本實(shí)用新型屬于烹飪器具技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種鍋體及具有其的烹飪器具。

背景技術(shù)：

Induction Heating，簡寫為IH，指利用了電磁誘導(dǎo)引起的兩次電流(旋渦電流)通過被加熱材料時(shí)發(fā)生的焦耳熱量。

現(xiàn)有IH導(dǎo)磁內(nèi)鍋大部分使用復(fù)合材料制作的內(nèi)鍋，這種內(nèi)鍋存在成本較高、且加熱效率較低、制備工藝復(fù)雜、成本較高等問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題，本實(shí)用新型提供一種鍋體及具有其的烹飪器具，采用冷噴涂工藝制備而成，具有導(dǎo)磁區(qū)域可靈活變化，隨意增加或減少導(dǎo)磁區(qū)域可實(shí)現(xiàn)鍋內(nèi)食物的沸騰及翻滾效果，且工藝簡單，成本低廉。

本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問題的技術(shù)方案如下：

一種鍋體，包括鍋本體和冷噴涂工藝制成的涂層，所述涂層至少覆蓋鍋本體的底部，所述涂層為導(dǎo)磁金屬層。

冷噴涂(CS：Cold Spray)，又稱為氣體動(dòng)力噴涂技術(shù)，是指當(dāng)具有一定塑性的高速固態(tài)粒子與基體碰撞后，經(jīng)過強(qiáng)烈的塑性變形而發(fā)生沉積形成涂層的方法。通常條件下，一般的概念是當(dāng)固態(tài)粒子碰撞到某種基體后將產(chǎn)生固態(tài)粒子對基體的沖蝕作用。

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型所述的鍋體，包括的涂層由冷噴涂工藝制成，具有導(dǎo)磁區(qū)域可靈活變化、隨意增加或減少導(dǎo)磁區(qū)域可實(shí)現(xiàn)鍋內(nèi)食物的沸騰及翻滾效果、工藝簡單，成本低廉、導(dǎo)磁性能好、涂層穩(wěn)定和性能優(yōu)異等優(yōu)點(diǎn)。

在冷噴涂時(shí)，噴涂粒子不需要熔化，并且發(fā)生相變、氧化、分解甚至晶粒長大的驅(qū)動(dòng)力都較小，有利于涂層的成功制備。對基體熱影響小，界面熱應(yīng)力相對較低，有利于提高界面結(jié)合力甚至可以根據(jù)具體使用需求獲得超厚或超薄涂層。能耗較少，利于環(huán)保。制得的涂層具有涂層致密性好等優(yōu)點(diǎn)，可以避免在使用過程中基材與涂層發(fā)生脫落。

在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本實(shí)用新型還可以做如下改進(jìn)。

進(jìn)一步，第一涂層在鍋本體的底部的覆蓋面呈圓環(huán)形或圓形。

采用上述方案的有益效果是：

當(dāng)?shù)谝煌繉釉阱伇倔w的底部的覆蓋面呈圓狀時(shí)，具有加熱效率高等優(yōu)點(diǎn)。

當(dāng)?shù)谝煌繉釉阱伇倔w的底部的覆蓋面呈圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)時(shí)，圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)的中部為非噴涂區(qū)域，可以作為溫控器的測溫區(qū)。

進(jìn)一步，所述第一涂層的厚度為0.1-0.6mm。

采用上述方案的有益效果是：合適的厚度，有利于具有成本低，金屬涂層厚度合適，不易脫落，性能穩(wěn)定、加熱功率大以及可批量穩(wěn)定應(yīng)用的優(yōu)點(diǎn)。如果厚度過小，容易導(dǎo)致性能不佳；如果厚度過小，容易導(dǎo)致導(dǎo)磁性不強(qiáng)，加熱效率低等問題。

進(jìn)一步，所述第一涂層的孔隙率為0.05-0.9％。

采用上述方案的有益效果是：具有提高導(dǎo)磁涂層結(jié)合力和電磁加熱功率的有益效果，低于這一范圍，會(huì)導(dǎo)致工藝過程實(shí)施困難的問題；高于這一范圍，會(huì)導(dǎo)致導(dǎo)磁涂層結(jié)合力和電磁加熱功率下降的問題。

進(jìn)一步，所述第一涂層的粗糙度為3-12微米。

采用上述方案的有益效果是：在此范圍的涂層具有致密性好、不易脫落、性能穩(wěn)定、可批量穩(wěn)定應(yīng)用等優(yōu)點(diǎn)。如果粗糙度過小或過大，容易導(dǎo)致涂層結(jié)合力差，易脫落、IH加熱效果差問題。

進(jìn)一步，所述覆蓋面呈圓環(huán)形，其內(nèi)徑為30-80mm。

采用上述方案的有益效果是：便于溫控器檢測溫度。

進(jìn)一步，所述第一涂層的外側(cè)邊緣距離鍋本體的底面的最底端的高度大于0，小于或等于40mm。

采用上述方案的有益效果是：具有提高加熱效率等優(yōu)點(diǎn)。

進(jìn)一步，所述涂層還包括第二涂層，所述第二涂層沿周向圍在鍋本體的側(cè)壁上。

采用上述方案的有益效果是：第二涂層可與側(cè)面的加熱線圈對應(yīng)進(jìn)一步提高IH加熱效果。

進(jìn)一步，所述第二涂層的高度為50-130mm。

采用上述方案的有益效果是：采用上述的數(shù)值范圍，平衡和生產(chǎn)成本與加熱效果，如果高度過高，容易導(dǎo)致成本增加，如果高度過低，加熱效果不理想。

進(jìn)一步，所述第二涂層的底端與鍋本體的底平面的距離為30-50mm。

采用上述方案的有益效果是：通過合適的參數(shù)范圍的設(shè)置可以保證第二涂層與線圈盤位置對應(yīng)，滿足用戶多段加熱的使用需求。

進(jìn)一步，所述涂層的材質(zhì)為鐵、不銹鋼或銅。

采用上述方案的有益效果是：進(jìn)一步增強(qiáng)導(dǎo)磁效果。

進(jìn)一步，所述鍋本體的材質(zhì)為鋁、鋁合金、不銹鋼或陶瓷。不銹鋼包括不銹鋼430、不銹鋼439、不銹鋼410、不銹鋼409或者其他類型的不銹鋼。

進(jìn)一步，所述鍋本體呈球形或外凸的鼓型。

本實(shí)用新型還提供一種烹飪器具，包括電磁感應(yīng)線圈和上述的鍋體，電磁感應(yīng)線圈與所述涂層的位置相對。烹飪器具可以為但不限于鍋具，其中鍋體可以作為鍋具的內(nèi)鍋。鍋具可以為但不限于電飯鍋、電壓力鍋等。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型為實(shí)施例1的鍋體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型為實(shí)施例2的鍋體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型為實(shí)施例3的鍋體的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖中，各標(biāo)號(hào)所代表的部件列表如下：

1、鍋本體，2、第一涂層，3、第二涂層。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的原理和特征進(jìn)行描述，所舉實(shí)例只用于解釋本實(shí)用新型，并非用于限定本實(shí)用新型的范圍。

一種鍋體，包括鍋本體1和冷噴涂工藝制成的涂層，所述涂層至少覆蓋鍋本體1的底部，所述涂層為導(dǎo)磁金屬層。所述涂層包括第一涂層2，第一涂層2在鍋本體1的底部的覆蓋面呈圓環(huán)形或圓形。當(dāng)所述覆蓋面為圓環(huán)形時(shí)，其內(nèi)徑可以為30-80mm。第一涂層2靠近圓心處為內(nèi)側(cè)，遠(yuǎn)離圓心處為外側(cè)。所述第一涂層2的外側(cè)邊緣距離鍋本體的底面的最底端的高度為0-40mm。

所述涂層可以包括多個(gè)涂層。例如涂層包括兩個(gè)涂層，分別為第一涂層2和第二涂層3，第一涂層2與上述的結(jié)構(gòu)相同，所述第二涂層3沿周向圍在鍋本體的側(cè)壁上。所述第二涂層3的高度為50-130mm。所述第二涂層3的底端與鍋本體1的底平面的距離為30-50mm。

所述涂層的材質(zhì)為鐵、不銹鋼或銅。所述鍋本體的材質(zhì)為鋁、鋁合金、不銹鋼或陶瓷。

所述鍋本體呈球形或外凸的鼓型，有利于提高加熱效率。

一種烹飪器具，包括電磁感應(yīng)線圈和上述的鍋體，電磁感應(yīng)線圈與涂層的位置相對。電磁感應(yīng)線圈用于對鍋體加熱。

在涂層制備時(shí)，可以采用下面的方法：利用冷噴涂系統(tǒng)將金屬粉末通過工作氣體噴涂在鍋本體的表面。所述金屬粉末的粒度為1-50微米。所述金屬粉末的速度為620-640m/s。所述工作氣體選自氮?dú)?、氦氣中的一種或兩種混合。工作氣體的加熱溫度為400-850℃。工作氣體的壓力為2-5Mpa。工作氣體流量為3180-3300L/min。所述送粉量為30-280g/min。冷噴涂時(shí)，噴槍移動(dòng)速度為300-600mm/s。噴涂距離為3-60mm。所述涂層的厚度為0.1-0.6mm。所述涂層的粗糙度為3-12微米，涂層的孔隙率為0.05-0.9％。

鍋本體在噴涂前可以通過清潔、噴砂、脫脂、去油污處理等方法進(jìn)行預(yù)處理，來提高涂層與鍋本體的結(jié)合能力。

當(dāng)某些部位不需要噴涂時(shí)，可以采用遮蔽物遮蔽一下。

冷噴涂系統(tǒng)可以通過市購獲得，一般包括高壓氣源、氣體調(diào)節(jié)控制系統(tǒng)、送粉系統(tǒng)、噴槍系統(tǒng)、粉末回收系統(tǒng)和氣體溫度控制系統(tǒng)。所述高壓氣源、氣體調(diào)節(jié)控制系統(tǒng)、送粉系統(tǒng)、噴槍系統(tǒng)和粉末回收系統(tǒng)依次連接，在氣體調(diào)節(jié)控制系統(tǒng)和噴槍系統(tǒng)之間還連接有氣體溫度控制系統(tǒng)。

氣體調(diào)節(jié)控制系統(tǒng)用于調(diào)節(jié)工作氣體用量和壓力。送粉系統(tǒng)用于將金屬粉末往噴槍系統(tǒng)輸送。噴槍系統(tǒng)用于將加速后的金屬粉末噴至鍋體表面。氣體溫度控制系統(tǒng)用于調(diào)節(jié)工作氣體的溫度。高壓氣源中的氣體，依次經(jīng)氣體調(diào)節(jié)控制系統(tǒng)和送粉系統(tǒng)，通過送粉系統(tǒng)進(jìn)入到噴槍系統(tǒng)內(nèi)，在噴槍系統(tǒng)內(nèi)工作氣體與金屬粉末混合后從噴槍系統(tǒng)的噴嘴噴出，成射流，在鍋體的表面形成涂層，多余的金屬粉末通過粉末回收系統(tǒng)進(jìn)行回收。

噴槍系統(tǒng)包括前氣室和噴嘴，前氣室和噴嘴的內(nèi)部連通。前氣室設(shè)有送粉口和高壓氣體入口；送粉口與送粉系統(tǒng)的送粉管道出口連接用于通入金屬粉末，高壓氣體入口用于通入工作氣體。金屬粉末在送粉管道出口處被工作氣體加速到金屬粒子的臨界速度，經(jīng)噴嘴從噴嘴的出口噴出，形成射流，射流在鍋體的表面形成涂層。

下面通過一些具體的實(shí)施例來介紹本實(shí)用新型的技術(shù)方案。

實(shí)施例1

如圖1所示，鍋體為單段IH加熱內(nèi)鍋，鍋體包括鍋本體1和第一涂層2，所述鍋本體呈球形或外凸的鼓型，第一涂層2位于鍋本體1的外側(cè)，鍋本體1的材質(zhì)為鋁，第一涂層2為導(dǎo)磁金屬被噴涂在鍋本體1的底部形成的導(dǎo)磁金屬，第一涂層2為連續(xù)的區(qū)域，第一涂層2完全覆蓋了鍋本體1的底部，第一涂層2為圓形，所述第一涂層2的外側(cè)邊緣距離鍋本體的底面的最底端的高度h為0-40mm。當(dāng)h為0時(shí)，說明第一涂層2只覆蓋鍋本體1的底部。當(dāng)h大于0且小于等于40mm時(shí)，說明第一涂層2不僅只覆蓋鍋本體1的底部而且還覆蓋住過本體的底壁和側(cè)壁連接的弧度過度處并沿周向圍繞在鍋本體1的部分側(cè)壁上。所述第一涂層2的厚度為0.1-0.6mm。所述第一涂層2的粗糙度為3-12微米。第一涂層2的孔隙率為0.05-0.9％。

實(shí)施例2

如圖2所示，鍋體為單段增強(qiáng)沸騰型IH加熱內(nèi)鍋，鍋本體1和第一涂層2，所述鍋本體呈球形或外凸的鼓型，第一涂層2位于鍋本體1的外側(cè)，鍋本體1的材質(zhì)為鋁，第一涂層2為導(dǎo)磁金屬被噴涂在鍋本體1的底部形成的導(dǎo)磁金屬，第一涂層2為連續(xù)的區(qū)域，第一涂層2除中部為圓狀未噴涂區(qū)域外第一涂層2的其余區(qū)域完全覆蓋了鍋本體1的底部，第一涂層2為圓環(huán)形，中部的圓狀未噴涂區(qū)域的直徑(即圓環(huán)狀結(jié)構(gòu)的內(nèi)徑)d為30-80mm，該區(qū)域可以作為溫控器的測溫區(qū)，便于根據(jù)測量的結(jié)果對包含鍋體的烹飪器具進(jìn)行控制。所述第一涂層2的外側(cè)邊緣距離鍋本體的底面的最底端的高度h為0-40mm。當(dāng)h為0時(shí)，說明第一涂層2只覆蓋鍋本體1的底部。當(dāng)h大于0且小于等于40mm時(shí)，說明第一涂層2不僅只覆蓋鍋本體1的底部而且還覆蓋住過本體的底壁和側(cè)壁連接的弧度過度處并沿周向圍繞在鍋本體1的部分側(cè)壁上。所述第一涂層2的厚度為0.1-0.6mm。所述第一涂層2的粗糙度為3-12微米。第一涂層2的孔隙率為0.05-0.9％。在此范圍的涂層具有致密性好、不易脫落、性能穩(wěn)定、可批量穩(wěn)定應(yīng)用等優(yōu)點(diǎn)。發(fā)明人研究中嘗試了在其他數(shù)值范圍的粗糙度，經(jīng)過比較發(fā)現(xiàn)，當(dāng)粗糙度Ra控制低于3微米時(shí),涂層膜厚非常薄，無法成膜；當(dāng)粗糙度Ra高于12微米時(shí)，涂層疏松，易脫落。

實(shí)施例3

如圖3所示，鍋體為多段增強(qiáng)沸騰型IH加熱內(nèi)鍋，在實(shí)施例1或?qū)嵤?的基礎(chǔ)上又增加了第二涂層3，即鍋體包括鍋本體1、第一涂層2和第二涂層3，所述鍋本體1的材質(zhì)為鋁、鋁合金、不銹鋼或陶瓷。

第一涂層2和第二涂層3均位于鍋本體1的外側(cè)，第二涂層3位于第一涂層2的上方，第一涂層2和第二涂層3均為由冷工藝噴涂成的導(dǎo)磁金屬層，所述涂層的材質(zhì)為鐵、不銹鋼或銅。

第二涂層3沿周向圍在鍋本體1的側(cè)壁上，圍了一圈，所述第二涂層3的高度h2為50-130mm。第二涂層3的底端與鍋本體1的底平面的距離h1為30-50mm。第二涂層3與第一涂層2不連接。

所述第一涂層2和第二涂層3的厚度均為0.1-0.6mm。所述第一涂層2和第二涂層3的粗糙度均為3-12微米。第一涂層2和第二涂層3的孔隙率均為0.05-0.9％。

在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語“厚度”、“上”、“下”、“頂”、“底”“內(nèi)”、“外”、“周向”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本實(shí)用新型的限制。

此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個(gè)該特征。在本實(shí)用新型的描述中，“多個(gè)”的含義是至少兩個(gè)，例如兩個(gè)，三個(gè)等，除非另有明確具體的限定。

在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本實(shí)用新型的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不必須針對的是相同的實(shí)施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以將本說明書中描述的不同實(shí)施例或示例以及不同實(shí)施例或示例的特征進(jìn)行結(jié)合和組合。

以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。