一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，包括研磨環(huán)體和油壓系統(tǒng)，所述研磨環(huán)體的上表面固定安裝有驅(qū)動(dòng)齒輪和轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，在驅(qū)動(dòng)齒輪的正面還固定安裝有轉(zhuǎn)向控制器，所述研磨環(huán)體的正面還安裝有研磨機(jī)轉(zhuǎn)體，在研磨機(jī)轉(zhuǎn)體的右側(cè)面安裝有環(huán)形研磨器，在環(huán)形研磨器的右側(cè)面上固定安裝有保持環(huán)，在保持環(huán)的表面設(shè)置有工件夾具，在工件夾具的底端安裝有工件；所述油壓系統(tǒng)通過(guò)安裝在其內(nèi)側(cè)的轉(zhuǎn)動(dòng)塊固定連接在工件的左側(cè)，且油壓系統(tǒng)的底端安裝有彈簧支撐組，在彈簧支撐組的左側(cè)固定安裝有震動(dòng)器，在震動(dòng)器的后方設(shè)置有載環(huán)盤(pán)，載環(huán)盤(pán)的左側(cè)固定安裝有加工壓力器，且加工壓力器固定安裝在研磨環(huán)體的內(nèi)壁上。
【專利說(shuō)明】
一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及研磨環(huán)盤(pán)技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著信息技術(shù)、電子技術(shù)、航空航天技術(shù)的發(fā)展，對(duì)加工技術(shù)的要求也越來(lái)越高，對(duì)高效高精度低表面損傷的加工需求越來(lái)越多?，F(xiàn)有的磨粒加工方法，大部分均為整體磨盤(pán)加工，很難實(shí)現(xiàn)高效高精無(wú)損傷的加工要求，而且研磨過(guò)程中因游離磨粒粒徑不等及磨粒出刃高度不同所引起的磨粒群切削深度差異，會(huì)導(dǎo)致磨粒不均勻，達(dá)不到檢驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)，并且研磨機(jī)用起來(lái)也比較麻煩，磨粒的取用也不方便。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]針對(duì)以上問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，設(shè)置有研磨環(huán)體，可以直接將磨粒倒入其中，通過(guò)研磨機(jī)轉(zhuǎn)體帶動(dòng)磨粒轉(zhuǎn)動(dòng)，使用轉(zhuǎn)向控制器控制驅(qū)動(dòng)齒輪，使得磨粒的研磨過(guò)程更加精確，不會(huì)出現(xiàn)研磨不均的現(xiàn)象，可以有效解決【背景技術(shù)】中的問(wèn)題。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，包括研磨環(huán)體和油壓系統(tǒng)，所述研磨環(huán)體的上表面固定安裝有驅(qū)動(dòng)齒輪和轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，且轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)設(shè)置在驅(qū)動(dòng)齒輪的后方，在驅(qū)動(dòng)齒輪的正面還固定安裝有轉(zhuǎn)向控制器，所述研磨環(huán)體的正面還安裝有研磨機(jī)轉(zhuǎn)體，在研磨機(jī)轉(zhuǎn)體的右側(cè)面安裝有環(huán)形研磨器，且環(huán)形研磨器位于驅(qū)動(dòng)齒輪的前方，在環(huán)形研磨器的右側(cè)面上固定安裝有保持環(huán)，在保持環(huán)的表面設(shè)置有工件夾具，在工件夾具的底端安裝有工件;所述油壓系統(tǒng)通過(guò)安裝在其內(nèi)側(cè)的轉(zhuǎn)動(dòng)塊固定連接在工件的左側(cè)，且油壓系統(tǒng)的底端安裝有彈簧支撐組，在彈簧支撐組的左側(cè)固定安裝有震動(dòng)器，在震動(dòng)器的后方設(shè)置有載環(huán)盤(pán)，載環(huán)盤(pán)的左側(cè)通過(guò)旋轉(zhuǎn)螺釘固定安裝有加工壓力器，且加工壓力器固定安裝在研磨環(huán)體的內(nèi)壁上。
[0005]作為本實(shí)用新型一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述加工壓力器的正面固定安裝有晶片。
[0006]作為本實(shí)用新型一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述工件的四周還固定安裝有多個(gè)工件盤(pán)，且多個(gè)工件盤(pán)均對(duì)稱分布在工件的下表面上。
[0007]作為本實(shí)用新型一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述研磨機(jī)轉(zhuǎn)體的數(shù)量為兩個(gè)，且兩個(gè)研磨機(jī)轉(zhuǎn)體都固定安裝在載環(huán)盤(pán)的上表面。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:該粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，通過(guò)設(shè)置研磨環(huán)體，可以直接將磨粒倒入其中，利用研磨機(jī)轉(zhuǎn)體帶動(dòng)磨粒轉(zhuǎn)動(dòng)，使磨粒的研磨更加均衡，并使用轉(zhuǎn)向控制器控制驅(qū)動(dòng)齒輪，減少了因磨粒出刃高度不同所引起的磨粒群切削深度差異，使得磨粒的研磨更加精確，不會(huì)出現(xiàn)研磨不均的現(xiàn)象，設(shè)置有加工壓力器使得加工工件的效率更高，且整個(gè)裝置使用的是超細(xì)的研磨環(huán)裝置，小巧耐用，且實(shí)用性強(qiáng)。
【附圖說(shuō)明】

[0009]圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)不意圖；
[0010]圖中:1-研磨環(huán)體;2-驅(qū)動(dòng)齒輪;3-轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī);4-轉(zhuǎn)向控制器;5-研磨機(jī)轉(zhuǎn)體;6-保持環(huán);7-工件夾具;8-油壓系統(tǒng);9-工件；10-彈簧支撐組；11-震動(dòng)器;12-載環(huán)盤(pán);13-旋轉(zhuǎn)螺釘;14-晶片；15-加工壓力器;16-環(huán)形研磨器;17-工件盤(pán)。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0012]實(shí)施例:
[0013]請(qǐng)參閱圖1，本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案:一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，包括研磨環(huán)體I和油壓系統(tǒng)8，所述研磨環(huán)體I的上表面固定安裝有驅(qū)動(dòng)齒輪2和轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)3，利用轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)為驅(qū)動(dòng)齒輪提供動(dòng)能，且轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)3設(shè)置在驅(qū)動(dòng)齒輪2的后方，在驅(qū)動(dòng)齒輪2的正面還固定安裝有轉(zhuǎn)向控制器4，所述研磨環(huán)體I的正面還安裝有研磨機(jī)轉(zhuǎn)體5，利用研磨機(jī)轉(zhuǎn)體帶動(dòng)磨粒轉(zhuǎn)動(dòng)，使磨粒的研磨更加均衡，在研磨機(jī)轉(zhuǎn)體5的右側(cè)面安裝有環(huán)形研磨器16，使用環(huán)形研磨器研磨磨粒，并未能夠多方位的研磨，減少了因?yàn)榉轿徊惶鴮?dǎo)致的研磨不均的現(xiàn)象，且環(huán)形研磨器16位于驅(qū)動(dòng)齒輪2的前方，在環(huán)形研磨器16的右側(cè)面上固定安裝有保持環(huán)6，保持環(huán)主要用工件夾具夾緊工件，并將工件夾在保持環(huán)上，在保持環(huán)6的表面設(shè)置有工件夾具7，在工件夾具7的底端安裝有工件9，工件9的四周還固定安裝有多個(gè)工件盤(pán)17，且多個(gè)工件盤(pán)17均對(duì)稱分布在工件9的下表面上;所述油壓系統(tǒng)8通過(guò)安裝在其內(nèi)側(cè)的轉(zhuǎn)動(dòng)塊固定連接在工件9的左側(cè)，且油壓系統(tǒng)8的底端安裝有彈簧支撐組10，在彈簧支撐組10的左側(cè)固定安裝有震動(dòng)器U，利用震動(dòng)器的震動(dòng)效果改變磨粒的位置，使得研磨更加均勻，在震動(dòng)器11的后方設(shè)置有載環(huán)盤(pán)12，載環(huán)盤(pán)12的左側(cè)通過(guò)旋轉(zhuǎn)螺釘13固定安裝有加工壓力器15，在加工壓力器15的正面還固定安裝有晶片14，且加工壓力器15固定安裝在研磨環(huán)體I的內(nèi)壁上。
[0014]該粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，通過(guò)設(shè)置研磨環(huán)體，可以直接將磨粒倒入其中，利用研磨機(jī)轉(zhuǎn)體帶動(dòng)磨粒轉(zhuǎn)動(dòng)，使磨粒的研磨更加均衡，并使用轉(zhuǎn)向控制器控制驅(qū)動(dòng)齒輪，減少了因磨粒出刃高度不同所引起的磨粒群切削深度差異，使得磨粒的研磨更加精確，不會(huì)出現(xiàn)研磨不均的現(xiàn)象，設(shè)置有加工壓力器使得加工工件的效率更高，且整個(gè)裝置使用的是超細(xì)的研磨環(huán)裝置，小巧耐用，且實(shí)用性強(qiáng)。
[0015]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，包括研磨環(huán)體(I)和油壓系統(tǒng)(8)，所述研磨環(huán)體(I)的上表面固定安裝有驅(qū)動(dòng)齒輪(2)和轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(3)，且轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(3)設(shè)置在驅(qū)動(dòng)齒輪(2)的后方，在驅(qū)動(dòng)齒輪(2)的正面還固定安裝有轉(zhuǎn)向控制器(4)，其特征在于:所述研磨環(huán)體(I)的正面還安裝有研磨機(jī)轉(zhuǎn)體(5)，在研磨機(jī)轉(zhuǎn)體(5)的右側(cè)面安裝有環(huán)形研磨器(16)，且環(huán)形研磨器(16)位于驅(qū)動(dòng)齒輪(2)的前方，在環(huán)形研磨器(16)的右側(cè)面上固定安裝有保持環(huán)(6)，在保持環(huán)(6)的表面設(shè)置有工件夾具(7)，在工件夾具(7)的底端安裝有工件(9);所述油壓系統(tǒng)(8)通過(guò)安裝在其內(nèi)側(cè)的轉(zhuǎn)動(dòng)塊固定連接在工件(9)的左側(cè)，且油壓系統(tǒng)(8)的底端安裝有彈簧支撐組(10)，在彈簧支撐組(10)的左側(cè)固定安裝有震動(dòng)器(11)，在震動(dòng)器(II)的后方設(shè)置有載環(huán)盤(pán)(12)，載環(huán)盤(pán)(12)的左側(cè)通過(guò)旋轉(zhuǎn)螺釘(13)固定安裝有加工壓力器(15)，且加工壓力器(15)固定安裝在研磨環(huán)體(I)的內(nèi)壁上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，其特征在于:所述加工壓力器(15)的正面固定安裝有晶片(14)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，其特征在于:所述工件(9)的四周還固定安裝有多個(gè)工件盤(pán)(17)，且多個(gè)工件盤(pán)(17)均對(duì)稱分布在工件(9)的下表面上。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粉體超細(xì)濕法研磨環(huán)盤(pán)裝置，其特征在于:所述研磨機(jī)轉(zhuǎn)體(5)的數(shù)量為兩個(gè)，且兩個(gè)研磨機(jī)轉(zhuǎn)體(5)都固定安裝在載環(huán)盤(pán)(12)的上表面。
【文檔編號(hào)】B24B31/027GK205703696SQ201620502142
【公開(kāi)日】2016年11月23日
【申請(qǐng)日】2016年5月27日
【發(fā)明人】暢吉慶, 蔡春梅
【申請(qǐng)人】廣東鵬鵠實(shí)業(yè)有限公司