本實用新型涉及機(jī)械裝置技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種可旋轉(zhuǎn)印章磨平裝置。

背景技術(shù)：

將印章底平面磨平是篆刻的重要準(zhǔn)備工作之一，一方面可以去除印章毛料表面的保護(hù)蠟?zāi)?，另一方面可以獲得光滑、平直的篆刻面。實際操作中，將印章底平面磨平極易出現(xiàn)印章底面傾斜或者四角磨損、中央凸起等狀況，導(dǎo)致即使刻出印文，也無法鈐印出清晰的印拓。因此，現(xiàn)有技術(shù)中印章磨平工作時，需要緊捏印章同時向下垂直用力，沿一個方向平穩(wěn)推進(jìn)一次或兩次，然后旋轉(zhuǎn)印章90度，如此反復(fù)進(jìn)行多次，直至符合質(zhì)量要求才能進(jìn)行下一道工序。這種工作耗時、耗力，并且不易保證印章底平面磨平質(zhì)量。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型提供一種可旋轉(zhuǎn)印章磨平裝置，解決了或部分解決了上述技術(shù)問題，達(dá)到了提供一種結(jié)構(gòu)簡單、方便印章旋轉(zhuǎn)、保證了印章底平面質(zhì)量的可旋轉(zhuǎn)印章磨平裝置的技術(shù)效果。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種可旋轉(zhuǎn)印章磨平裝置，所述可旋轉(zhuǎn)印章磨平裝置包括：

一基座，所述基座上具有兩個平行滑軌和一摩擦面，所述摩擦面設(shè)置在所述兩個平行滑軌的下方，且所述摩擦面位于所述兩個平行滑軌中間；

固定件，所述固定件卡設(shè)在所述兩個平行滑軌中，所述固定件可在所述基座上沿著所述兩個平行滑軌的方向滑動；

旋轉(zhuǎn)件，所述旋轉(zhuǎn)件的外圈固定在所述固定件中，所述旋轉(zhuǎn)件的內(nèi)圈可相對所述外圈旋轉(zhuǎn)；

夾持件，所述夾持件固定在所述旋轉(zhuǎn)件的內(nèi)圈，用于夾持印章。

優(yōu)選的，所述夾持件的外周大小與所述旋轉(zhuǎn)件的內(nèi)圈的大小相匹配。

優(yōu)選的，所述夾持件包括一支撐圈和多個限位件，所述多個限位件均勻固定設(shè)置在所述支撐圈上，以所述多個限位件的一端能夾持印章，所述多個限位件的另一端抵靠設(shè)在所述旋轉(zhuǎn)件的內(nèi)圈上。

優(yōu)選的，所述多個限位件的數(shù)量為4個。

優(yōu)選的，所述多個限位件具體為鎖緊螺栓。

優(yōu)選的，所述支撐圈為圓形的。

優(yōu)選的，所述固定件為兩個。

優(yōu)選的，兩個所述固定件相對設(shè)置，所述旋轉(zhuǎn)件固定在兩個所述固定件中間。

優(yōu)選的，兩個所述固定件的相對面上開設(shè)有凹槽，以使所述旋轉(zhuǎn)件卡設(shè)在所述凹槽中。

優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)件具體為軸承；和/或，所述基座還包括一底座，所述摩擦面可拆卸地固定在所述底座上，所述底座設(shè)置在所述兩個平行滑軌的下方。

本申請的有益效果如下：

本申請?zhí)峁┑目尚D(zhuǎn)印章磨平裝置，根據(jù)印章的大小調(diào)節(jié)所述多個限位件以使所述印章穩(wěn)固，與旋轉(zhuǎn)件內(nèi)圈固定，并能相對旋轉(zhuǎn)件外圈旋轉(zhuǎn)。所述固定件在所述滑軌上來回滑動以在所述摩擦面上摩擦，達(dá)到磨平印章的技術(shù)效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例。

圖1為本申請一較佳實施方式可旋轉(zhuǎn)印章磨平裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本申請圖1中基座的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本申請圖2中基座的左視圖；

圖4為本申請圖1的一局部視圖；

100-可旋轉(zhuǎn)印章磨平裝置，1-基座，11-滑軌，12-摩擦面，2-固定件，3-旋轉(zhuǎn)件，4-夾持件，41-支撐圈，42-限位件，200-印章。

具體實施方式

為了更好的理解上述技術(shù)方案，下面將結(jié)合說明書附圖以及具體的實施方式對上述技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的說明。

圖1為本申請一較佳實施方式可旋轉(zhuǎn)印章磨平裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。請同時參閱圖1，本申請?zhí)峁┑目尚D(zhuǎn)印章磨平裝置100包括基座1、固定件、旋轉(zhuǎn)件3及夾持件4。

請參閱圖2和圖3，所述基座1用于提供印章底面磨平的磨平面及支撐其他部件。所述基座1上具有兩個平行滑軌11和一摩擦面12。所述摩擦面12設(shè)置在所述兩個平行滑軌11的下方，且所述摩擦面12位于所述兩個平行滑軌11中間。作業(yè)時印章200可沿著所述兩個平行滑軌11滑動，所述印章200的底面在所述摩擦面12上摩擦來達(dá)到磨平所述印章200的效果。所述基座1還包括一底座，所述摩擦面12可拆卸地固定在所述底座上，所述底座設(shè)置在所述兩個平行滑軌11的下方。

請參閱圖4，所述固定件2用于固定所述旋轉(zhuǎn)件3，以使所述旋轉(zhuǎn)件3可沿著所述兩個平行滑軌11滑動。所述固定件2卡設(shè)在所述兩個平行滑軌11中，所述固定件2可在所述基座1上沿著所述兩個平行滑軌11的方向滑動。所述固定件2為兩個。兩個所述固定件2相對設(shè)置，所述旋轉(zhuǎn)件3固定在兩個所述固定件2中間。兩個所述固定件2的相對面上開設(shè)有凹槽，以使所述旋轉(zhuǎn)件3卡設(shè)在所述凹槽中。

所述旋轉(zhuǎn)件3用于固定所述夾持件4，并使所述夾持件4可相對所述固定件2旋轉(zhuǎn)。具體的，所述旋轉(zhuǎn)件3的外圈固定在所述固定件2中，所述旋轉(zhuǎn)件3的內(nèi)圈可相對所述外圈旋轉(zhuǎn)；所述夾持件4固定在所述旋轉(zhuǎn)件3的內(nèi)圈，用于夾持印章200。所述夾持件4的外周大小與所述旋轉(zhuǎn)件3的內(nèi)圈的大小相匹配。在本實施例中，所述夾持件4的外周大小等于所述旋轉(zhuǎn)件3的內(nèi)圈大小，以使所述夾持件4與所述旋轉(zhuǎn)件3固定連接。優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)件3具體為軸承。

其中，所述夾持件4包括一支撐圈41和多個限位件42，所述多個限位件42均勻固定設(shè)置在所述支撐圈41上，以所述多個限位件42的一端能夾持印章200，所述多個限位件42的另一端抵靠設(shè)在所述旋轉(zhuǎn)件3的內(nèi)圈上。所述多個限位件42的數(shù)量為4個，以保證了所述印章200的穩(wěn)固性，同時也使被夾持的印章200不限于圓形，可以為方形等。所述多個限位件42具體為鎖緊螺栓。所述支撐圈41為圓形的。

作業(yè)時，根據(jù)印章200的大小調(diào)節(jié)所述多個限位件42以使所述印章200穩(wěn)固，與旋轉(zhuǎn)件3內(nèi)圈固定，并能相對旋轉(zhuǎn)件3外圈旋轉(zhuǎn)。所述固定件2在所述滑軌11上來回滑動以在所述摩擦面12上摩擦，達(dá)到磨平印章200的技術(shù)效果。

本申請至少存在如下有益效果：

本申請?zhí)峁┑目尚D(zhuǎn)印章磨平裝置，根據(jù)印章的大小調(diào)節(jié)所述多個限位件以使所述印章穩(wěn)固，與旋轉(zhuǎn)件內(nèi)圈固定，并能相對旋轉(zhuǎn)件外圈旋轉(zhuǎn)。所述固定件在所述滑軌上來回滑動以在所述摩擦面上摩擦，達(dá)到磨平印章的技術(shù)效果。

最后所應(yīng)說明的是，以上具體實施方式僅用以說明本實用新型的技術(shù)方案而非限制，盡管參照實例對本實用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對本實用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本實用新型技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本實用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。