1.一種線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，其特征在于：包括架體和按處理順序依次設(shè)于架體上的物料擺放區(qū)、漂洗機(jī)、超聲波清洗機(jī)、第一等離子體清洗機(jī)、第二等離子體清洗機(jī)和真空等離子體刻蝕機(jī)，所述架體上沿處理順序方向還設(shè)有橫移模塊，所述橫移模塊上設(shè)有升降模塊，所述升降模塊上設(shè)有旋轉(zhuǎn)夾持機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)夾持機(jī)構(gòu)上設(shè)有與其配合使用的組合托盤，所述第一等離子體清洗機(jī)和第二等離子體清洗機(jī)上方分別設(shè)有多個(gè)等離子體噴槍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，其特征在于：所述架體上位于所述漂洗機(jī)、超聲波清洗機(jī)、第一等離子體清洗機(jī)和第二等離子體清洗機(jī)的正下方分別設(shè)有對(duì)應(yīng)的廢水池。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，其特征在于：所述組合托盤包括固定支架、設(shè)于固定支架上部的夾持端頭和設(shè)于固定支架下部呈矩陣排列的鉤部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，其特征在于：所述架體底部設(shè)有萬向輪。