技術(shù)總結(jié)
一種浸沒式光刻設(shè)備具有控制器(500)，所述控制器(500)被配置用以控制襯底臺(WT)沿著曝光路線移動，所述曝光路線按次序包括：進入運動(R2)，其中襯底從浸沒空間(10)不與所述襯底重疊的襯底外位置移動至所述浸沒空間與所述襯底至少部分地重疊的襯底上位置；轉(zhuǎn)移運動(R3，R4)，其中所述襯底臺在所述襯底移動至所述襯底上位置之后改變速度和/或方向且移動至少一轉(zhuǎn)移時間；和曝光運動，其中掃描所述襯底且使圖案化的束投影至所述襯底上，其中貫穿所述轉(zhuǎn)移運動，所述浸沒空間的至少一部分與所述襯底重疊，且其中所述圖案化的束在所述進入運動及所述轉(zhuǎn)移運動期間沒有被投影至所述襯底上。

技術(shù)研發(fā)人員：N·J·M·范德紐維拉爾;V·M·布蘭科卡巴洛;C·R·德格魯特;R·H·J·屈斯泰;D·M·菲利普斯;F·A·范德桑德;P·L·J·崗特爾;E·H·E·C·尤姆麥倫;Y·J·G·范德維基沃爾;B·D·斯霍爾滕;M·武泰;R·F·科克斯;J·A·維埃拉薩拉斯
受保護的技術(shù)使用者：ASML荷蘭有限公司
文檔號碼：201580051801
技術(shù)研發(fā)日：2015.06.30
技術(shù)公布日：2017.05.24