技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開一種基于PECVD的石墨烯薄膜鍍膜設(shè)備，包括直線式排列的多個(gè)真空室和柔性基材輸送機(jī)構(gòu)，柔性基材輸送機(jī)構(gòu)貫穿于多個(gè)真空室中；多個(gè)真空室包括依次連接的放卷室、多個(gè)鍍膜室和收卷室，各鍍膜室內(nèi)分別設(shè)有射頻對(duì)靶裝置，多個(gè)鍍膜室內(nèi)的射頻對(duì)靶裝置組成一個(gè)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，任意相鄰兩個(gè)鍍膜室之間設(shè)有隔氣室，放卷室、收卷室、各鍍膜室和各隔氣室分別外接高真空排氣系統(tǒng)。其方法是先對(duì)各真空室進(jìn)行抽真空，直至真空度達(dá)到預(yù)定值；然后放卷室放出柔性基材并送入各鍍膜室，采用PECVD法在柔性基材表面沉積石墨烯薄膜；最后送入收卷室進(jìn)行收卷。本實(shí)用新型鍍膜均勻，制得的柔性基材表面膜層純度較高。

技術(shù)研發(fā)人員：朱建明;李金清
受保護(hù)的技術(shù)使用者：肇慶市科潤(rùn)真空設(shè)備有限公司
文檔號(hào)碼：201620685725
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.30
技術(shù)公布日：2017.01.04