本發(fā)明涉及顯示裝置制作技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種噴嘴擋板及蒸鍍裝置。

背景技術(shù)：

OLED顯示屏具有色域廣和對比度高的特性，除了被廣泛的應(yīng)用到電視和計算機等顯示裝置以外，也逐漸趨于應(yīng)用至手機等移動終端。在OLED板的制作過程中，有機材料的蒸鍍是一個重要的環(huán)節(jié)。

OLED蒸鍍裝置在工作過程中，如果需要暫停對基板的蒸鍍操作，一般利用噴嘴擋板將噴嘴遮擋，從而防止蒸鍍材料的蒸氣分子蒸鍍到基板上。如圖1a和圖1b所示，蒸鍍裝置包括蒸鍍材料容置腔01、設(shè)置于蒸鍍材料容置腔01上方的噴嘴02、設(shè)置于噴嘴02兩側(cè)的限制板03以及能夠遮擋噴嘴02的擋板04，其中，噴嘴02包括并排設(shè)置的多個嘴口。

如圖1a所示，在對基板05進行蒸鍍時，將掩模板06放置于噴嘴02的上方，基板05放置于掩模板的上方，將擋板04打開，蒸鍍材料被加熱至蒸氣狀態(tài)后，蒸氣分子以自由分子的方式從噴嘴02的嘴口噴出并附著在基板05的表面形成蒸鍍圖案；如圖1b所示，當無需對基板05進行蒸鍍時，將擋板04移動至噴嘴02上方，從而使蒸氣分子無法擴散到基板上。

現(xiàn)有技術(shù)中，由于設(shè)備空間有限，擋板的尺寸一般較小，為了保證擋板的遮擋效果，擋板與噴嘴之間需要保持較小的距離，其技術(shù)缺陷在于，該遮擋方式會導(dǎo)致大量蒸氣分子堆積在噴嘴與擋板之間而無法快速排出，甚至會造成噴嘴堵塞，從而影響到蒸鍍裝置的正常工作。有時，為了疏通噴嘴需要對蒸鍍材料容置腔進行開腔清理，這會導(dǎo)致蒸發(fā)材料的報廢。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明實施例提供了一種噴嘴擋板及蒸鍍裝置，以改善噴嘴處蒸氣分子的堆積現(xiàn)象，減少噴嘴堵塞，提高蒸鍍裝置的工作效率，節(jié)約蒸鍍材料。

本發(fā)明提供的噴嘴擋板包括：

板狀本體，具有多個開口；

對應(yīng)板狀本體的每個開口設(shè)置的導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板與板狀本體連接，用于將蒸鍍材料的蒸氣分子導(dǎo)至噴嘴的蒸鍍范圍之外。

本發(fā)明實施例中的噴嘴擋板設(shè)有開口，噴嘴擋板遮擋于噴嘴上方時，蒸鍍材料的蒸氣分子可以快速的經(jīng)過開口并在導(dǎo)流板的導(dǎo)流作用下擴散至噴嘴的蒸鍍范圍之外，而不會附著至基板的表面。相比現(xiàn)有技術(shù)，該方案中的噴嘴擋板可以有效的改善噴嘴處蒸氣分子的堆積現(xiàn)象，減少噴嘴堵塞，提高蒸鍍裝置的工作效率，節(jié)約蒸鍍材料。

優(yōu)選的，所述多個開口并列排布，與所述多個開口分別對應(yīng)的導(dǎo)流板包括第一部分導(dǎo)流板和第二部分導(dǎo)流板，所述第一部分導(dǎo)流板和第二部分導(dǎo)流板相對噴嘴中心呈對稱設(shè)置。

該方案中的導(dǎo)流板包括兩部分，且兩部分導(dǎo)流板相對噴嘴中心呈對稱設(shè)置，蒸氣分子從開口擴散出來以后，向遠離噴嘴中心的位置擴散，擴散路徑較短，擴散速度較大。

優(yōu)選的，板狀本體的每個開口對應(yīng)噴嘴的嘴口設(shè)置?？梢允箯淖炜趪姵龅恼魵夥肿又苯訌拈_口擴散出去，擴散路徑較短，從而進一步改善噴嘴處蒸氣分子的堆積現(xiàn)象。

較佳的，所述導(dǎo)流板為直板形導(dǎo)流板。

優(yōu)選的，所述導(dǎo)流板的末端具有水平導(dǎo)流檐。水平導(dǎo)流檐使蒸氣分子從檐邊擴散出去，對蒸氣分子具有一定的水平導(dǎo)流效果，可以提高導(dǎo)流板的導(dǎo)流的效果。

可選的，所述導(dǎo)流板與所述板狀本體為一體結(jié)構(gòu)，或者所述導(dǎo)流板與所述板狀本體可拆卸連接。

優(yōu)選的，所述開口為斜開口，所述斜開口的傾斜方向平行于導(dǎo)流板。。該方案中的開口也可以起到一定的導(dǎo)流效果，即蒸氣分子進入開口就開始按照導(dǎo)流的方向擴散。

優(yōu)選的，所述板狀本體的周邊具有朝向噴嘴設(shè)置的凸沿。該方案中的凸沿可以阻擋噴嘴擋板下方從邊緣擴散出去的蒸氣分子，可以提高噴嘴擋板的遮擋效果。

優(yōu)選的，所述噴嘴擋板為金屬噴嘴擋板。金屬噴嘴擋板具有較好的延展性，便于加工，且可以適應(yīng)蒸鍍環(huán)境。

本發(fā)明還提供了一種蒸鍍裝置，包括上述任一技術(shù)方案所述的噴嘴擋板。

該實施例中的蒸鍍裝置可以改善噴嘴處蒸氣分子的堆積現(xiàn)象，減少噴嘴堵塞，提高蒸鍍裝置的工作效率，節(jié)約蒸鍍材料。

附圖說明

圖1a為現(xiàn)有技術(shù)蒸鍍裝置擋板打開時結(jié)構(gòu)示意圖；

圖1b為現(xiàn)有技術(shù)蒸鍍裝置擋板閉合時結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明一實施例中噴嘴擋板剖視圖；

圖3為本發(fā)明一實施例中噴嘴擋板俯視圖；

圖4為本發(fā)明一實施例中噴嘴擋板側(cè)視圖；

圖5為本發(fā)明一實施例中噴嘴擋板使用示意圖；

圖6為本發(fā)明一實施例中蒸鍍裝置示意圖。

附圖標記：

現(xiàn)有技術(shù)部分：

01-蒸鍍材料容置腔；

02-噴嘴；

03-限制板；

04-擋板；

05-基板；

06-掩膜板；

本發(fā)明部分：

1-噴嘴擋板；

10-板狀本體；

11-開口；

12-導(dǎo)流板；

121-水平導(dǎo)流檐；

122-第一部分導(dǎo)流板；

123-第二部分導(dǎo)流板；

13-凸沿；

2-噴嘴；

21-嘴口。

具體實施方式

為了改善噴嘴處蒸氣分子的堆積現(xiàn)象，減少噴嘴堵塞，提高蒸鍍裝置的工作效率，節(jié)約蒸鍍材料，本發(fā)明實施例提供了一種噴嘴擋板及蒸鍍裝置。為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，以下舉實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。

參考圖2至圖4，本發(fā)明實施例提供的噴嘴擋板1包括：

板狀本體10，具有多個開口11；

對應(yīng)板狀本體10的每個開口11設(shè)置的導(dǎo)流板12，導(dǎo)流板12與板狀本體10連接，用于將蒸鍍材料的蒸氣分子導(dǎo)至噴嘴2的蒸鍍范圍之外。

本發(fā)明實施例中的噴嘴擋板1設(shè)有開口11，噴嘴擋板1遮擋于噴嘴2上方時，蒸鍍材料的蒸氣分子可以快速的經(jīng)過開口并在導(dǎo)流板的導(dǎo)流作用下擴散至噴嘴2的蒸鍍范圍之外，而不會附著至基板的表面。相比現(xiàn)有技術(shù)，該方案中的噴嘴擋板1可以有效的改善噴嘴2處蒸氣分子的堆積現(xiàn)象，減少噴嘴2堵塞，提高蒸鍍裝置的工作效率，節(jié)約蒸鍍材料。

如圖2和圖3所示，在一個優(yōu)選的實施例中，多個開口11并列排布，與多個開口11分別對應(yīng)的導(dǎo)流板12包括第一部分導(dǎo)流板122和第二部分導(dǎo)流板123，第一部分導(dǎo)流板122和第二部分導(dǎo)流板123相對噴嘴2中心呈對稱設(shè)置。

該方案中的導(dǎo)流板12包括兩部分，且兩部分導(dǎo)流板相對噴嘴2中心呈對稱設(shè)置，即每個導(dǎo)流板12的導(dǎo)流方向都朝向噴嘴2邊緣，蒸氣分子從開口11擴散出來以后，向噴嘴2邊緣的位置擴散，擴散路徑較短，擴散速度較大。

如圖5所示，在一個優(yōu)選的實施例中，板狀本體10的每個開口11對應(yīng)噴嘴2的嘴口21設(shè)置?？梢允箯淖炜?1噴出的蒸氣分子直接從開口11擴散出去，擴散路徑較短，從而進一步改善噴嘴2處蒸氣分子的堆積現(xiàn)象。

導(dǎo)流板12的具體形狀不做限定，導(dǎo)流板12可以為直板形導(dǎo)流板，或者，導(dǎo)流板12的末端具有水平導(dǎo)流檐121。水平導(dǎo)流檐121使蒸氣分子從檐邊擴散出去，對蒸氣分子具有一定的水平導(dǎo)流效果，可以提高導(dǎo)流板12的導(dǎo)流的效果。

導(dǎo)流板12與板狀本體10的連接方式不限，導(dǎo)流板12與板狀本體10可以為一體結(jié)構(gòu)，如利用沖壓的方式獲得的噴嘴擋板1；當然，導(dǎo)流板12與板狀本體10也可以為可拆卸連接，方便維護和更換導(dǎo)流板12。

請參考圖2，噴嘴擋板1的開口11為斜開口，斜開口的傾斜方向平行于導(dǎo)流板12。該方案中的開口11也可以起到一定的導(dǎo)流效果，即蒸氣分子進入開口11就開始按照導(dǎo)流的方向擴散。

請參考圖2和圖4，板狀本體10的周邊具有朝向噴嘴2設(shè)置的凸沿13。該方案中的凸沿13可以阻擋噴嘴擋板1下方從邊緣擴散出去的蒸氣分子，可以提高噴嘴擋板1的遮擋效果。

具體的，噴嘴擋板1可以為金屬噴嘴擋板。金屬噴嘴擋板具有較好的延展性，便于加工，且可以適應(yīng)蒸鍍環(huán)境。

如圖6所示，本發(fā)明還提供了一種蒸鍍裝置，包括上述任一技術(shù)方案的噴嘴擋板1。

該實施例中的蒸鍍裝置可以改善噴嘴2處蒸氣分子的堆積現(xiàn)象，減少噴嘴2堵塞，提高蒸鍍裝置的工作效率，節(jié)約蒸鍍材料。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。