專利名稱：真空濺射靶磁芯的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空濺射靶磁芯，尤其涉及一種結(jié)構(gòu)簡單，使用壽命長的真空濺射靶磁芯。
背景技術(shù)：
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition),是一種利用物理方式在基材上沉積薄膜的技術(shù)，在PVD磁控濺射技術(shù)中，圓柱形靶是因其具有靶材利用率高、工藝穩(wěn)定等明顯的優(yōu)勢被廣泛使用，圓柱靶磁芯對圓柱靶的整體性能起著至關(guān)重要的作用。但目前的圓柱靶磁芯結(jié)構(gòu)復(fù)雜、加工成本高及使用壽命短。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提出一種結(jié)構(gòu)簡單，使用壽命長的真空濺射靶磁芯。一種真空濺射靶磁芯，該真空濺射靶磁芯包括一罩體和磁體固定板，該磁體固定板固定于罩體內(nèi)，沿該磁體固定板上在豎直方向的平面上開設(shè)有安裝槽，該安裝槽內(nèi)設(shè)有第一磁體，用以形成濺射磁場，在該磁體固定板的兩端裝設(shè)有第二磁體，用于對該濺射的第一磁體產(chǎn)生的磁場進(jìn)行封磁。上述技術(shù)方案將磁體固定板固定于罩體內(nèi)，這樣可有效地保護(hù)了磁體，結(jié)構(gòu)簡單，使整個磁芯的使用壽命大幅提升。


圖1是本發(fā)明較佳實(shí)施例真空濺射靶磁芯整體圖。圖2是本發(fā)明較佳實(shí)施例真空濺射靶磁芯局分解圖。圖3是本發(fā)明較佳實(shí)施例真空濺射靶磁芯局部放大圖。主要元件符號說明
權(quán)利要求
1.一種真空濺射靶磁芯，其特征在于:該真空濺射靶磁芯包括一罩體和磁體固定板，該磁體固定板固定于罩體內(nèi)，沿該磁體固定板上在豎直方向的平面上開設(shè)有安裝槽，該安裝槽內(nèi)設(shè)有第一磁體，用以形成濺射磁場，在該磁體固定板的兩端裝設(shè)有第二磁體，用于對該濺射的第一磁體產(chǎn)生的磁場進(jìn)行封磁。
2.如權(quán)利要求1所述的真空濺射靶磁芯，其特征在于:所述罩體分為底罩和罩蓋，該上罩體通過焊接與底罩完全密閉，形成該罩體。
3.如權(quán)利要求1所述的真空濺射靶磁芯，其特征在于:所述磁體固定板固定在底罩內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的真空濺射靶磁芯，其特征在于:所述磁體固定板上豎直方向平行開設(shè)兩排安裝槽。
5.如權(quán)利要求1所述的真空濺射靶磁芯，其特征在于:所述磁體通過粘帖固定在磁體固定板兩端，所述磁體固定板材質(zhì)為鋼材。
6.如權(quán)利要求1-5任意一項所述的真空濺射靶磁芯， 所述的磁體為磁鐵。
全文摘要
一種真空濺射靶磁芯，該真空濺射靶磁芯包括一罩體和磁體固定板，該磁體固定板固定于罩體內(nèi)，在該磁體固定板上在豎直方向開設(shè)有安裝槽，該安裝槽內(nèi)設(shè)有第一磁體，用以形成濺射磁場，在該磁體固定板的兩端裝設(shè)有第二磁體，用于對該濺射的第一磁體產(chǎn)生的磁場進(jìn)行封磁。本發(fā)明的真空濺射靶磁芯的加工成本低，結(jié)構(gòu)簡單，使用壽命長。
文檔編號C23C14/35GK103184421SQ201110454429
公開日2013年7月3日 申請日期2011年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月30日
發(fā)明者黃登聰, 徐華勇, 劉振章 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司