本發(fā)明涉及電子半導體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于清潔高溫壓頭的磨石、清潔裝置及清潔控制方法。

背景技術(shù)：

高溫壓頭在持續(xù)壓合操作過程中，其表面會粘附一層膠狀類異物。如圖1所示，目前多采取間隔一段時間，使用的長條狀或方塊狀的磨石10對高溫壓頭20的端面進行摩擦清潔，但上述磨石10難以將摩擦作用力集中在高溫壓頭端面的待清潔區(qū)域，清潔效果較差。并且，上述磨石10反復摩擦使用后的表面會形成凹陷，高溫壓頭與磨石相互移動時會產(chǎn)生側(cè)向摩擦作用力，減小了高溫壓頭端面的接觸壓力，難以清除黏附較為頑固的膠狀物，進而使得高溫壓頭清潔不完全，造成產(chǎn)品異常，同時還會增加高溫壓頭的磨損。

鑒于此，有必要提供一種新的磨石、清潔裝置及清潔控制方法。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種磨石、清潔裝置及清潔控制方法，能夠?qū)Ω邷貕侯^端面進行有效清潔，消除磨石與高溫壓頭側(cè)面之間的摩擦作用力，以保證正常生產(chǎn)。

為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明提供了一種用于清潔高溫壓頭的磨石，所述磨石與高溫壓頭前后相對往復移動以清潔所述高溫壓頭的端面的待清潔區(qū)域。所述磨石包括基部及形成于基部表面的若干清潔部，所述清潔部沿橫向呈間隙設置并形成有第一溝槽，任一所述清潔部沿所述端面的橫向?qū)挾刃∮谒龆嗣娴膶挾?，并且，所述清潔部與所述端面的待清潔區(qū)域相接觸時，所述端面沿橫向的側(cè)緣位于所述第一溝槽上方或所述磨石的外側(cè)。

作為本發(fā)明的進一步改進，所述清潔部還形成有第二溝槽。

作為本發(fā)明的進一步改進，所述第二溝槽沿橫向延伸并與第一溝槽相垂直。

作為本發(fā)明的進一步改進，所述第二溝槽的深度小于第一溝槽的深度。

作為本發(fā)明的進一步改進，所述清潔部具有形成于相鄰兩條所述第一溝槽內(nèi)并相對設置的兩個側(cè)壁及朝向高溫壓頭的頂壁，所述側(cè)壁與頂壁的連接處形成有倒角面。

作為本發(fā)明的進一步改進，所述磨石呈長方塊狀或圓柱狀。

本發(fā)明還提供一種具有所述磨石的清潔裝置，所述清潔裝置還包括驅(qū)使所述高溫壓頭或磨石前后相對往復移動的驅(qū)動機構(gòu)。

本發(fā)明還提供一種所述清潔裝置的清潔控制方法，包括：安裝磨石；

通過驅(qū)動機構(gòu)調(diào)節(jié)磨石與高溫壓頭的橫向相對位置，使得某一既定清潔部位于高溫壓頭下方且與端面的待清潔區(qū)域沿前后方向相對齊；

調(diào)節(jié)高溫壓頭的高度，使得既定清潔部與所述端面相接觸；

啟動驅(qū)動機構(gòu)，累計高溫壓頭或磨石往復運行時長或往復運行次數(shù)直至達到預設時長t或預設往復運行次數(shù)n，完成清潔操作。

本發(fā)明的有益效果是：采用本發(fā)明磨石、清潔裝置及清潔控制方法，通過形成于基部的某一清潔部既能對高溫壓頭端面的待清潔區(qū)域進行摩擦清潔，消除磨石與高溫壓頭側(cè)面之間的摩擦作用力，能夠?qū)Ω邷貕侯^端面進行有效清潔，保證正常生產(chǎn)。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有磨石與高溫壓頭表面相互摩擦作用示意圖；

圖2是本發(fā)明磨石一較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是圖2中磨石與高溫壓頭表面相互摩擦作用示意圖；

圖4是圖3中磨石與高溫壓頭表面相互摩擦前后方向平面示意圖。

具體實施方式

以下將結(jié)合附圖所示的實施方式對本發(fā)明進行詳細描述。但該實施方式并不限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)該實施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。

請參閱圖2至圖4為本發(fā)明一較佳實施例。本發(fā)明提供的磨石100用以對高溫壓頭20的端面21進行清潔，包括基部11及形成于基部11表面的若干清潔部12。具體地，通過將所述磨石100安裝至高溫壓頭20下方的機臺上，再與所述高溫壓頭20的端面21進行前后相對往復摩擦，以將所述端面21的待清潔區(qū)域上粘附的膠狀物或其它雜質(zhì)去除。一般地，所述待清潔區(qū)域位于端面21的中央位置。

所述清潔部12沿橫向呈間隙設置并形成有第一溝槽13，任一所述清潔部12沿所述端面21的橫向?qū)挾刃∮谒龆嗣?1的寬度，并且，所述清潔部12與所述端面21的待清潔區(qū)域相接觸時，所述端面21沿橫向的側(cè)緣位于所述第一溝槽13上方或所述磨石100的外側(cè)。藉此，所述清潔部12與端面21進行前后相對移動摩擦時，所述高溫壓頭20的側(cè)面22不會與磨石100相接觸，避免清潔進程中所述側(cè)面22與磨石100進行相互摩擦而產(chǎn)生的側(cè)向摩擦力，以保證端面21與磨石的相互作用力，保證端面21的有效清潔。

所述清潔部12具有形成于相鄰兩條所述第一溝槽13內(nèi)并相對設置的兩個側(cè)壁121及朝向高溫壓頭的頂壁122。所述側(cè)壁121與頂壁122的連接處還形成有倒角面123，以避免所述清潔部12的頂角處在工作進程中受應力崩壞。所述倒角面123設置為斜面或弧面。

所述清潔部12還形成有自所述頂壁122朝下凹陷設置的第二溝槽14，所述第二溝槽14用以增強所述頂壁122與待清潔區(qū)域之間的局部摩擦力，有效克服傳統(tǒng)磨石10由于表面較為平整而使得粘附較牢固的膠狀物難以清除的問題。

在本實施例中，所述磨石100呈長方塊狀。所述第二溝槽14沿橫向連通相應清潔部12兩側(cè)的兩條第一溝槽13并與所述第一溝槽13相垂直。并且，由于所述清潔部12在前后方向受到的應力較大，所述第二溝槽14的深度小于第一溝槽13的深度。為實現(xiàn)上述目的，在本發(fā)明的其它實施方式中，所述第二溝槽14還可以沿偏離前后延伸的方向設置，抑或者呈非連續(xù)狀設置。

本發(fā)明還提供一種具有所述磨石100的清潔裝置，所述清潔裝置還包括驅(qū)使所述高溫壓頭20相對磨石100前后往復移動的驅(qū)動機構(gòu)30。

本發(fā)明還提供一種所述清潔裝置的清潔控制方法，包括：安裝磨石100；

通過驅(qū)動機構(gòu)30調(diào)節(jié)磨石100與高溫壓頭20的橫向相對位置，使得某一既定清潔部12位于高溫壓頭20下方且與端面21的待清潔區(qū)域沿前后方向相對齊；

調(diào)節(jié)高溫壓頭20的高度，使得既定清潔部12與所述端面21相接觸；

啟動驅(qū)動機構(gòu)30，累計高溫壓頭20或磨石100往復運行時長或往復運行次數(shù)直至達到預設時長t或預設往復運行次數(shù)n，完成清潔操作。

在本發(fā)明的另一實施方式中（未圖示），所述磨石100呈圓柱狀，其軸心線呈橫向設置，所述第一溝槽13呈環(huán)形開設在所述磨石100的柱面上。相應地，所述清潔裝置還具有驅(qū)使磨石100進行旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動電機。

綜上所述，采用本發(fā)明磨石100、清潔裝置及清潔控制方法，所述基部11便于磨石100的安裝并加強清潔部12的支撐結(jié)構(gòu)強度；所述清潔部12能夠?qū)Ω邷貕侯^20的端面21的待清潔區(qū)域進行摩擦清潔，消除磨石100與高溫壓頭20的側(cè)面22之間的摩擦作用力，以對高溫壓頭20的端面21進行有效清潔，保證正常生產(chǎn)。

應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應當將說明書作為一個整體，各實施方式中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實施方式。

上文所列出的一系列的詳細說明僅僅是針對本發(fā)明的可行性實施方式的具體說明，它們并非用以限制本發(fā)明的保護范圍，凡未脫離本發(fā)明技藝精神所作的等效實施方式或變更均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。