本發(fā)明涉及基片處理系統(tǒng)、基片處理裝置和可視化方法。
背景技術(shù):
1、在專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了氣流的可視化法,其中,在要可視化的氣流中混入利用該氣流而移動(dòng)的示蹤器(tracer),以使包含特定的可見(jiàn)光區(qū)域的波長(zhǎng)的光束狀的激光反復(fù)掃描的方式照射到所述氣流,使此時(shí)產(chǎn)生的散射光通過(guò)僅在所述激光的振蕩波長(zhǎng)區(qū)域具有相對(duì)高的透射率的光學(xué)濾波器而識(shí)別該散射光。
2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
3、專利文獻(xiàn)
4、專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平7-35764號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題
2、本發(fā)明提供能夠容易地使基片處理裝置內(nèi)的流體的流動(dòng)的分布可視化的系統(tǒng)。
3、用于解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案
4、本發(fā)明的一個(gè)方面的基片處理系統(tǒng)包括:基片處理裝置,其具有收納基片的收納空間;朝向收納空間的攝像機(jī);圖案,其被設(shè)置成在攝像機(jī)的視野內(nèi)展現(xiàn),能夠經(jīng)由收納空間被攝像機(jī)拍攝;和映像生成部,其基于攝像機(jī)拍攝到的圖案的圖像的變化,生成表示收納空間中的流體的流動(dòng)的分布的映像數(shù)據(jù)。
5、發(fā)明效果
6、根據(jù)本發(fā)明,可提供能夠容易地使基片處理裝置內(nèi)的流體的流動(dòng)的分布可視化的系統(tǒng)。
1.一種基片處理系統(tǒng),其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
7.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
8.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
11.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
13.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
14.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
16.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于,還包括:
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
18.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
20.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
21.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的基片處理系統(tǒng),其特征在于:
22.一種基片處理裝置,其特征在于,包括:
23.一種可視化方法,其特征在于: