本發(fā)明關于一種光學膜片；具體而言，本發(fā)明關于一種使用于顯示模塊的抗反射光學膜片。

背景技術：

平面及曲面顯示設備已被廣泛地應用于各式的電子裝置之中，例如移動電話、個人穿戴裝置、電視、交通工具用主機、個人計算機、數(shù)字相機、掌上型電玩等。然而為了提高用戶的視覺感受，業(yè)者仍在不斷地就顯示設備的光學表現(xiàn)進行改良。

例如部分顯示設備的顯示面會因在使用時因外在環(huán)境光的關系而產(chǎn)生眩光。在大多數(shù)的使用狀況下，眩光往往造成部分用戶在視覺上的不舒服，并影響顯示影像的光學表現(xiàn)。為了解決此一問題，部分習知的顯示設備會在顯示面上加設有粗糙表面的高霧度層，以降低眩光產(chǎn)生的情形。然為當霧度較高時，使用者容易因為高霧度層的設置而感覺顯示面上有白霧的不清晰感。

為了降低上述的白霧不清晰感，部分現(xiàn)有的顯示設備會在上述高霧度層的外表面再鍍上抗反射層。然而抗反射層往往會因其厚度不均勻，而使得高霧度層的表面粗糙度受到影響，進而影響整體的光學表現(xiàn)。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種光學膜片，可提高設置于粗糙層上抗反射層的分布均勻度。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種光學膜片，可于粗糙層上布設抗反射層后仍維持有較接近的粗糙度。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種光學膜片，可減輕因于粗糙層上布設抗反射層后產(chǎn)生的粗糙度差異而導至反射率提高的現(xiàn)象。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種顯示模塊，可兼顧減低眩光及反射率的光學效果。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種光學膜片，包含：

一基底膜，具有一承載面；

一粗糙層，設置于該承載面上；其中，該粗糙層具有一粗糙面與該承載面相背；該粗糙面于一預設方向上的截面上具有一截面曲線；由該截面曲線得出一參考基線，該截面曲線低于該參考基線的部分形成多數(shù)谷部，至少部分該谷部的最大深度與最大寬度的比值不大于0.26；以及

一抗反射層，設置于該粗糙面上；

其中，該參考基線系為該截面曲線的75％高程線。

其中，該些谷部分別具有一谷底部位，至少部分該谷底部位的曲率半徑不小于1.4μm。

其中參考基線與該截面曲線的平均波峰高程距離小于1μm。

其中，該粗糙面系于75％高程處定義一參考基準面；該粗糙面上低于該參考基準面的部分于該參考基準面上具有一第一投影面積，該粗糙面上高于該參考基準面的部分于該參考基準面上具有一第二投影面積，該第一投影面積與該第二投影面積的比值介于16％至78.5％之間。

其中，該截面曲線高于該參考基線的部分形成多數(shù)峰部，該些谷部中相對該粗糙面呈外突者占該些谷部的比例小于該些峰部中相對該粗糙面呈外突者占該些峰部的比例。

其中，該抗反射層迭合于該粗糙層后的霧度大于65％。

而且，為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種光學膜片，包含：

一基底膜，具有一承載面；

一粗糙層，設置于該承載面上；其中，該粗糙層具有一粗糙面與該承載面相背；該粗糙面于一預設方向上的截面上具有一粗糙曲線；由該粗糙曲線得出一平均線，該粗糙曲線低于該平均線的部分形成多數(shù)谷部，至少部分該谷部的最大深度與最大寬度的比值不大于0.26；以及

一抗反射層，設置于該粗糙面上。

其中，該些谷部分別具有一谷底部位，至少部分該谷底部位的曲率半徑不小于1.4μm。

其中，該粗糙面系于75％高程處定義一參考基準面；該粗糙面上低于該參考基準面的部分于該參考基準面上具有一第一投影面積，該粗糙面上高于該參考基準面的部分于該參考基準面上具有一第二投影面積，該第一投影面積與該第二投影面積的比值介于16％至78.5％之間。

其中，該粗糙曲線高于該平均線的部分形成多數(shù)峰部，該些谷部中相對該粗糙面呈外突者占該些谷部的比例小于該些峰部中相對該粗糙面呈外突者占該些峰部的比例。

顯示模塊包含有光學膜片及顯示面板。顯示面板具有顯示面，而光學膜片則設置于顯示面上。光學膜片包含基底膜、粗糙層及抗反射層。基底膜具有承載面，而承載面與基底膜上朝向顯示面的一面相背。粗糙層設置于承載面上，并具有與承載面相背向的粗糙面?？狗瓷鋵觿t分布設置于粗糙面上。

粗糙面于預設方向上的截面具有截面曲線。由截面曲線可以得出虛擬的參考基線。例如，參考基線可為截面曲線的75％高程線。相對于參考基線，截面曲線中有部分會低于參考基線而形成為谷部，部分則高于參考基線而形成為峰部；其中部分谷部的最大深度與最大寬度的比值不大于0.26。由此，設置抗反射層后的光學膜片整體粗糙度與粗糙面本身的粗糙度差異將會較小，進而減輕反射率增加的狀況。

附圖說明

圖1為本發(fā)明顯示模塊的實施例示意圖；

圖2為本發(fā)明光學膜片的實施例組件爆炸圖；

圖3為圖2所示實施例的截面示意圖；

圖4為截面曲線的實施例放大示意圖；

圖5為截面曲線的實施例示意圖；

圖6為粗糙層的實施例示意圖；

圖7為由截面曲線得到粗糙曲線的實施例示意圖。

其中，附圖標記：

10 光學膜片

30 顯示面板

31 顯示面

100 基底膜

110 承載面

200 預設方向

210 截面

300 粗糙層

310 粗糙面

311 凹部

313 凸部

330 粗糙結構

350 截面曲線

351 谷部

352 谷底部位

353 峰部

370 參考基線

380 參考基準面

500 抗反射層

700 粗糙曲線

710 平均線

具體實施方式

本發(fā)明提供一種光學膜片以及使用此光學膜片的顯示模塊。顯示模塊較佳可應用于各式顯示器上，例如：計算機顯示器、電視、監(jiān)視器、車用主機等。此外，顯示模塊亦可運用于其他電子裝置中所包含的顯示模塊上，例如手機、數(shù)字相機、掌上型游樂器等的顯示屏幕。

如圖1所示，顯示模塊包含有光學膜片10及顯示面板30。顯示面板30具有顯示面31，而光學膜片10則設置于顯示面31上。在較佳實施例中，光學膜片10系具有偏極化光線的光學效果；此外，光學膜片10亦具有降低眩光的功效。顯示面板30較佳為液晶顯示面板，可配合背光模塊(未繪示)來進行影像的顯示。然而在不同實施例中，顯示面板30亦可為自發(fā)光式的顯示面板，例如有機發(fā)光二極管面板，或者是其他如電泳顯示面板等其他類似的顯示面板。

在圖2及圖3所示的實施例中，光學膜片包含基底膜100、粗糙層300及抗反射層500。基底膜100具有承載面110，而承載面110系與基底膜100上朝向顯示面31的一面相背?；啄?00較佳為偏光片；然而在不同實施例中，基底膜100亦可為具其他光學效果的膜片，或是不具有特別光學效果的透明膜片。

如圖2及圖3所示，粗糙層300設置于承載面110上，并具有與承載面110相背向的粗糙面310。粗糙層300包含分布于承載面110的粗糙結構330，其中粗糙結構330形成有多個凸起及其間的凹坑；而粗糙結構330的表面即為粗糙面310。粗糙層300的材質較佳為樹脂材質，且較佳采用相轉換法制成，例如熱誘導式相分離法、蒸氣誘導式相分離法、干式法及濕式法等。抗反射層500設置于粗糙面310上；以較佳實施例而言，抗反射層500可以為金屬氧化物或其他化合物材質所制成?？狗瓷鋵?00系可以各式鍍膜制程、涂布或其他制程形成于粗糙面310上。

如圖2及圖3所示，粗糙面310于一預設方向200上的截面210具有截面曲線350。預設方向200較佳為平行于承載面110的方向；換言之，預設方向200落入如圖2所示的X-Y平面上，例如可以為粗糙面310上任一側邊的延伸方向。預設方向200上的截面210較佳系垂直于承載面110；舉例而言，若在粗糙面310上先訂下預設方向200，即可沿預設方向200朝垂直方向切割粗糙層300以得到截面210。而截面210與粗糙面310的交會處即為截面曲線350。然而在實務上欲測得截面曲線350時，不必然需實際對粗糙層300進行切割，僅需以相關儀器沿默認方向200進行探測，即可得到此截面210上的截面曲線350。

如圖3及圖4所示，由截面曲線350可以得出一虛擬的參考基線370。以較佳實施例而言，參考基線370系為截面曲線350的75％高程線(100％為最高的高程)。例如若以承載面110與截面210的交界作為高程為0的參考線，截面曲線350上的各點分別可以得到相對的一高程高度；對于將這些高程高度進行統(tǒng)計分析后取第三(由下而上)的四分位數(shù)高度作為參考基線370的高程。相對于參考基線370，截面曲線350中有部分會低于參考基線370而形成為谷部351，部分則高于參考基線370而形成為峰部353。其中部分谷部351的最大深度D與最大寬度W的比值較佳不大于0.26。較佳者，各谷部351的最大深度D與最大寬度W的平均比值不大于0.26。更佳者，每一谷部351的最大深度D與最大寬度W的比值均不大于0.26。藉由控制至少部分谷部351的深寬比，可使得谷部351底部布設的抗反射層500厚度較為平均，且抗反射層500外表面的起伏亦較貼合于粗糙面310的起伏。由此，設置抗反射層500后的光學膜片整體粗糙度與粗糙面310本身的粗糙度差異將會較小，進而減輕反射率增加的狀況。

此外，在此較佳實施例中，如圖4所示，谷部351均具有谷底部分352；至少部分的谷底部分352處曲率半徑R不小于1.4μm。藉由此一設計，使得谷底部分352的曲面較為平緩而不會過于尖銳，因此抗反射層500可以較均勻地分布于谷底部分352而不會有異常的厚度增加狀況。由此可以維持粗糙面310的粗糙度，進而減輕反射率增加的狀況。

如圖5所示，截面曲線350上具有多個峰部353分別位于參考基線370之上。各峰部353的波峰頂端高程平均后可得出平均波峰高程P(相對于承載面110)。在此較佳實施例中，平均波峰高程P與參考基線370間的距離d小于1μm；且較佳而言，平均波峰高程P系高于參考基線370。藉由此一設計，可使得粗糙面310上整體的高低落差不會過大，較易于控制抗反射層500設置于粗糙面310上的均勻性。

此外，如圖4及圖5所示，若以截面曲線350上分布的谷部351而言，每一谷部351會包含有相對于粗糙面310呈外突的部分及呈內(nèi)凹的部分，其中各谷部351中呈外突的部分占各谷部351曲線總長的比例定義為第一比例。另以峰部353而言，每一峰部353會包含有相對于粗糙面310呈外突的部分及呈內(nèi)凹的部分，其中各峰部353中呈外突的部分占各峰部353曲線總長的比例定義為第二比例。在此較佳實施例中，第一比例小于第二比例；換言之，谷部351中呈內(nèi)凹的曲線占比較大。藉此將可降低在谷部351中產(chǎn)生兩外突曲線于谷部351內(nèi)相接時產(chǎn)生狹窄縫隙的可能性，進而減少抗反射層500于狹窄縫隙處因堆積而增加厚度的情況。

如圖6所示，粗糙面310可于75％高程處定義出一虛擬的參考基準面380；例如若以承載面110作為高程為0的參考面，粗糙面310上的各點分別可以得到相對的一高程高度；對于將這些高程高度進行統(tǒng)計分析后取第三(由下而上)的四分位數(shù)高度作為參考基準面380的高程。粗糙面310有部分高于參考基準面380而形成為凸部313，而部分則會低于參考基準面380而形成為凹部311。凹部311于參考基準面380上具有第一投影面積，而凸部313于參考基準面380上具有第二投影面積。在較佳實施例中，抗反射層500迭合于粗糙層300后的霧度需大于65％，而第一投影面積與第二投影面積的比值較佳介于16％至78.5％之間，以在兼顧高霧度的要求下，仍能維持一定的顯示清晰度。

在較佳實施例中，粗糙面310在預設方向200上的基準長度L內(nèi)的粗糙度介于0.25μm至1μm之間。更佳而言，此一粗糙度可約為0.5μm。如圖7所示，此處的粗糙度較佳系為中心線平均粗糙度(Ra)；換言之，系將截面曲線進行如濾除坡度影響的處理后得到粗糙曲線700。再由粗糙曲線700上定義出平均線710，例如中心線。接著再對于粗糙曲線700于基準長度L內(nèi)相對于平均線710的高程絕對值進行積分并予以平均(即除以基準長度L)，即可得到中心線平均粗糙度。如下表的模擬結果所示，當其他設計因素相同時，模型2的粗糙面310原粗糙度約為0.5μm附近，其于加設抗反射層后的整體粗糙度會與原粗糙度相差最少(0.02μm)；相對而言，也可以得到最低的整體反射率(0.99％)。

借由此一設計，可使得粗糙面310在設置抗反射層500后粗糙度受到影響的程度較低。此外，在不同的實施例中，亦可以上述的粗糙曲線700及平均線710來定義出多個谷部351，并參考前述實施例中的深寬比建議來加以設計，以達成維持粗糙度及減輕反射率增加的目的。

當然，本發(fā)明還可有其它多種實施例，在不背離本發(fā)明精神及其實質的情況下，熟悉本領域的技術人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應的改變和變形，但這些相應的改變和變形都應屬于本發(fā)明權利要求的保護范圍。