一種彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)，屬于粉末冶金技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

彌散強(qiáng)化銅是以彌散分布的納米金屬顆粒為強(qiáng)化相的復(fù)合材料，細(xì)小堅(jiān)硬的金屬顆粒通過釘扎和阻礙位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)，提高了銅基體的強(qiáng)度和硬度，特別是高溫下的強(qiáng)度和硬度。由于具有高強(qiáng)度、高硬度、高軟化溫度、高導(dǎo)熱性和高導(dǎo)電性等優(yōu)異的綜合性能，彌散強(qiáng)化銅已在焊接、電子、電器、冶金等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，如彌散強(qiáng)化銅制備的電阻焊電極、縫焊滾輪、焊炬噴嘴在焊接時(shí)不易變形、不粘結(jié)、不發(fā)生元素?cái)U(kuò)散、焊接質(zhì)量好；此外，彌散強(qiáng)化銅是制作集成電路引線框架、電器工程開關(guān)觸橋、電子真空器件、連鑄機(jī)結(jié)晶器內(nèi)襯、發(fā)電機(jī)集電環(huán)、電樞、轉(zhuǎn)子、電車及電力火車架空導(dǎo)線等的優(yōu)良材料。

現(xiàn)有技術(shù)中彌散強(qiáng)化銅的加工系統(tǒng)復(fù)雜、各加工工序相對(duì)獨(dú)立、自動(dòng)化程度低，從而導(dǎo)致彌散強(qiáng)化銅生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制不夠穩(wěn)定，次品率偏高；目前國(guó)內(nèi)大部分的彌散強(qiáng)化銅還需依賴進(jìn)口，進(jìn)而造成使用其作為原材料的產(chǎn)品成本居高不下。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是：克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種控制結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、自動(dòng)化程度高、出產(chǎn)成品合格率高的彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：該彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)，包括金屬制粉裝置、金屬粉末氧化裝置、金屬粉末還原裝置、金屬粉末球磨裝置和金屬粉末燒結(jié)裝置，所述金屬制粉裝置、金屬粉末氧化裝置、金屬粉末還原裝置、金屬粉末球磨裝置和金屬粉末燒結(jié)裝置依次通過輸送機(jī)構(gòu)連接，所述金屬制粉裝置為高壓水霧化制粉裝置，包括漏包、金屬液導(dǎo)管、高壓水室、高壓噴嘴、金屬粉末收集箱和保溫層；所述保溫層設(shè)置在金屬液導(dǎo)管的外部并緊密結(jié)合，金屬液導(dǎo)管的兩側(cè)對(duì)稱設(shè)置高壓水室，每個(gè)高壓水室底部設(shè)置高壓噴嘴，高壓噴嘴的下方設(shè)置金屬粉末收集箱。

優(yōu)選的，所述金屬粉末氧化裝置包括內(nèi)氧化氣源、氧化真空泵、氧化三通電磁閥、氣體通道、冷卻機(jī)構(gòu)、內(nèi)氧化爐、內(nèi)氧化滾筒、內(nèi)氧化爐座、動(dòng)力機(jī)構(gòu)和溫度傳感器；所述內(nèi)氧化氣源、氧化真空泵、內(nèi)氧化爐和動(dòng)力機(jī)構(gòu)均設(shè)置在內(nèi)氧化爐座上，氣體通道通過氧化三通電磁閥分別與內(nèi)氧化氣源和氧化真空泵相連，氣體通道可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在內(nèi)氧化滾筒的一端，內(nèi)氧化滾筒的另一端的內(nèi)部設(shè)置有溫度傳感器。

優(yōu)選的，所述內(nèi)氧化滾筒的兩端均設(shè)置有冷卻機(jī)構(gòu)，內(nèi)氧化滾筒的中心筒體設(shè)置在內(nèi)氧化爐內(nèi)部。

優(yōu)選的，所述溫度傳感器為電熱偶管。

優(yōu)選的，所述金屬粉末還原裝置包括氫氣管路、還原真空泵、真空管路、真空管路截止閥、主氣體管路截止閥、還原三通電磁閥、氮?dú)夤苈?、氮?dú)夤?、真空管式爐、氫還原爐管、氫還原臺(tái)、泄壓管路、泄壓管路截止閥、主氣體管路和氫氣罐；所述氫氣罐和氮?dú)夤薹謩e設(shè)置在真空管式爐的兩側(cè)，氫氣罐經(jīng)氫氣管路、還原三通電磁閥和主氣體管路截止閥連接到主氣體管路，氮?dú)夤藿?jīng)氮?dú)夤苈?、還原三通電磁閥和主氣體管路截止閥連接到主氣體管路，主氣體管路與真空管式爐相連，還原真空泵通過真空管路和真空管路截止閥與主氣體管路相連，氫還原爐管內(nèi)部設(shè)置有氫還原臺(tái)，氫還原爐管設(shè)置在真空管式爐的內(nèi)部中心位置，泄壓管路通過泄壓管路截止閥與真空管式爐相連。

優(yōu)選的，所述真空管路截止閥、主氣體管路截止閥和泄壓管路截止閥均為截止式電磁閥。

優(yōu)選的，所述氫氣管路與還原三通電磁閥之間設(shè)置有氫氣管路壓力傳感器，輸送氮?dú)夤苈放c還原三通電磁閥之間設(shè)置有氮?dú)夤苈穳毫鞲衅?，主氣體管路與真空管式爐的底部之間設(shè)置有主氣體管路壓力傳感器，泄壓管路與真空管式爐之間設(shè)置有泄壓管路壓力傳感器。

優(yōu)選的，所述氫氣管路壓力傳感器、氮?dú)夤苈穳毫鞲衅鳌⑿箟汗苈穳毫鞲衅骱椭鳉怏w管路壓力傳感器均為擴(kuò)散硅壓力變送器。

優(yōu)選的，該彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)還包括微處理單元，微處理單元通過信號(hào)線分別與金屬制粉裝置、金屬粉末氧化裝置、金屬粉末還原裝置、金屬粉末球磨裝置和金屬粉末燒結(jié)裝置互聯(lián)。

優(yōu)選的，所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)為智能伺服電機(jī)及其控制器總成。

優(yōu)選的，所述金屬粉末球磨裝置為添加金屬粉末專用酸洗液的高能球磨機(jī)。

優(yōu)選的，所述金屬粉末燒結(jié)裝置為金屬粉末專用自動(dòng)燒結(jié)機(jī)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，該彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)的上述技術(shù)方案所具有的有益效果是：

1、設(shè)置的高壓水霧化制粉裝置，在金屬液導(dǎo)管的兩側(cè)對(duì)稱設(shè)置高壓水室，每個(gè)高壓水室底部設(shè)置高壓噴嘴，高壓噴嘴的下方設(shè)置金屬粉末收集箱，解決了制粉過程中部分合金元素的微觀偏聚問題，使金屬粉體粒度更加細(xì)膩均勻，同時(shí)實(shí)現(xiàn)了金屬粉末的自動(dòng)收集。

2、該彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)包括微處理單元和與其互聯(lián)的金屬制粉裝置、金屬粉末氧化裝置、金屬粉末還原裝置、金屬粉末球磨裝置和金屬粉末燒結(jié)裝置，在加工彌散強(qiáng)化銅的各工序中，由微處理單元根據(jù)與其互聯(lián)的所述各裝置的反饋信號(hào)進(jìn)行自動(dòng)控制，克服了現(xiàn)有技術(shù)中彌散強(qiáng)化銅的加工系統(tǒng)復(fù)雜、各加工工序相對(duì)獨(dú)立、自動(dòng)化程度低，從而導(dǎo)致的彌散強(qiáng)化銅生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制不夠穩(wěn)定，次品率偏高的不足，該彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)簡(jiǎn)單、高效，實(shí)現(xiàn)了彌散強(qiáng)化銅加工的自動(dòng)化，提高了產(chǎn)品合格率。

3、設(shè)置的金屬粉末氧化裝置的內(nèi)氧化滾筒，接收來(lái)自高壓水霧化制粉裝置的金屬粉末收集箱輸送的金屬粉末，預(yù)先調(diào)配好的內(nèi)氧化氣源的混合氧化氣體，經(jīng)氧化三通電磁閥和氣體通道進(jìn)入內(nèi)氧化滾筒內(nèi)，由微處理單元根據(jù)溫度傳感器的反饋信號(hào)，與冷卻機(jī)構(gòu)一起控制內(nèi)氧化爐內(nèi)的內(nèi)氧化滾筒維持在合適的溫度范圍內(nèi)，內(nèi)氧化滾筒在由微處理單元控制的動(dòng)力機(jī)構(gòu)的帶動(dòng)下，實(shí)現(xiàn)對(duì)筒內(nèi)金屬粉末的選擇性氧化。

4、設(shè)置的金屬粉末還原裝置的氫還原臺(tái)，接收來(lái)自金屬粉末氧化裝置的內(nèi)氧化滾筒輸出的金屬粉末，通過還原真空泵對(duì)氫還原爐管抽真空，微處理單元根據(jù)主氣體管路的氣壓信號(hào)，關(guān)閉還原真空泵和真空管路截止閥，使還原三通電磁閥連接氫氣管路的一路和連接主氣體管路截止閥的一路保持開通狀態(tài)，此時(shí)，氫氣罐中的氫氣通過主氣體管路進(jìn)入氫還原爐管，微處理單元根據(jù)泄壓管路的壓力信號(hào)和反復(fù)的抽真空動(dòng)作，實(shí)現(xiàn)對(duì)氫還原爐內(nèi)壓力的自動(dòng)控制；與此同時(shí)，微處理單元控制根據(jù)真空管式爐的溫度傳感信號(hào)，實(shí)現(xiàn)對(duì)真空管式爐內(nèi)氫還原爐管的自動(dòng)加熱功能，當(dāng)氫還原爐管被加熱至預(yù)設(shè)最佳氫還原反應(yīng)溫度時(shí)，微處理單元根據(jù)主氣體管路壓力與泄壓管路壓力的差值信號(hào)，控制還原三通電磁閥與氮?dú)夤苈愤B接的一路和與主氣體管路連接的一路為開通狀態(tài)，此時(shí)氮?dú)夤迌?nèi)的氮?dú)饨?jīng)主氣體管路進(jìn)入氫還原爐管內(nèi)，實(shí)現(xiàn)了金屬粉末的自動(dòng)低氧化處理過程。

5、設(shè)置的金屬粉末球磨裝置的原料入口，接收來(lái)自金屬粉末還原裝置的氫還原臺(tái)的金屬粉末，并采用金屬粉末專用酸洗液、由微處理單元控制高能球磨機(jī)進(jìn)行該金屬粉末的處理，可自動(dòng)、有效地去除金屬粉末表面氧化物的夾雜。

6、設(shè)置的金屬粉末燒結(jié)裝置采用金屬粉末專用自動(dòng)燒結(jié)機(jī)，由微處理單元控制自動(dòng)燒結(jié)機(jī)完成對(duì)球磨裝置輸出的金屬粉末的燒結(jié)操作，實(shí)現(xiàn)了對(duì)金屬粉末進(jìn)行燒結(jié)的自動(dòng)控制。

附圖說明

圖1 彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)結(jié)構(gòu)框圖。

圖2 高壓水霧化制粉裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3 金屬粉末氧化裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4 金屬粉末還原裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

其中：1、漏包 2、金屬液導(dǎo)管 3、高壓水室 4、高壓噴嘴 5、金屬粉末收集箱 6、保溫層 7、金屬液 8、內(nèi)氧化氣源 9、氧化真空泵 10、氧化三通電磁閥 11、氣體通道 12、冷卻機(jī)構(gòu) 13、內(nèi)氧化爐 14、內(nèi)氧化滾筒 15、內(nèi)氧化爐座 16、動(dòng)力機(jī)構(gòu) 17、溫度傳感器 18、氫氣管路 19、氫氣管路壓力傳感器 20、還原真空泵 21、真空管路截止閥 22、主氣體管路截止閥 23、還原三通電磁閥 24、氮?dú)夤苈? 25、氮?dú)夤苈穳毫鞲衅? 26、氮?dú)夤? 27、真空管式爐 28、信號(hào)輸送單元 29、氫還原爐管 30、金屬合金粉末 31、氫還原臺(tái) 32、泄壓管路 33、泄壓管路壓力傳感器 34、泄壓管路截止閥 35、主氣體管路壓力傳感器 36、主氣體管路 37、真空管路 38、氫氣罐。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖1~4對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。

參照?qǐng)D1，彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖，包括微處理單元、金屬制粉裝置、金屬粉末氧化裝置、金屬粉末還原裝置、金屬粉末球磨裝置和金屬粉末燒結(jié)裝置，所述金屬制粉裝置、金屬粉末氧化裝置、金屬粉末還原裝置、金屬粉末球磨裝置和金屬粉末燒結(jié)裝置依次通過輸送機(jī)構(gòu)連接，微處理單元通過信號(hào)線分別與金屬制粉裝置、金屬粉末氧化裝置、金屬粉末還原裝置、金屬粉末球磨裝置和金屬粉末燒結(jié)裝置互聯(lián)。金屬粉末球磨裝置為添加金屬粉末專用酸洗液的高能球磨機(jī)。金屬粉末燒結(jié)裝置為金屬粉末專用自動(dòng)燒結(jié)機(jī)。

參照?qǐng)D2，高壓水霧化制粉裝置結(jié)構(gòu)示意圖，包括漏包1、金屬液導(dǎo)管2、高壓水室3、高壓噴嘴4、金屬粉末收集箱5和保溫層6；保溫層6設(shè)置在金屬液導(dǎo)管2的外部并緊密結(jié)合，金屬液導(dǎo)管2的兩側(cè)對(duì)稱設(shè)置高壓水室3，每個(gè)高壓水室3的底部設(shè)置高壓噴嘴4，高壓噴嘴4的下方設(shè)置金屬粉末收集箱5。漏包1內(nèi)設(shè)置金屬冶煉專用耐高溫液位傳感器，該傳感器與微處理單元通過信號(hào)線相連，用于檢測(cè)漏包1內(nèi)金屬液7的液位高度，金屬液導(dǎo)管2內(nèi)底部設(shè)置截止式電磁閥，高壓水室3內(nèi)設(shè)置啟動(dòng)控制單元；當(dāng)微處理單元根據(jù)耐高溫液位傳感器的反饋信號(hào)檢測(cè)到漏包1內(nèi)的金屬液7的容量符合制粉要求時(shí)，漏包1內(nèi)停止輸送金屬液7，微處理單元控制金屬液導(dǎo)管2內(nèi)底部的截止式電磁閥為開通狀態(tài)，同時(shí)發(fā)送指令給高壓水室3內(nèi)的啟動(dòng)控制單元，金屬液7在高壓噴嘴4的噴射下形成符合目標(biāo)粒度目數(shù)的金屬合金粉末30，該粉末被金屬粉末收集箱5收集，當(dāng)微處理單元檢測(cè)到漏包1內(nèi)無(wú)金屬液7時(shí)，5分鐘后，微處理單元控制金屬液導(dǎo)管2內(nèi)底部的截止式電磁閥為關(guān)斷狀態(tài)，微處理單元發(fā)送指令控制傳動(dòng)機(jī)構(gòu)將金屬粉末收集箱5傳送至金屬粉末氧化工序，同時(shí)，高壓水室3接收微處理單元發(fā)送的停止信號(hào)后，停止工作；微處理單元發(fā)送指令控制前端輸送機(jī)構(gòu)將另一空置的金屬粉末收集箱5傳送至金屬液導(dǎo)管2的正下方，等待下一時(shí)刻的高壓水霧化制粉工序啟動(dòng)。

參照?qǐng)D3，金屬粉末氧化裝置結(jié)構(gòu)示意圖，包括內(nèi)氧化氣源8、氧化真空泵9、氧化三通電磁閥10、氣體通道11、冷卻機(jī)構(gòu)12、內(nèi)氧化爐13、內(nèi)氧化滾筒14、內(nèi)氧化爐座15、動(dòng)力機(jī)構(gòu)16和溫度傳感器17；內(nèi)氧化氣源8、氧化真空泵9、內(nèi)氧化爐13和動(dòng)力機(jī)構(gòu)16均設(shè)置在內(nèi)氧化爐座15上，氣體通道11通過氧化三通電磁閥10分別與內(nèi)氧化氣源8和氧化真空泵9相連，氣體通道11可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置在內(nèi)氧化滾筒14的一端，內(nèi)氧化滾筒14的另一端的內(nèi)部設(shè)置有溫度傳感器17，內(nèi)氧化滾筒14的另一端的外部連接動(dòng)力機(jī)構(gòu)16，內(nèi)氧化滾筒14的兩端均設(shè)置有冷卻機(jī)構(gòu)12，內(nèi)氧化滾筒14的中心筒體設(shè)置在內(nèi)氧化爐13的內(nèi)部。動(dòng)力機(jī)構(gòu)16為智能伺服電機(jī)及其控制器總成。溫度傳感器17為電熱偶管。

金屬粉末氧化裝置在其輸送機(jī)構(gòu)的兩側(cè)還設(shè)置有由微處理單元控制的起吊機(jī)構(gòu)和傾倒機(jī)構(gòu)，內(nèi)氧化滾筒14設(shè)置有智能滾筒蓋和智能端蓋，智能滾筒蓋被設(shè)置在內(nèi)氧化滾筒14的中心位置，智能端蓋設(shè)置在內(nèi)氧化滾筒14與氣體通道11連接的一端，初始時(shí)智能滾筒蓋和智能端蓋均為關(guān)閉狀態(tài)。當(dāng)圖2中的金屬粉末收集箱5內(nèi)的金屬合金粉末30被輸送至該金屬粉末氧化工序時(shí)，微處理單元控制內(nèi)氧化滾筒14的智能滾筒蓋為打開狀態(tài)，同時(shí)控制傾倒機(jī)構(gòu)將金屬合金粉末30倒入內(nèi)氧化滾筒14內(nèi)，金屬粉末收集箱5為待崗狀態(tài)；此后，微處理單元控制內(nèi)氧化滾筒14的智能滾筒蓋為關(guān)閉狀態(tài)，同時(shí)微處理單元控制氧化真空泵9為啟動(dòng)狀態(tài)，并控制氧化三通電磁閥10連接氧化真空泵9和氣體通道11的一路處于導(dǎo)通狀態(tài)，即對(duì)內(nèi)氧化滾筒14開始進(jìn)行抽真空操作，15分鐘后，微處理單元發(fā)送控制信號(hào)關(guān)閉氧化真空泵9和氧化三通電磁閥10連接氧化真空泵9和氣體通道11的一路，同時(shí)發(fā)送控制信號(hào)控制氧化三通電磁閥10連接內(nèi)氧化氣源8和氣體通道11的一路處于開通狀態(tài)，即對(duì)內(nèi)氧化滾筒14開始充氧，微處理單元發(fā)送指令使內(nèi)氧化爐13處于加熱狀態(tài)，微處理單元根據(jù)溫度傳感器17的反饋信號(hào)，與冷卻機(jī)構(gòu)12一起控制內(nèi)氧化爐13內(nèi)的內(nèi)氧化滾筒14維持在合適的溫度范圍內(nèi)，同一時(shí)刻，微處理單元控制智能伺服電機(jī)啟動(dòng)，與其連接的內(nèi)氧化滾筒14也開始在加熱的內(nèi)氧化爐13中滾動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)筒內(nèi)金屬合金粉末30的選擇性氧化。氧化后的金屬合金粉末30，由微處理單元控制起吊機(jī)構(gòu)將內(nèi)氧化爐13吊起傾斜，并控制智能伺服電機(jī)保持工作狀態(tài)，進(jìn)而內(nèi)氧化滾筒14也處于滾動(dòng)狀態(tài)，微處理單元發(fā)送信號(hào)控制內(nèi)氧化滾筒14的端蓋打開，氧化后的金屬合金粉末30被傾倒在待崗的金屬粉末收集箱5內(nèi)，傳送至下一工序。

參照?qǐng)D4，金屬粉末還原裝置結(jié)構(gòu)示意圖，包括氫氣管路18、氫氣管路壓力傳感器19、還原真空泵20、真空管路37、真空管路截止閥21、主氣體管路截止閥22、還原三通電磁閥23、氮?dú)夤苈?4、氮?dú)夤苈穳毫鞲衅?5、氮?dú)夤?6、真空管式爐27、信號(hào)輸送單元28、氫還原爐管29、氫還原臺(tái)31、泄壓管路32、泄壓管路壓力傳感器33、泄壓管路截止閥34、主氣體管路壓力傳感器35、主氣體管路36和氫氣罐38；氫氣罐38和氮?dú)夤?6分別設(shè)置在真空管式爐27的兩側(cè)，氫氣罐38經(jīng)氫氣管路18、還原三通電磁閥23和主氣體管路截止閥22連接到主氣體管路36，氫氣管路18與還原三通電磁閥23之間設(shè)置有氫氣管路壓力傳感器19，氮?dú)夤?6經(jīng)氮?dú)夤苈?4、還原三通電磁閥23和主氣體管路截止閥22連接到主氣體管路36，氮?dú)夤苈?4與還原三通電磁閥23之間設(shè)置有氮?dú)夤苈穳毫鞲衅?5，主氣體管路36與真空管式爐27相連，主氣體管路36與真空管式爐27的底部之間設(shè)置有主氣體管路壓力傳感器35，還原真空泵20通過真空管路37和真空管路截止閥21與主氣體管路36相連，氫還原爐管29內(nèi)部設(shè)置有氫還原臺(tái)31，氫還原爐管29設(shè)置在真空管式爐27的內(nèi)部中心位置，泄壓管路32通過泄壓管路截止閥34與真空管式爐27相連，泄壓管路32與真空管式爐27之間設(shè)置有泄壓管路壓力傳感器33，信號(hào)輸送單元28與微處理單元通過信號(hào)線相連。真空管路截止閥21、主氣體管路截止閥22和泄壓管路截止閥34均為截止式電磁閥。氫氣管路壓力傳感器19、氮?dú)夤苈穳毫鞲衅?5、泄壓管路壓力傳感器33和主氣體管路壓力傳感器35均為擴(kuò)散硅壓力變送器。

金屬粉末還原裝置在其輸送機(jī)構(gòu)的一側(cè)還設(shè)置有由微處理單元控制的傾倒機(jī)構(gòu)，上一工序中金屬粉末收集箱5內(nèi)的氧化后的金屬合金粉末30，在由微處理單元控制的輸送機(jī)構(gòu)和傾倒機(jī)構(gòu)的作用下被輸送至氫還原爐管29內(nèi)的氫還原臺(tái)31中，金屬粉末收集箱5處于待崗狀態(tài)；氫還原臺(tái)31底部設(shè)置重量傳感器，微處理單元接收到重量傳感器感的預(yù)設(shè)重量信號(hào)后，微處理單元發(fā)送指令信號(hào)控制啟動(dòng)還原真空泵20，真空管路截止閥21處于開通狀態(tài)，當(dāng)微處理單元檢測(cè)到主氣體管路壓力傳感器35的壓力信號(hào)符合預(yù)設(shè)真空度要求時(shí)，微處理單元發(fā)出控制指令關(guān)閉還原真空泵20，真空管路截止閥21處于關(guān)斷狀態(tài)，同時(shí)微處理單元發(fā)出指令控制還原三通電磁閥23連接氫氣管路18與主氣體管路截止閥22連通的一路為開通狀態(tài)，同時(shí)根據(jù)氫氣管路壓力傳感器19的傳感信號(hào)測(cè)定氫還原爐管29內(nèi)的氫氣壓力和氫氣通入速率，30分鐘后，微處理單元控制真空管式爐27加熱4小時(shí)后停止，當(dāng)微處理單元檢測(cè)到氫還原爐管29內(nèi)的氫氣壓力符合預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，微處理單元發(fā)送控制指令，使還原三通電磁閥23連接氮?dú)夤苈?4和主氣體管路截止閥22的一路為開通狀態(tài)，此時(shí)氮?dú)夤?6的氮?dú)饨?jīng)主氣體管路36進(jìn)入氫還原爐管29內(nèi)，微處理單元根據(jù)氮?dú)夤苈穳毫鞲衅?5的壓力傳感信號(hào)測(cè)定氮?dú)獾膲毫土魉伲?小時(shí)后，微處理單元發(fā)出控制信號(hào)關(guān)閉主氣體管路截止閥22，氫還原臺(tái)31的金屬合金粉末30的低氧化處理完成。上述所有傳感器信號(hào)均發(fā)送至信號(hào)輸送單元28，并由其發(fā)送至微處理單元進(jìn)行信號(hào)處理。

參照?qǐng)D1~圖4，彌散強(qiáng)化銅自動(dòng)加工系統(tǒng)的自動(dòng)加工過程：

A、制粉工序，經(jīng)金屬液化工序后的金屬液7被輸送到漏包1中，當(dāng)微處理單元檢測(cè)到漏包1內(nèi)的金屬液7的容量符合制粉要求時(shí)，微處理單元控制金屬液導(dǎo)管2內(nèi)底部的截止式電磁閥為開通狀態(tài)，同時(shí)發(fā)送指令給高壓水室3內(nèi)的啟動(dòng)控制單元，金屬液7在高壓噴嘴4的噴射下形成符合目標(biāo)粒度目數(shù)的金屬合金粉末30，該粉末被金屬粉末收集箱5收集；

B、內(nèi)氧化工序，微處理單元控制內(nèi)氧化滾筒14的智能滾筒蓋為打開狀態(tài)，同時(shí)控制傾倒機(jī)構(gòu)將金屬粉末收集箱5內(nèi)的金屬合金粉末30倒入內(nèi)氧化滾筒14內(nèi)，金屬粉末收集箱5為待崗狀態(tài)；微處理單元控制內(nèi)氧化滾筒14的智能滾筒蓋為關(guān)閉狀態(tài)，同時(shí)微處理單元控制氧化真空泵9為啟動(dòng)狀態(tài)，對(duì)內(nèi)氧化滾筒14開始進(jìn)行抽真空操作，15分鐘后，微處理單元發(fā)送控制信號(hào)對(duì)內(nèi)氧化滾筒14開始充氧，微處理單元發(fā)送指令使內(nèi)氧化爐13處于加熱狀態(tài)，微處理單元控制智能伺服電機(jī)啟動(dòng)，與其連接的內(nèi)氧化滾筒14也開始在加熱的內(nèi)氧化爐13中滾動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)筒內(nèi)金屬合金粉末30的選擇性氧化，氧化后的金屬合金粉末30，由微處理單元控制起吊機(jī)構(gòu)將內(nèi)氧化爐13吊起傾斜，并控制智能伺服電機(jī)保持工作狀態(tài)，進(jìn)而內(nèi)氧化滾筒14也處于滾動(dòng)狀態(tài)，微處理單元發(fā)送信號(hào)控制內(nèi)氧化滾筒14的端蓋打開，氧化后的金屬合金粉末30被傾倒在待崗的金屬粉末收集箱5內(nèi)。

C、氫還原工序，金屬粉末收集箱5內(nèi)的氧化后的金屬合金粉末30，在由微處理單元控制的輸送機(jī)構(gòu)和傾倒機(jī)構(gòu)的作用下被輸送至氫還原爐管29內(nèi)的氫還原臺(tái)31中，同時(shí)金屬粉末收集箱5處于待崗狀態(tài)；微處理單元發(fā)送指令信號(hào)控制啟動(dòng)還原真空泵20，真空管路截止閥21處于開通狀態(tài)，當(dāng)微處理單元檢測(cè)到主氣體管路壓力傳感器35的壓力信號(hào)符合預(yù)設(shè)真空度要求時(shí)，微處理單元發(fā)出控制指令關(guān)閉還原真空泵20，真空管路截止閥21處于關(guān)斷狀態(tài)，同時(shí)微處理單元發(fā)出指令控制還原三通電磁閥23連接氫氣管路18與主氣體管路截止閥22連通的一路為開通狀態(tài)，30分鐘后，微處理單元控制真空管式爐27加熱4小時(shí)后停止，當(dāng)微處理單元檢測(cè)到氫還原爐管29內(nèi)的氫氣壓力符合預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，微處理單元發(fā)送控制指令，使還原三通電磁閥23連接氮?dú)夤苈?4和主氣體管路截止閥22的一路為開通狀態(tài)，此時(shí)氮?dú)夤?6的氮?dú)饨?jīng)主氣體管路36進(jìn)入氫還原爐管29內(nèi)，1小時(shí)后，微處理單元發(fā)出控制信號(hào)關(guān)閉主氣體管路截止閥22，氫還原臺(tái)31的金屬合金粉末30的低氧化處理完成。低氧化處理后的金屬合金粉末30，被由微處理單元控制的傾倒機(jī)構(gòu)傾倒至待崗的金屬粉末收集箱5內(nèi)。

D、球磨酸洗工序，微處理單元控制輸送機(jī)構(gòu)，將氫還原工序的金屬粉末收集箱5內(nèi)的金屬合金粉末30，送入添加金屬粉末專用酸洗液的高能球磨機(jī)的原料入口內(nèi)，進(jìn)行粉末表面氧化物的夾雜處理，同時(shí)微處理單元控制輸送機(jī)構(gòu)將金屬粉末收集箱5輸送至高能球磨機(jī)的物料出口處待崗，待處理完成后，微處理單元控制高能球磨機(jī)的物料出口為打開狀態(tài)，球磨酸洗處理后的金屬合金粉末30被傾倒至待崗的金屬粉末收集箱5內(nèi)。

E、燒結(jié)工序，微處理單元控制輸送機(jī)構(gòu)，將球磨酸洗工序的金屬粉末收集箱5內(nèi)的金屬合金粉末30，送入金屬粉末專用自動(dòng)燒結(jié)機(jī)內(nèi)進(jìn)行燒結(jié)操作，同時(shí)微處理單元控制輸送機(jī)構(gòu)將金屬粉末收集箱5輸送至制粉工序工位待崗，燒結(jié)成型后的彌散強(qiáng)化銅燒結(jié)錠或棒材，被輸送至后續(xù)代加工工序。后續(xù)代加工工序，根據(jù)具體制品的不同尺寸和形狀可選擇軋制、拉拔、冷沖、機(jī)加工等具體工藝，最終獲得不同應(yīng)用產(chǎn)品。

以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非是對(duì)本實(shí)用新型作其它形式的限制，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員可能利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容加以變更或改型為等同變化的等效實(shí)施例。但是凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何的簡(jiǎn)單修改、等同變化與改型，仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的保護(hù)范圍。