1.一種用于定位物體的定位系統(tǒng)，其中所述定位系統(tǒng)被配置為在N個(gè)自由度中定位所述物體，其中N是正整數(shù)，所述定位系統(tǒng)包括：
M個(gè)致動器裝置，每個(gè)致動器裝置被配置為向部件施加力，以及M是大于N的正整數(shù)，其中所述致動器裝置中的至少一個(gè)是補(bǔ)償致動器裝置而所述致動器裝置中的至少另一個(gè)是非補(bǔ)償致動器裝置；以及
控制器，被配置為控制補(bǔ)償致動器裝置和非補(bǔ)償致動器裝置，其中所述控制器被配置為控制所述補(bǔ)償致動器裝置以補(bǔ)償所述非補(bǔ)償致動器裝置的寄生力，其中
補(bǔ)償致動器裝置和所述非補(bǔ)償致動器裝置被配置用于在其上的相同點(diǎn)處向所述物體施加力，以及所述控制器被配置為控制所述補(bǔ)償致動器裝置以補(bǔ)償所述非補(bǔ)償致動器裝置的所述寄生力。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位系統(tǒng)，其中，另一補(bǔ)償致動器裝置和/或另一非補(bǔ)償致動器裝置被配置為向所述相同點(diǎn)施加力，并且所述控制器被配置為控制所述另一補(bǔ)償致動器裝置和/或另一非補(bǔ)償致動器裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的定位系統(tǒng)，其中，存在向所述物體施加力的P個(gè)點(diǎn)，其中P是小于或等于N的正整數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的定位系統(tǒng)，其中在相同點(diǎn)處N是二并且M是三，其中存在兩個(gè)非補(bǔ)償致動器裝置和一個(gè)補(bǔ)償致動器裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的定位系統(tǒng)，其中，P是三。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)，其中，所述控制器被配置為控制所述至少一個(gè)補(bǔ)償致動器裝置和至少一個(gè)非補(bǔ)償致動器裝置，從而在每個(gè)點(diǎn)處施加的凈力正交于在任意其他點(diǎn)處施加的凈力。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)，其中，所述M個(gè)致動器裝置中的任意一個(gè)包括作為洛侖茲致動器或磁阻致動器的致動器。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)，其中，所述補(bǔ)償致動器裝置和所述非補(bǔ)償致動器裝置形成了作為平面電動機(jī)的致動器。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)，其中，使用至少一個(gè)彈簧將所述致動器連接至所述物體。
10.根據(jù)權(quán)利要求8至9中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)，其中，使用至少一個(gè)彈簧將所述致動器裝置連接至支撐框架。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)，其中，由至少一個(gè)致動器裝置施加的力是線性力或旋轉(zhuǎn)力。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)，其中，所述物體是光學(xué)元件，更優(yōu)選地是反射器。
13.一種光刻設(shè)備，包括前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)，其中所述光刻設(shè)備進(jìn)一步包括物體并且所述物體是反射器。
14.一種使用前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的定位系統(tǒng)以補(bǔ)償物體的振動的方法。
15.一種器件制造方法，包括將輻射的投射束經(jīng)由光學(xué)元件投射至位于襯底工作臺上的襯底上，其中定位系統(tǒng)被配置為在N個(gè)自由度中定位所述光學(xué)元件，其中N是正整數(shù)，所述定位系統(tǒng)包括M個(gè)致動器裝置，每個(gè)致動器裝置被配置用于向所述光學(xué)元件施加力，以及M是大于N的正整數(shù)，其中所述致動器裝置中的至少一個(gè)是補(bǔ)償致動器裝置而所述致動器裝置中的至少另一個(gè)是非補(bǔ)償致動器裝置；以及控制器被配置為控制補(bǔ)償致動器裝置和非補(bǔ)償致動器裝置，其中所述控制器被配置為控制所述補(bǔ)償致動器裝置以補(bǔ)償所述非補(bǔ)償致動器裝置的寄生力，其中所述補(bǔ)償致動器裝置和非補(bǔ)償致動器裝置被配置為在所述物體上相同點(diǎn)處向所述物體施加力，以及所述控制器被配置為控制所述補(bǔ)償致動器裝置以補(bǔ)償所述非補(bǔ)償致動器裝置的所述寄生力。