技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明一種具有高硬度和高減摩性能的納米涂層，在基體上通過(guò)多靶磁控濺射方式交替濺射沉積形成CrAlN納米層和WS2納米層，靠近基體為CrAlN納米層，最外側(cè)的一層為WS2納米層，CrAlN/WS2納米多層涂層的總厚度2.0?4.5μm，每一CrAlN納米層厚度5.0nm，每一WS2納米層厚度0.4?1.2nm。還提供了上述納米涂層的制備方法，將清洗后的基體置入多靶磁控濺射儀中，在氬、氮混合氣氛中交替停留在CrAl合金靶和WS2靶之前，通過(guò)調(diào)整CrAl靶和WS2靶的功率和沉積時(shí)間以控制每一涂層的厚度，最終得CrAlN/WS2納米多層涂層，本發(fā)明的方法具有工藝簡(jiǎn)單、沉積速度快、成本低、生產(chǎn)效率高等優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：李偉;劉京京;劉平;張柯;馬鳳倉(cāng);劉新寬;陳小紅;何代華
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海理工大學(xué)
文檔號(hào)碼：201610979551
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.08
技術(shù)公布日：2017.03.22