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一種硫化氫除釩工藝的制作方法

文檔序號:11093001閱讀:865來源:國知局
一種硫化氫除釩工藝的制造方法與工藝

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種硫化氫除釩工藝,其可用于四氯化鈦精制除釩領(lǐng)域。



背景技術(shù):

四氯化鈦是生產(chǎn)金屬鈦及其化合物的重要中間體,是制取海綿鈦和氯化法鈦白的主要原料,其應(yīng)用領(lǐng)域較為廣泛。粗四氯化鈦含有釩等多種有機(jī)物雜質(zhì),需對粗四氯化鈦進(jìn)行精制,才能應(yīng)用于生產(chǎn)領(lǐng)域原料或制劑。

目前主要有銅絲除釩法、鋁粉除釩法、礦物油除釩等工藝,其機(jī)理主要是將粗四氯化鈦除釩還原VOC13,生產(chǎn)不不溶性的VOC12,再用沉淀法除釩等雜質(zhì)。銅絲除釩效果好,除釩同時(shí)還可除去有機(jī)物等雜質(zhì),銅對產(chǎn)品不會產(chǎn)生污染,但問題是消耗昂貴的金屬銅,除釩成本高,失效銅絲球的再生清洗勞動強(qiáng)度大,產(chǎn)生大量的酸霧和含銅廢酸水污染環(huán)境。

而礦物油除釩將少量有機(jī)物加入到粗TiC1溶液中,攪拌加熱,若不加攪拌,不利于反應(yīng),攪拌可以增進(jìn)有機(jī)物與料液的接觸,使其充分與VOC13接觸進(jìn)行反應(yīng),有機(jī)物除釩法所用有機(jī)物廉價(jià)無毒,減少環(huán)境污染,且除釩等金屬雜質(zhì),但除釩后殘?jiān)勘容^多,容易在容器壁上結(jié)疤,嚴(yán)重影響傳熱。

CN201010561179.X公開了一種四氯化鈦除釩方法,將粗TiCl4和AlCl3在AlCl3混合液配制槽內(nèi)混合,將粗TiCl4和鋁粉在鋁粉混合液配制槽內(nèi)混合等一系列鋁粉除釩工藝,仍存在過濾、蒸發(fā)換熱、精蒸餾等工序復(fù)雜,殘?jiān)勘容^大,除釩效果不太理想的問題。

現(xiàn)有四氯化鈦精制除釩工序較多而復(fù)雜,不僅存在于銅絲除釩法、鋁粉除釩法,同樣,礦物油除釩需不斷攪拌加熱處理,冷卻時(shí)使冷凝器和管道發(fā)生堵塞,生成泥漿多而降低四氯化鈦的回收率,需經(jīng)三塔精制除釩工序,第一塔除釩,第二塔除四氯化硅,第三塔除碳?xì)浠衔锏?;而其它一些除釩工藝,除去四氯化鈦中的雜質(zhì),殘?jiān)勘容^大,易腐蝕容器設(shè)備,而有機(jī)物除釩反應(yīng)后的四氯化鈦固液比較高,易堵塞管道,因而針對四氯化鈦精制工藝除釩效果不甚理想,有待改進(jìn)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種硫化氫除釩工藝,該工藝通過硫化氫與粗TiCl4中VOCl3及雜質(zhì)反應(yīng)生成VOCl2呈泥漿狀排出,同時(shí)制得TiCl4半成品,通過一塔蒸餾,提純精制TiCl4產(chǎn)品,塔頂除硅,縮短四氯化鈦提純工藝,無明顯結(jié)垢現(xiàn)象,避免設(shè)備易被腐蝕、管道堵塞等問題。

為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:

一種硫化氫除釩工藝,該工藝包括步驟如下:

1)將粗TiCl4注入反應(yīng)釜A,控制進(jìn)料速度為2.5~3.0噸/小時(shí),粗TiCl4占反應(yīng)釜體積70~80%;

2)啟動反應(yīng)釜A攪拌器,直接向反應(yīng)釜A內(nèi)通入硫化氫氣體和氮?dú)?,硫化氫氣體︰粗四氯化鈦質(zhì)量比為(1~2)︰1000;通過調(diào)整反應(yīng)釜頂部的負(fù)壓管道閥門,控制反應(yīng)釜A常壓反應(yīng),硫化氫氣體與粗TiCl4中VOCl3、氯化鐵、氯化鎂、氯化鉻高沸點(diǎn)雜質(zhì)反應(yīng)得到泥漿狀物體從反應(yīng)釜底部排出,排出速度0.05~0.1噸/小時(shí),每1~1.5小時(shí)排泥1次,泥漿狀物體進(jìn)入到噴淋塔,經(jīng)過水洗后,進(jìn)入廢水池內(nèi),廢水池內(nèi)添加聚合氯化鋁、通入空氣曝氣,得到沉淀物;

3)反應(yīng)釜A的中部得到TiCl4半成品液體,將TiCl4半成品液體排放到反應(yīng)釜B內(nèi),控制TiCl4半成品流量在1.5~1.8 m3/h;

4)控制反應(yīng)釜B內(nèi)溫度120~130℃,陳化反應(yīng)1~2小時(shí),再將反應(yīng)釜B內(nèi)TiCl4半成品液體打入浮閥塔內(nèi)蒸餾,利用四氯化硅、四氯化鈦沸點(diǎn)差異,讓四氯化硅從冷凝器流出到高硅儲罐,純凈的四氯化鈦進(jìn)入塔底并排入成品塔釜,即TiCl4成品,即TiCl4成品,呈無色,透亮,液體,無明顯結(jié)垢現(xiàn)象,TiCl4成品中釩≤0.0024%。

作為優(yōu)選,所述硫化氫氣體和氮?dú)獾幕旌象w積比為:2:1。

本發(fā)明的有益效果在于:

1、本發(fā)明采用硫化氫除釩工藝直接用硫化氫進(jìn)氣管直接向反應(yīng)釜A內(nèi)通入硫化氫氣體,硫化氫氣體與粗四氯化鈦充分反應(yīng),無需對反應(yīng)釜內(nèi)TiCl4液體與硫化氫氣體反應(yīng)過程加熱,實(shí)踐工藝顯示,只需消耗較少量的硫化氫充分反應(yīng),硫化氫可以除去四氯化鈦中的VOCl2等雜質(zhì)呈泥漿狀排出,效果較好,簡化工藝方法,縮短工藝流程,降低設(shè)備與原料成本。

2、本發(fā)明硫化氫除釩工藝由于通過一反應(yīng)釜就可以完成硫化氫除釩主要工序,內(nèi)盛有粗四氯化鈦液體的反應(yīng)釜A內(nèi)直接通入硫化氫氣體,充分反應(yīng),其一HS、HCl、TiCl4等氣體排出,粗四氯化鈦中VOCl3及雜質(zhì)與釩、鐵、鉻等反應(yīng),生成VOCl2呈泥漿狀排出,其二生成生成VOCl2呈泥漿狀排出,其三完成TiCl4半成品液體的排出,反應(yīng)后的四氯化鈦固液比在35%左右,提取TiCl4半成品液體,工序流程緊湊,不產(chǎn)生管道堵塞與腐蝕,工作效率高,避免現(xiàn)有多種方法四氯化鈦除釩工序流程較多易發(fā)生管道堵塞現(xiàn)象。

3、本發(fā)明硫化氫除釩工藝由于在通入的硫化氫氣體的反應(yīng)釜內(nèi)設(shè)置攪拌器,使通入的硫化氫氣體被攪成很小的氣泡,從而大大增加氣液相接觸面,促進(jìn)硫化氫與粗TiCl4液體中VOCl3反應(yīng)充分進(jìn)行。

4、本發(fā)明硫化氫除釩工藝采用浮閥塔內(nèi)蒸餾與冷凝的方法,將制得的TiCl4半成品液體加熱到一定溫度蒸餾,利用四氯化硅四氯化鈦的沸點(diǎn)差異,可一塔蒸餾,塔頂除硅,塔底得到精制四氯化鈦,無明顯結(jié)垢現(xiàn)象,縮短四氯化鈦提純工藝。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的硫化氫除釩的工藝流程圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。

如圖1所示,搪瓷反應(yīng)釜A、搪瓷反應(yīng)釜B:φ2000*2000,攪拌器:Y2.2KW~4p~I(xiàn)P54/F,浮閥塔,冷凝器,TiCl4成品塔釜,高硅儲罐硫化氫氣體:壓力0.3MPa,常溫(20℃),密度1.84g/L。蒸汽壓力0.8~1.5MPa。

該硫化氫除釩工藝包括反應(yīng)釜A、B,所述反應(yīng)釜A、B均采用搪瓷材料反應(yīng)釜,反應(yīng)釜A、B內(nèi)均設(shè)有攪拌器2,所述反應(yīng)釜A頂部通過負(fù)壓管3與負(fù)壓系統(tǒng)21連接,所述負(fù)壓管3上安裝有控制閥5,所述反應(yīng)釜A頂部與粗TiCl4進(jìn)料管51連接,反應(yīng)釜A頂部設(shè)有進(jìn)氣管1,該進(jìn)氣管1端部伸入至反應(yīng)釜內(nèi)下部位置,反應(yīng)釜A底部設(shè)有排泥管16,排泥管16的末端與噴淋塔30連接,噴淋塔30底部設(shè)有出料管31,出料管31的末端插入廢水池32中,廢水池32內(nèi)還通入空氣曝氣管33。

反應(yīng)釜A中部設(shè)有TiCl4半成品排液管52, TiCl4半成品排液管52的末端與反應(yīng)釜B連接,反應(yīng)釜B外部設(shè)置蒸汽夾套6,反應(yīng)釜B底部設(shè)有排泥管62,所述反應(yīng)釜B中下部設(shè)有排液管61,排液管61的末端連接到浮閥塔7,所述浮閥塔7頂部與冷凝器8連接,所述冷凝器8通過四氯化硅排出管與高硅儲罐10連接。

實(shí)施例1:一種硫化氫除釩工藝,工藝步驟如下:

1)通過粗TiCl4進(jìn)料管51向反應(yīng)釜A輸送粗四氯化鈦,約占反應(yīng)釜體積70%,通過控制反應(yīng)釜液位、進(jìn)料閥門來控制進(jìn)料速度,進(jìn)料速度為2.5噸/小時(shí);

2)啟動反應(yīng)釜A攪拌器2,直接向反應(yīng)釜A內(nèi)通入硫化氫氣體和氮?dú)猓蚧瘹錃怏w︰粗四氯化鈦質(zhì)量比為1︰1000;通過調(diào)整反應(yīng)釜頂部的負(fù)壓管道閥門,控制反應(yīng)釜A常壓反應(yīng),硫化氫氣體與粗TiCl4中VOCl3、氯化鐵、氯化鎂、氯化鉻高沸點(diǎn)雜質(zhì)反應(yīng)得到泥漿狀物體從反應(yīng)釜底部排出,排出速度0.05噸/小時(shí),每1.5小時(shí)排泥1次,泥漿狀物體進(jìn)入到噴淋塔30,經(jīng)過水洗后,進(jìn)入廢水池32內(nèi),廢水池32內(nèi)添加聚合氯化鋁、通入空氣曝氣,得到沉淀物;

3)反應(yīng)釜A的中部得到TiCl4半成品液體,將TiCl4半成品液體排放到反應(yīng)釜B內(nèi),控制TiCl4半成品流量在1.5m3/h;

4)控制反應(yīng)釜B內(nèi)溫度128℃,陳化反應(yīng)1.3小時(shí),再將反應(yīng)釜B內(nèi)TiCl4半成品液體打入浮閥塔7內(nèi)蒸餾,利用四氯化硅、四氯化鈦沸點(diǎn)差異,讓四氯化硅從冷凝器8流出到高硅儲罐10,純凈的四氯化鈦進(jìn)入塔底并排入成品塔釜,即TiCl4成品,即TiCl4成品,呈無色,透亮,液體,無明顯結(jié)垢現(xiàn)象,TiCl4成品中釩為0.0020%。

實(shí)施例2:一種硫化氫除釩工藝,工藝步驟如下:

1)通過粗TiCl4進(jìn)料管向反應(yīng)釜A輸送粗四氯化鈦,約占反應(yīng)釜體積80%,通過控制反應(yīng)釜液位、進(jìn)料閥門來控制進(jìn)料速度,進(jìn)料速度為3.0噸/小時(shí);

2)啟動反應(yīng)釜A攪拌器2,直接向反應(yīng)釜A內(nèi)通入硫化氫氣體和氮?dú)?,硫化氫氣體︰粗四氯化鈦質(zhì)量比為2︰1000;通過調(diào)整反應(yīng)釜頂部的負(fù)壓管道閥門,控制反應(yīng)釜A常壓反應(yīng),硫化氫氣體與粗TiCl4中VOCl3、氯化鐵、氯化鎂、氯化鉻高沸點(diǎn)雜質(zhì)反應(yīng)得到泥漿狀物體從反應(yīng)釜底部排出,排出速度0.1噸/小時(shí),每1小時(shí)排泥1次,泥漿狀物體進(jìn)入到噴淋塔30,經(jīng)過水洗后,進(jìn)入廢水池32內(nèi),廢水池32內(nèi)添加聚合氯化鋁、通入空氣曝氣,得到沉淀物;

3)反應(yīng)釜A的中部得到TiCl4半成品液體,將TiCl4半成品液體排放到反應(yīng)釜B內(nèi),控制TiCl4半成品流量在1.8 m3/h;

4)控制反應(yīng)釜B內(nèi)溫度120℃,陳化反應(yīng)2小時(shí),再將反應(yīng)釜B內(nèi)TiCl4半成品液體打入浮閥塔7內(nèi)蒸餾,利用四氯化硅、四氯化鈦沸點(diǎn)差異,讓四氯化硅從冷凝器8流出到高硅儲罐10,純凈的四氯化鈦進(jìn)入塔底并排入成品塔釜,即TiCl4成品,即TiCl4成品,呈無色,透亮,液體,無明顯結(jié)垢現(xiàn)象,TiCl4成品中釩為0.018%。

實(shí)施例3.一種硫化氫除釩工藝,工藝步驟如下:

1)通過粗TiCl4進(jìn)料管向反應(yīng)釜A輸送粗四氯化鈦,約占反應(yīng)釜體積75%,通過控制反應(yīng)釜液位、進(jìn)料閥門來控制進(jìn)料速度,進(jìn)料速度為2.8噸/小時(shí);

2)啟動反應(yīng)釜A攪拌器2,直接向反應(yīng)釜A內(nèi)通入硫化氫氣體和氮?dú)猓蚧瘹錃怏w︰粗四氯化鈦質(zhì)量比為1.5︰1000;通過調(diào)整反應(yīng)釜頂部的負(fù)壓管道閥門,控制反應(yīng)釜A常壓反應(yīng),硫化氫氣體與粗TiCl4中VOCl3、氯化鐵、氯化鎂、氯化鉻高沸點(diǎn)雜質(zhì)反應(yīng)得到泥漿狀物體從反應(yīng)釜底部排出,排出速度0.08噸/小時(shí),每1.2小時(shí)排泥1次,泥漿狀物體進(jìn)入到噴淋塔30,經(jīng)過水洗后,進(jìn)入廢水池32內(nèi),廢水池32內(nèi)添加聚合氯化鋁、通入空氣曝氣,得到沉淀物;

3)反應(yīng)釜A的中部得到TiCl4半成品液體,將TiCl4半成品液體排放到反應(yīng)釜B內(nèi),控制TiCl4半成品流量在1.71 m3/h;

4)控制反應(yīng)釜B內(nèi)溫度126℃,陳化反應(yīng)1.6小時(shí),再將反應(yīng)釜B內(nèi)TiCl4半成品液體打入浮閥塔7內(nèi)蒸餾,利用四氯化硅、四氯化鈦沸點(diǎn)差異,讓四氯化硅從冷凝器8流出到高硅儲罐10,純凈的四氯化鈦進(jìn)入塔底并排入成品塔釜,即TiCl4成品,即TiCl4成品,呈無色,透亮,液體,無明顯結(jié)垢現(xiàn)象,TiCl4成品中釩為0.019%。

以上對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說明,但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。凡依本發(fā)明范圍所作的均等變化與改進(jìn)等,均應(yīng)仍歸屬于本專利涵蓋范圍之內(nèi)。

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