一種噴金濺射儀的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及半導體檢測領域，具體涉及一種噴金濺射儀。
【背景技術】
[0002]半導體(比如芯片)在進行檢測時，部分半導體的樣品因制作等各種原因而出現(xiàn)導電性比較差的現(xiàn)象，嚴重影響樣品的后序檢測及觀察樣品結構，為了解決此問題，半導體的樣品在檢測前，利用噴金濺射儀在半導體的樣品表面鍍一層金屬膜，從而提高樣品的導電性，但現(xiàn)有的噴金濺射儀全部從國外進口，存在著成本高、控制不方便等缺點。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]鑒于目前噴金濺射儀存在的上述不足，本實用新型提供一種能大幅提高樣品的導電性、成本低、控制方便的噴金濺射儀。
[0004]為達到上述目的，本實用新型采用根據(jù)下技術方案:
[0005]一種噴金濺射儀，包括腔體，所述腔體的內(nèi)部設有金靶、濺射頭、真空室、倒計時器和樣品臺，所述腔體的外側設有操作設備和電源，所述濺射頭固定在真空室的頂部，所述真空室的側面設有濺射氣體入口和真空泵連接出口，所述金靶安裝在濺射頭內(nèi)，所述樣品臺位于真空室內(nèi)部的底部中間，所述樣品臺通過線路與電源接通，所述操作設備位于樣品臺與電源之間的線路上，所述金靶通過倒計時器與電源連接。
[0006]依照本實用新型的一個方面，所述噴金濺射儀還包括轉盤，所述真空室與轉盤的頂部進行密封連接，所述樣品臺固定在轉盤的頂部。
[0007]依照本實用新型的一個方面，所述樣品臺固定在轉盤頂部的正中間。
[0008]依照本實用新型的一個方面，所述真空室為圓形的透明玻璃真空罩。
[0009]依照本實用新型的一個方面，所述濺射頭與真空室接觸處設有濺射口，所述濺射口的位置安裝有自動門。
[0010]本實用新型的優(yōu)點:由于本實用新型的腔體的內(nèi)部設有金靶、濺射頭、真空室、倒計時器和樣品臺，腔體的外側設有操作設備和電源，濺射頭固定在真空室的頂部，金靶安裝在濺射頭內(nèi)，樣品臺位于真空室內(nèi)部的底部中間，樣品臺通過線路與電源接通，操作設備位于樣品臺與電源之間的線路上，便于操作人員對噴金濺射儀的控制，金靶通過倒計時器與電源連接，在電源的陽極與陰極之間使用合適的氣體和電壓，當真空室出現(xiàn)輝光放電時，金靶在氣體離子的轟擊下侵蝕樣品，濺射出來的金屬原子將樣品表面形成一層金屬薄膜，從而大幅提高樣品的導電性，由于真空室的側面設有濺射氣體入口和真空泵連接出口，在保證真空室絕對密封的前提下，簡化了噴金濺射儀的結構設計，比如:濺射氣體的送入問題、真空室內(nèi)的真空度大小調節(jié)等問題，降低了噴金濺射儀的成本，所以本實用新型的噴金濺射儀能大幅提高樣品的導電性、成本低、控制方便。
【附圖說明】
[0011]為了更清楚地說明本實用新型實施例中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0012]圖1為本實用新型的一種噴金濺射儀的示意圖。
【具體實施方式】
[0013]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0014]如圖1所示，一種噴金濺射儀，包括腔體11，所述腔體11的內(nèi)部設有金靶3、濺射頭4、真空室10、倒計時器2和樣品臺8，腔體11的外側設有操作設備13和電源1，濺射頭3固定在真空室10的頂部，真空室10的側面設有濺射氣體入口 9和真空泵連接出口 6，金靶3安裝在濺射頭4內(nèi)，樣品臺8位于真空室10內(nèi)部的底部中間，樣品臺8通過線路12與電源I接通，操作設備13位于樣品臺8與電源I之間的線路上，金靶3通過倒計時器2與電源I連接。
[0015]在實際應用中，為了旋轉樣品臺8，噴金濺射儀設置了轉盤7，真空室10的底部與轉盤7的頂部進行密封連接，樣品臺8固定在轉盤7的頂部，樣品臺8 一般設計在轉盤7頂部的正中間；為了在濺射過程中便于工作人員進行觀察，真空室10設計為圓形的透明玻璃真空罩，真空室10通過真空泵連接出口 6與真空泵接通，真空泵一般選用油封式機械真空泵，抽真空速率:5m3/h或10m3/h，真空室10的極限真空度:小于2 X 10_3mbar，并通過真空計以紅綠兩色指示條實時顯示真空度，另外，濺射氣體通過濺射氣體入口 9流入真空室10內(nèi)，濺射氣體可選擇氬氣或氮氣等惰性氣體，濺射工作壓力一般為:5 X 10-2mbar,濺射工作電流為0_150mA或0_250mA兩種選擇范圍，派射時間在0_999s之間任意可調。
[0016]在實際應用中，樣品臺8可為標準的SEM樣品臺，樣品臺8帶有高度刻度，便于調節(jié)工作距離；另外，濺射頭4與真空室10接觸處設有濺射口，濺射口的位置安裝有自動門5，自動門5對派射口進行開啟或關閉。
[0017]本實用新型的工作原理:由于本實用新型的腔體11的內(nèi)部設有金靶3、濺射頭4、真空室10、倒計時器2和樣品臺8，腔體11的外側設有操作設備13和電源1，濺射頭3固定在真空室10的頂部，金靶3安裝在濺射頭4內(nèi)，樣品臺8位于真空室10內(nèi)部的底部中間，樣品臺8通過線路12與電源I接通，操作設備13位于樣品臺8與電源I之間的線路上，便于操作人員對噴金濺射儀的控制，金靶3通過倒計時器2與電源I連接，在電源的陽極與陰極之間使用合適的氣體和電壓，氣體可選用氬氣或氮氣等惰性氣體，當真空室10出現(xiàn)輝光放電時，金靶3在氣體離子的轟擊下侵蝕樣品，濺射出來的金屬原子將樣品表面形成一層金屬薄膜，從而大幅提高樣品的導電性，由于真空室10的側面設有濺射氣體入口 9和真空泵連接出口 6，在保證真空室10絕對密封的前提下，簡化了噴金濺射儀的結構設計，比如:濺射氣體的送入問題、真空室10內(nèi)的真空度大小調節(jié)等問題，降低了噴金濺射儀的成本，所以本實用新型的噴金濺射儀能大幅提高樣品的導電性、成本低、控制方便。
[0018]以上所述，僅為本實用新型的【具體實施方式】，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本領域技術的技術人員在本實用新型公開的技術范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應以所述權利要求的保護范圍為準。
【主權項】
1.一種噴金濺射儀，包括腔體，其特征在于，所述腔體的內(nèi)部設有金靶、濺射頭、真空室、倒計時器和樣品臺，所述腔體的外側設有操作設備和電源，所述濺射頭固定在真空室的頂部，所述真空室的側面設有濺射氣體入口和真空泵連接出口，所述金靶安裝在濺射頭內(nèi)，所述樣品臺位于真空室內(nèi)部的底部中間，所述樣品臺通過線路與電源接通，所述操作設備位于樣品臺與電源之間的線路上，所述金靶通過倒計時器與電源連接。
2.根據(jù)權利要求1所述的噴金濺射儀，其特征在于，所述噴金濺射儀還包括轉盤，所述真空室與轉盤的頂部進行密封連接，所述樣品臺固定在轉盤的頂部。
3.根據(jù)權利要求2所述的噴金濺射儀，其特征在于，所述樣品臺固定在轉盤頂部的正中間。
4.根據(jù)權利要求1所述的噴金濺射儀，其特征在于，所述真空室為圓形的透明玻璃真空罩。
5.根據(jù)權利要求1至4任一所述的噴金濺射儀，其特征在于，所述濺射頭與真空室接觸處設有濺射口，所述濺射口的位置安裝有自動門。
【專利摘要】本實用新型公開了一種噴金濺射儀，包括腔體，所述腔體的內(nèi)部設有金靶、濺射頭、真空室、倒計時器和樣品臺，所述腔體的外側設有操作設備和電源，所述濺射頭固定在真空室的頂部，所述真空室的側面設有濺射氣體入口和真空泵連接出口，所述金靶安裝在濺射頭內(nèi)，所述樣品臺位于真空室內(nèi)部的底部中間，所述樣品臺通過線路與電源接通，所述操作設備位于樣品臺與電源之間的線路上，所述金靶通過倒計時器與電源連接。本實用新型提供的噴金濺射儀能大幅提高樣品的導電性、成本低、控制方便。
【IPC分類】C23C14-34, C23C14-14
【公開號】CN204417581
【申請?zhí)枴緾N201520032898
【發(fā)明人】尚躍, 余夕霞
【申請人】上海聚躍電子科技有限公司
【公開日】2015年6月24日
【申請日】2015年1月17日