此，器皿體16以玻璃安瓿的形式構(gòu)成。由此，器皿14可以由物體18的制造者提供給使用者、例如提供給牙科診所。
[0075]使用者將器皿14置于等離子單元12的附近。等離子單元12包括電的等離子源19，在該情況中，該電的等離子源具有高頻發(fā)生器20。高頻發(fā)生器20與電的等離子源19的電極22、24電連接。通過接通電的等離子源19，在器皿14中在電極22、24的區(qū)域中觸發(fā)等離子體26。通過等離子體26，物體18被等離子體處理。在該情況中，器皿14以惰性氣體和氧氣填充，從而物體18的表面被清除病菌并且被活化。
[0076]在等離子體處理之后，使用者可以打碎器皿體16、取出并且使用物體18。
[0077]等離子單元12在結(jié)構(gòu)上尤其簡單地構(gòu)成，由此，等離子單元12的制造成本比包括可栗吸的處理室的“通常的”等離子單元的制造成本低大約一個(gè)數(shù)量級。此外，無須將介質(zhì)、尤其是無須將氣體輸送給等離子單元12和/或從等離子單元中輸出。由此，按照本發(fā)明的等離子單元12也可專門簡單地由未尤其受過訓(xùn)練的人員使用。
[0078]圖2示出第二等離子設(shè)備28。包括物體32的器皿30與按照圖1的器皿14或物體18相同地構(gòu)成。然而，不同于按照圖1的等離子單元12，按照圖2的等離子設(shè)備28具有等離子單元34，該等離子單元的電的等離子源35具有直流發(fā)生器36。直流發(fā)生器36與電的等離子源35的磁控管38電連接。
[0079]在磁控管38上有用于發(fā)射電磁輻射的天線40，該電磁輻射在圖2中由箭頭42、44、46表示。電磁波或電磁輻射優(yōu)選處于微波范圍中。在此，電磁輻射選擇為，使得在器皿30中觸發(fā)等離子體48。器皿30構(gòu)成為可獨(dú)立于等離子單元34運(yùn)輸?shù)膯卧?br>[0080]圖3示出第三等離子設(shè)備50。第三等離子設(shè)備50具有無電極地構(gòu)成的器皿52，所述器皿具有由玻璃制成的器皿體54，其中，在器皿體54中引入有物體56。
[0081]除了器皿52之外，第三等離子設(shè)備50包括等離子單元58。器皿52構(gòu)成為可獨(dú)立于等離子單元58運(yùn)輸?shù)膯卧?。等離子單元58具有包括高頻發(fā)生器62的電的等離子源60。高頻發(fā)生器62為了觸發(fā)等離子體66而與感應(yīng)線圈64電連接。
[0082 ]圖4a示出按照US65586 21BI的等離子設(shè)備。圖4a分成點(diǎn)劃線左邊的植入物制造者方面和點(diǎn)劃線右邊的植入物用戶方面。由圖4a可看出，在植入物制造者方面，植入物在打開的器皿中進(jìn)行等離子體處理。該器皿在等離子體處理之后被封閉、交給用戶并且在那里在植入之前被打開。
[0083]與之相對，圖4b示出按照本發(fā)明的等離子設(shè)備。在點(diǎn)劃線左邊再次示出植入物制造者方面并且在點(diǎn)劃線右邊示出植入物用戶方面。由圖4b中可看出，在制造者方面，所述植入物被置于器皿中并且該器皿設(shè)有適合的氣氛并且被封閉。于是，真正的等離子體處理在用戶方面進(jìn)行，用戶在等離子體處理之后打開器皿并且將植入物進(jìn)行植入。因此不同于現(xiàn)有技術(shù)，可以直接在在用戶方面、即在診所或門診室中進(jìn)行植入物的等離子體處理，而無須在用戶方面提供要耗費(fèi)地操作的等離子設(shè)備。
[0084]圖5a示出按照US6558621B1的方法的時(shí)間(X軸)壓力(Y軸)曲線圖。按照現(xiàn)有技術(shù)，首先對等離子室進(jìn)行栗吸(A)，此后進(jìn)行氣體穩(wěn)定(B)、等離子體的觸發(fā)(C)、等離子室的通風(fēng)(D)、包裝/運(yùn)輸/存儲(E)和植入(F)。由圖5a可看出，當(dāng)?shù)入x子設(shè)備不直接在用戶方面構(gòu)造時(shí)，在等離子體處理和植入之間可能存在長的時(shí)間段。
[0085]與之相對地，圖5b示出按照本發(fā)明的方法的時(shí)間壓力曲線圖。在此，在器皿中首先進(jìn)行栗吸(A)，隨后進(jìn)行氣體穩(wěn)定(B)。然后植入物被包裝/運(yùn)輸/存儲(E)。等離子體處理(C)在用戶方面直接在等離子單元中進(jìn)行。因?yàn)榈入x子單元只具有電的接頭，所以該等離子單元對于用戶而言是可非常簡單地操作的。通常，該等離子單元僅具有斷開和接通開關(guān)。直接在等離子體處理之后，進(jìn)行通過打開器皿的通風(fēng)(D)和植入(F)。
[0086]因此通過本發(fā)明，等離子體處理不僅可以在時(shí)間上直接在植入之前進(jìn)行，而且可以通過在結(jié)構(gòu)上最簡單的構(gòu)成的等離子設(shè)備進(jìn)行。
[0087]概括地，本發(fā)明涉及一種等離子設(shè)備。所述等離子設(shè)備由至少兩個(gè)單獨(dú)的部件組成，即用于要處理的物體的器皿和包括用于在器皿中觸發(fā)等離子體的電的等離子源的等離子單元。所述等離子單元不具有用于其他介質(zhì)的另外的組件，使得等離子單元可以在結(jié)構(gòu)上尤其簡單地構(gòu)成并且容易地操作。尤其優(yōu)選所述器皿包括由玻璃制成的器皿體。所述器皿體優(yōu)選一件式地構(gòu)成并且完全包圍物體。等離子體可以與等離子單元隔開距離地借助電的等離子源的高頻發(fā)生器、感應(yīng)線圈和/或磁控管被觸發(fā)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.用于處理物體(18、32、56)、尤其是處理植入物的等離子設(shè)備(10、28、50)，其中，所述等離子設(shè)備(10、28、50)具有用于容納物體(18、32、56)的可封閉的器皿(14、30、52)并且具有等離子單元(12、34、58)，所述等離子單元包括用于在所述器皿(14、30、52)中產(chǎn)生等離子體(26、48、66)的電的等離子源(19、35、60)，其中，所述器皿(14、30、52)構(gòu)成為可獨(dú)立于等尚子單兀(12、34、60)運(yùn)輸?shù)膯呜?，其中，在器?14、30、52)中的等尚子體(26、48、66)可直接通過等離子單元(12、34、58)的電的等離子源(19、35、60)產(chǎn)生并且所述器皿(14、30、52)具有器皿體(16、54)，所述器皿體基本上由電介質(zhì)的材料構(gòu)成，其特征在于，等離子單元(12、34、60)不具有氣體接頭和/或不具有栗并且構(gòu)成為，使得當(dāng)器皿(14、30、52)相對于等尚子單兀(12、34、60)隔開距尚時(shí)，等尚子體(26、48、66)可被觸發(fā)。2.按照權(quán)利要求1所述的等離子設(shè)備，其中，器皿體(16、54)至少部分地由玻璃構(gòu)成、尤其基本上由玻璃構(gòu)成，優(yōu)選完全由玻璃構(gòu)成。3.按照權(quán)利要求1或2所述的等離子設(shè)備，其中，器皿(14、30、52)在容納物體(18、32、56)之后不能無破壞地打開。4.按照權(quán)利要求1至3之一所述的等離子設(shè)備，其中，在器皿(14、30、52)中的氣體壓力為少于I巴、尤其是少于0.1巴、優(yōu)選少于0.01巴、尤其優(yōu)選少于0.001巴。5.按照權(quán)利要求1至3之一所述的等離子設(shè)備，其中，在器皿中的氣體壓力基本上等于大氣壓并且器皿多于40%、尤其是多于50%、優(yōu)選多于60%、尤其優(yōu)選多于70%地以氦氣填充。6.按照上述權(quán)利要求之一所述的等離子設(shè)備，其中，電的等離子源(19)具有高頻發(fā)生器(20)和與高頻發(fā)生器(20)電連接的電極(22、24)，器皿(14)可至少部分地引入到所述電極之間。7.按照上述權(quán)利要求之一所述的等離子設(shè)備，其中，電的等離子源(35)具有磁控管(38)并且器皿(30)可至少部分地由磁控管(38)的電磁輻射穿透。8.按照上述權(quán)利要求之一所述的等離子設(shè)備，其特征在于，電的等離子源(60)具有感應(yīng)線圈(64)，器皿(52)可至少部分地引入到所述感應(yīng)線圈中。9.用于處理物體(18、32、56)、尤其是處理植入物的方法，具有如下方法步驟: a)將物體(18、32、56)放入到器皿(14、30、52)中; b)調(diào)節(jié)器皿(14、30、52)中的氣體壓力和/或氣體組分； c)封閉器皿(14、30、52); (1)將器皿(14、30、52)運(yùn)輸至等離子單元(12、34、58); e)借助等離子單元(12、34、58)的電的等離子源(19、35、60)在器皿(14、30、52)中直接地觸發(fā)等離子體(26、48、66)，其中，等離子單元(12、34、58)不具有氣體接頭和/或不具有栗，并且器皿(14、30、52)與等尚子單兀(12、34、58)隔開距尚。10.無電極地構(gòu)成的、可獨(dú)立于等離子單元(12、34、58)運(yùn)輸?shù)钠髅?14、30、52)的應(yīng)用，所述器皿至少部分地由玻璃制成，用于對物體(18、32、56)進(jìn)行等離子體處理、尤其是對等離子單元(12、34、58)中的植入物進(jìn)行等離子體處理，其中，等離子單元(12、34、58)不具有氣體接頭和/或不具有栗。
【文檔編號】A61F2/00GK105899240SQ201480068929
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2014年12月9日
【發(fā)明人】克里斯托夫-赫伯特·迪納
【申請人】克里斯托夫-赫伯特·迪納