技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開了一種線圈外殼低溫等離子體表面處理裝置，依次通過(guò)噴淋清洗、超聲波清洗、等離子體清洗和等離子體滲氮完成處理工藝，其裝置包括架體和按處理順序依次設(shè)于架體上的物料擺放區(qū)、漂洗機(jī)、超聲波清洗機(jī)、第一等離子體清洗機(jī)、第二等離子體清洗機(jī)和真空等離子體刻蝕機(jī)，所述架體上沿處理順序方向還設(shè)有橫移模塊，所述橫移模塊上設(shè)有升降模塊，所述升降模塊上設(shè)有旋轉(zhuǎn)夾持機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)夾持機(jī)構(gòu)上設(shè)有與其配合使用的組合托盤，所述第一等離子體清洗機(jī)和第二等離子體清洗機(jī)上方分別設(shè)有多個(gè)等離子體噴槍。本實(shí)用新型能夠徹底清除工件污染物，提高產(chǎn)品的綜合性能。

技術(shù)研發(fā)人員：劉鑫培;朱小剛;柳慧敏
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州創(chuàng)瑞機(jī)電科技有限公司
文檔號(hào)碼：201620732632
技術(shù)研發(fā)日：2016.07.13
技術(shù)公布日：2017.03.22