本實用新型是涉及一種光罩檢測裝置，尤其是涉及一種可對光罩的框架上的防塵膜進行微粒檢測，且通過測距后升降調(diào)整的方式，對各檢測區(qū)域精準(zhǔn)采集檢測影像，以對應(yīng)產(chǎn)生防塵膜高度信息及檢測信息的光罩檢測裝置。

背景技術(shù)：

就現(xiàn)有的半導(dǎo)體組件制造技術(shù)來說，半導(dǎo)體組件的電路圖案是通過光罩將電路圖案轉(zhuǎn)印至晶圓的表面上形成的。

換言之，由于半導(dǎo)體組件的微小化，在制造半導(dǎo)體組件的過程中，光罩的缺陷將會大大影響硅晶圓表面之電路圖案的質(zhì)量，例如造成電路圖案之扭曲或變形；而，目前最常見的造成光罩缺陷的原因在于光罩的表面附有微粒。

因此，為了維持光罩在使用期間的質(zhì)量，公知技術(shù)中光罩的表面上設(shè)置一種光罩保護薄膜(pellicle)，用以防止微粒掉落在光罩表面：然而，光罩保護膜的構(gòu)造中所包含防塵膜在設(shè)置過程中，可能會被微粒附著，進而恐具有光罩在作業(yè)或運送途中，位于防塵膜上的微粒掉落在光罩表面的風(fēng)險。

承上述，如何在光罩的使用之前，將光罩保護薄膜的防塵膜上的微粒檢測出來，將是該相關(guān)產(chǎn)業(yè)亟需思考并解決的一大課題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于上述公知的問題，本實用新型的目的在于提供一種光罩檢測裝置，用以解決公知技術(shù)中所面臨的問題。

基于上述目的，本實用新型提供一種光罩檢測裝置，其包含檢測基座、移動平臺、轉(zhuǎn)動平臺、承載平臺、激光測距模塊、垂直位移模塊、處理模塊及影像采集模塊。檢測基座的一面上設(shè)有支架。沿檢測基座作第一方向位移的移動平臺設(shè)于檢測基座之的一面上，且位于檢測基座及支架之間。沿移動平臺作與第一方向垂直的第二方向位移的轉(zhuǎn)動平臺設(shè)于移動平臺上。承載平臺設(shè)于轉(zhuǎn)動平臺的一面上，承載平臺承載光罩，光罩包含基板、框架及防塵膜，框架設(shè)于基板的一面上，防塵膜設(shè)于框架上。對應(yīng)防塵膜的其中一個檢測區(qū)域產(chǎn)生測距信號的激光測距模塊設(shè)于支架一側(cè)距模塊。垂直位移模塊設(shè)于支架的一側(cè)。根據(jù)測距信號控制垂直位移模塊升降的處理模塊連結(jié)激光測距模塊及垂直位移模塊。于垂直位移模塊升降后，采集由激光測距模塊所測量的檢測區(qū)域的檢測影像的影像采集模塊連結(jié)處理模塊，且相鄰激光測距模塊而設(shè)置于垂直位移模塊上。其中，當(dāng)影像采集模塊采集其中一個檢測區(qū)域的檢測影像后，移動平臺將下一個檢測區(qū)域移至對應(yīng)激光測距模塊及影像采集模塊的位置，以產(chǎn)生下一個檢測區(qū)域的測距信號及檢測影像，處理模塊根據(jù)多個測距信號產(chǎn)生防塵膜高度信息，且根據(jù)各檢測影像產(chǎn)生檢測信息。

較佳地，移動平臺可包含轉(zhuǎn)動平臺沿著位移的導(dǎo)軌。

較佳地，檢測信息可包含微粒位置、微粒尺寸或其組合。

承上所述，本實用新型之光罩檢測裝置于影像采集模塊在采集其中一個檢測區(qū)域的檢測影像之前，先通過激光測距模塊對檢測區(qū)域進行測量，待設(shè)有影像采集模塊的垂直位移模塊根據(jù)測距信號升降后，影像采集模塊再對該檢測區(qū)域進行檢測影像的采集；以達到精密檢測之目的，且具有提升后續(xù)的微縮制程良率的效果。

附圖說明

圖1為本實用新型的光罩檢測裝置的示意圖。

圖2為本實用新型的光罩檢測裝置的方塊圖。

圖3為本實用新型的光罩檢測裝置的光罩的第一示意圖。

圖4為本實用新型的光罩檢測裝置的光罩的第二示意圖。

圖5為本實用新型的光罩檢測裝置的檢測流程圖。

具體實施方式

為利貴審查員了解本實用新型的特征、內(nèi)容與優(yōu)點及其所能達成的效果，茲將本實用新型配合附圖，并以實施例的表達形式詳細說明如下，而其中所使用的附圖，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為本實用新型實施后的真實比例與精準(zhǔn)配置，故不應(yīng)就所附的附圖的比例與配置關(guān)系解讀、局限本實用新型于實際實施上的權(quán)利范圍。

本實用新型的優(yōu)點、特征以及達到的技術(shù)方法將參照例示性實施例及所附附圖進行更詳細地描述而更容易理解，且本實用新型或可以不同形式來實現(xiàn)，故不應(yīng)被理解僅限于此處所陳述的實施例，相反地，對所屬技術(shù)領(lǐng)域具有通常知識者而言，所提供的實施例將使本實用新型公開更加透徹與全面且完整地傳達本實用新型的范疇，且本實用新型將僅為所附加的權(quán)利要求所定義。

請參閱圖1至4；圖1為本實用新型的光罩檢測裝置的示意圖；圖2為本實用新型的光罩檢測裝置的方塊圖；圖3為本實用新型的光罩檢測裝置的光罩的第一示意圖；圖4為本實用新型的光罩檢測裝置的光罩的第二示意圖。如圖所示，本實用新型的光罩檢測裝置100包含了檢測基座110、移動平臺120、轉(zhuǎn)動平臺130、承載平臺140、激光測距模塊150、垂直位移模塊160、處理模塊170及影像采集模塊180。其中，移動平臺120用以帶動承載著光罩141的承載平臺140移動位移，以使光罩141的防塵膜103的各檢測區(qū)域104依序移至對應(yīng)激光測距模塊150及影像采集模塊180的位置；垂直位移模塊160用以帶動影像采集模塊180升降；處理模塊170連結(jié)移動平臺120、轉(zhuǎn)動平臺130、激光測距模塊150、垂直位移模塊160及影像采集模塊180，并用以控制移動平臺120移動、控制垂直位移模塊160升降，以及分析檢測影像以產(chǎn)生對應(yīng)的檢測信息，且根據(jù)測距信號產(chǎn)生防塵膜高度信息。

換言之，檢測基座110的一面上設(shè)有支架111。移動平臺120則設(shè)于檢測基座110設(shè)有支架111的一面上，且移動平臺120位于檢測基座110及支架111之間，即，支架111橫亙于移動平臺120之上；移動平臺120可沿檢測基座110作第一方向位移。轉(zhuǎn)動平臺130設(shè)于移動平臺120之上，且可沿著移動平臺120作第二方向位移；其中；第一方向與第二方向互為垂直，換句話說，光罩141可通過移動平臺于檢測基座110平面上作相對檢測基座110的X軸及Y軸方向的位移。

承載平臺140設(shè)于轉(zhuǎn)動平臺130的一面上，承載平臺140承載光罩141；如圖3所示，光罩141包含基板101、框架102及防塵膜103，框架102設(shè)于基板101的一面上，防塵膜103設(shè)于框架102上，而防塵膜103上具有多個檢測區(qū)域104，即為測量及檢測的目標(biāo)對象。

激光測距模塊150設(shè)于支架111的一側(cè)，用以測量防塵膜103中之多個檢測區(qū)域104，激光測距模塊150對應(yīng)防塵膜103的其中一個檢測區(qū)域104產(chǎn)生測距信號。垂直位移模塊160設(shè)于支架111一側(cè)。處理模塊170根據(jù)測距信號控制垂直位移模塊160升降。影像采集模塊180相鄰激光測距模塊150而設(shè)置于垂直位移模塊160上，且于垂直位移模塊160升降后，采集由激光測距模塊150所測量的檢測區(qū)域104的檢測影像。其中，通過處理模塊170控制垂直位移模塊160升降，以使所欲采集的檢測區(qū)域104與影像采集模塊180的距離符合影像采集模塊180的焦距；而，垂直位移模塊160較佳是以垂直移動平臺120的方向升降，即使影像采集模塊180相對防塵膜103進行升降作動。

而，當(dāng)影像采集模塊180采集其中一個檢測區(qū)域104的檢測影像后，移動平臺120將下一個檢測區(qū)域104移至對應(yīng)激光測距模塊150及影像采集模塊180的位置，以產(chǎn)生下一個檢測區(qū)域104的測距信號及檢測影像；通過上述方式，取得各檢測區(qū)域104的測距信號及檢測影像，以使處理模塊170可根據(jù)多個測距信號產(chǎn)生防塵膜高度信息，且根據(jù)各檢測影像產(chǎn)生檢測信息；其中，檢測信息包含檢測區(qū)域中的微粒相關(guān)信息，如微粒位置、微粒尺寸等。

承上述，移動平臺120進一步可包含導(dǎo)軌121，轉(zhuǎn)動平臺130位于導(dǎo)軌121之上，進而轉(zhuǎn)動平臺130可沿著導(dǎo)軌121進行第二方向位移。

如圖4所示，由于可能因氣壓改變而使得防塵膜103與基板101之間的空間中的氣體產(chǎn)生膨脹，而造成防塵膜103凸起，凸起的防塵膜103在光罩141的使用過程中，將可能產(chǎn)生防塵膜103破裂而沾附在光罩141上的情況；因此，通過激光測距模塊150對各檢測區(qū)域104產(chǎn)生測距信號之后，處理模塊170便可根據(jù)多個測距信號產(chǎn)生防塵膜高度信息，且可進一步將防塵膜高度信息匯整而以附圖表示，以事先將過度凸起的光罩141取出，達到掌握防塵膜103膨脹情況的效果。

請參閱圖5，其為本實用新型的光罩檢測裝置的檢測流程圖。如圖所示，本實用新型的光罩檢測裝置可包含下列檢測步驟：

在步驟S51中：測量位于預(yù)設(shè)位置的光罩的防塵膜中的其中一個檢測區(qū)域，并對應(yīng)產(chǎn)生測距信號。預(yù)設(shè)位置是指激光測距模塊可進行測量及影像采集模塊可進行檢測影像的采集的位置。

在步驟S52中：根據(jù)測距信號控制設(shè)于垂直位移模塊上的影像采集模塊升降。

在步驟S53中：采集對應(yīng)測距信號的檢測區(qū)域的檢測影像。

在步驟S54中：通過移動平臺將另一個檢測區(qū)域移至預(yù)設(shè)位置，并對應(yīng)產(chǎn)生測距信號及采集檢測影像。

反復(fù)執(zhí)行上述中步驟S51至步驟S54直至所有檢測區(qū)域都測量且檢測完畢。

在步驟S55中：測量多個檢測區(qū)域后，根據(jù)多個測距信號產(chǎn)生防塵膜高度信息。

在步驟S56中：采集多個檢測區(qū)域之多個檢測影像后，根據(jù)各檢測影像產(chǎn)生檢測信息。

承上所述，本實用新型的光罩檢測裝置于影像采集模塊在采集其中一個檢測區(qū)域的檢測影像之前，先通過激光測距模塊對該檢測區(qū)域進行測量，待設(shè)有影像采集模塊的垂直位移模塊根據(jù)測距信號升降后，影像采集模塊再對該檢測區(qū)域進行檢測影像的采集；以達到精密檢測之目的，且具有提升后續(xù)的微縮制程良率的功效。

以上所述之實施例僅為說明本實用新型之技術(shù)思想及特點，其目的在使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠了解本實用新型的內(nèi)容并據(jù)以實施，當(dāng)不能以之限定本實用新型之專利范圍，即大凡依本實用新型所公開的精神所作的均等變化或修飾，仍應(yīng)涵蓋在本實用新型的權(quán)利要求內(nèi)。