1.一種激光整形系統(tǒng)，其特征在于，包括：
前級激光器與后級激光器；
1/2波片，用于改變所述前級激光器出射的激光的偏振態(tài)；
偏振分光棱鏡，用于將所述1/2波片出射的激光的大部分引導至第一光路出射，剩余部分引導至第二光路出射；
1/4波片，用于改變第一光路出射的激光的偏振態(tài)；
受激布里淵散射相位共軛鏡SBS-PCM，用于對所述1/4波片出射的激光整形后反射回該1/4波片；
第一分光元件，所述反射回1/4波片的激光經(jīng)所述偏振分光棱鏡引導至該分光元件，該分光元件用于將該激光的大部分引導至所述后級激光器，剩余部分引導至第三光路出射；
第一檢測組件，用于檢測第二光路出射的激光的參數(shù)；
第二檢測組件，用于檢測第三光路出射的激光的所述參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光整形系統(tǒng)，其特征在于：
第一檢測組件包括第二分光元件、第一能量計，第二分光元件用于將第二光路出射的激光的部分光出射至第一能量計，剩余光引導至第四光路出射；
第二檢測組件包括第三分光元件、第二能量計，第三分光元件用于將第三光路出射的激光的部分光出射至第二能量計，剩余光引導至第五光路出射。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光整形系統(tǒng)，其特征在于：
第一檢測組件還包括第四分光元件、第一遠場分布測量器，第四分光元件用于將第四光路出射的激光的部分光出射至第一遠場分布測量器，剩余光引導至第六光路出射；
第二檢測組件還包括第五分光元件、第二遠場分布測量器，第五分光元件用于將第五光路出射的激光的部分光出射至第二遠場分布測量器，剩余光引導至第七光路出射。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光整形系統(tǒng)，其特征在于：
第一檢測組件還包括第六分光元件、第一時間波形分布測量器，第六分光元件用于將第六光路出射的激光的部分光出射至第一時間波形分布測量器，剩余光引導至第八光路出射；
第二檢測組件還包括第七分光元件、第二時間波形分布測量器，第七分光元件用于將第七光路出射的激光的部分光出射至第二時間波形分布測量器，剩余光引導至第九光路出射。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光整形系統(tǒng)，其特征在于：
第一檢測組件還包括第八分光元件、第一波前相位分布測量器，第八分光元件用于將第八光路出射的激光的部分光出射至第一波前相位分布測量器，剩余光引導至第十光路出射；
第二檢測組件還包括第九分光元件、第二波前相位分布測量器，第九分光元件用于將第九光路出射的激光的部分光出射至第二波前相位分布測量器，剩余光引導至第十一光路出射。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的激光整形系統(tǒng)，其特征在于：
第一檢測組件還包括第一近場分布測量器，用于接收第十光路出射的激光；
第二檢測組件還包括第二近場分布測量器，用于接收第十一光路出射的激光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光整形系統(tǒng)，其特征在于：
第一檢測組件包括第一能量計，且第二檢測組件包括第二能量計；或，
第一檢測組件包括第一遠場分布測量器，且第二檢測組件包括第二遠場分布測量器；或，
第一檢測組件包括第一近場分布測量器，且第二檢測組件包括第二近場分布測量器；或，
第一檢測組件包括第一時間波形分布測量器，且第二檢測組件包括第二時間波形分布測量器；或，
第一檢測組件包括第一波前相位分布測量器，且第二檢測組件包括第二波前相位分布測量器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的激光整形系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)還包括：
調(diào)整器件，用于調(diào)整所述1/2波片，以改變?nèi)肷湓?/2波片的激光的偏振方向與該1/2波片的晶片光軸的夾角。
9.一種激光整形系統(tǒng)的檢測裝置，其特征在于，包括：
1/2波片，用于改變前級激光器出射的激光的偏振態(tài)；
偏振分光棱鏡，用于將所述1/2波片出射的激光的大部分引導至第一光路出射，剩余部分引導至第二光路出射；
1/4波片，用于改變第一光路出射的激光的偏振態(tài)，并將該激光出射至受激布里淵散射相位共軛鏡SBS-PCM；
第一分光元件，所述SBS-PCM反射回1/4波片的激光經(jīng)所述偏振分光棱鏡引導至該分光元件，該分光元件用于將該激光的大部分引導至所述后級激光器，剩余部分引導至第三光路出射；
第一檢測組件，用于檢測第二光路出射的激光的參數(shù)；
第二檢測組件，用于檢測第三光路出射的激光的所述參數(shù)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的激光整形系統(tǒng)的檢測裝置，其特征在于，該裝置還包括：
調(diào)整器件，用于調(diào)整所述1/2波片，以改變?nèi)肷湓?/2波片的激光的偏振方向與該1/2波片的晶片光軸的夾角。