本實(shí)用新型屬于鍍膜玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種超高透低輻射鍍膜玻璃。

背景技術(shù)：

低輻射玻璃，又稱Low-E玻璃，是一種在玻璃表面鍍制包括銀層在內(nèi)的多層金屬或其它化合物組成的膜系產(chǎn)品。由于銀層具有低輻射的特性，低輻射玻璃對可見光有較高的透射率，對紅外線有很高的反射率，因此，具有良好的隔熱性能。

而超高透低輻射玻璃，則是在普通單銀低輻射玻璃的基礎(chǔ)上增加兩層電介質(zhì)層的一種玻璃。與普通低輻射玻璃相比，超高透低輻射玻璃在保持對紅外線具有較高的反射率的同時(shí)，對可見光有更高的透射率，因此，具有更強(qiáng)的采光性能。

目前采用真空磁控濺射法生產(chǎn)的超高透低輻射鍍膜玻璃的膜層結(jié)構(gòu)一般為：玻璃/基層電介質(zhì)層/功能層銀層/阻擋層/上層電介質(zhì)層/上層第二電介質(zhì)層/上層第三電介質(zhì)層/上層第四電介質(zhì)層等。

電介質(zhì)層一般為金屬的氧化物或金屬的氮化物,或?yàn)榉墙饘俚难趸锘蚍墙饘俚牡?，如SiZrO_x、TiO₂、ZnSnO_x、SnO₂、ZnO、SiO₂、Ta₂O₅、SiN_xO_y、BiO₂、Al₂O₃、Nb₂O₅、Si₃N₄、AZO等。

阻擋層一般為金屬或金屬氧化(氮化)物，也可以是合金或合金氧化(氮化)物，如Ti、NiCr或NiCrO_x、NiCrN_x等。也有使用銅作為阻擋層。

在傳統(tǒng)的低輻射膜的開發(fā)及生產(chǎn)中，所定義的高透、低透，只是相對普通浮法玻璃的可見光透過率，乘以一定的百分比，很難使可見光透過率接近普通浮法玻璃。

對于實(shí)際應(yīng)用中需要選擇使用可見光透過率非常高的低輻射鍍膜產(chǎn)品時(shí)，一般都采用使用超白玻璃做為基板，鍍一種透過較高的低輻射膜，這種做法的存在如下的局限性：

(1).超白玻璃的實(shí)際價(jià)格遠(yuǎn)高于普通的白玻，這就限制了此類低輻射鍍膜產(chǎn)品的使用范圍，不利于產(chǎn)品的推廣；

(2).超白玻璃在生產(chǎn)過程中不同批次的，不同廠家的產(chǎn)品，難以做到顏色的一致性，致使在生產(chǎn)使用過程中無形中增加加工成本或者出現(xiàn)色差類事故報(bào)廢的風(fēng)險(xiǎn)。

(3).基板使用超白玻璃的產(chǎn)品，其可見光透過率也只是相對較高，不能完全滿足市場對可見光透過率的需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對目前由有超白作為基板制造的超高透低輻射鍍膜玻璃存在的不同批次玻璃顏色一致性差、存在色差、可見光透過率不能滿足市場需求以及造價(jià)高等問題，本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種超高透低輻射鍍膜玻璃。

為了實(shí)現(xiàn)上述實(shí)用新型目的，本實(shí)用新型實(shí)施例的技術(shù)方案如下：

一種超高透低輻射鍍膜玻璃，所述鍍膜玻璃包括玻璃基板和自所述玻璃基板一表面向外依次疊設(shè)的第一電介質(zhì)膜層、第二電介質(zhì)膜層、銀功能膜層、阻擋膜層、第三電介質(zhì)膜層、第四電介質(zhì)膜層、第五電介質(zhì)膜層、第六電介質(zhì)膜層。

優(yōu)選地，所述銀功能膜層的厚度為5nm～10nm。

優(yōu)選地，所述阻擋膜層的厚度為1nm～5nm。

優(yōu)選地，所述第一電介質(zhì)膜層的厚度為25nm～35nm；和/或

所述第二電介質(zhì)膜層的厚度為15nm～25nm；和/或

所述第三電介質(zhì)膜層的厚度為5nm～10nm；和/或

所述第四電介質(zhì)膜層的厚度為10nm～15nm；和/或

所述第五電介質(zhì)膜層的厚度為25nm～30nm；和/或

所述第六電介質(zhì)膜層的厚度為5nm～10nm。

優(yōu)選地，所述阻擋膜層為鎳鉻膜層、氧化鎳鉻膜層或氮化鎳鉻膜層中任一種。

優(yōu)選地，所述第一電介質(zhì)膜層SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種。

優(yōu)選地，所述第二電介質(zhì)膜層和/或所述第四電介質(zhì)膜層為ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層中的任一種。

優(yōu)選地，所述第三電介質(zhì)膜層為ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層、AZO膜層中的任一種。

優(yōu)選地，所述第五電介質(zhì)膜層為SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層中的任一種；和/或所述第六電介質(zhì)膜層為如TiO₂膜層、ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層、AZO膜層中的任一種。

優(yōu)選地，所述玻璃基板為普通白玻。

上述實(shí)施例中的超高透低輻射鍍膜玻璃，具有輻射率低(小于0.08)，玻面顏色接近無色(a*可達(dá)-0.5)，透過色也接近無色(a*可達(dá)2.0，b*可達(dá)-1)，光學(xué)性能穩(wěn)定、色彩明亮且容易調(diào)節(jié)，可見光透過率高，不同批次玻璃的色差小等特點(diǎn)，完全可以達(dá)到兼具低輻射鍍膜玻璃性能以及比擬白玻的可見光透過率的效果，因此，具有廣泛的市場應(yīng)用前景，適合推廣至民用建筑。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，附圖中：

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例超高透低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例超高透低輻射鍍膜玻璃的制備工藝流程圖。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

如圖1所示，本實(shí)用新型實(shí)例提供了一種超高透低輻射鍍膜玻璃，該超高透低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外依次疊設(shè)的第一電介質(zhì)膜層2、第二電介質(zhì)膜層3、銀功能膜層4、阻擋膜層5、第三電介質(zhì)膜層6、第四電介質(zhì)膜層7、第五電介質(zhì)膜層8、第六電介質(zhì)膜層9。

其中，在優(yōu)選實(shí)施例中，玻璃基板1為普通白色浮法玻璃(簡稱普通白玻)，一方面降低生產(chǎn)成本，另一方面提高生產(chǎn)效率，同時(shí)還避免存在底色而影響鍍膜玻璃的最終顏色。

在優(yōu)選實(shí)施例中，第一電介質(zhì)膜層2的厚度為25nm～35nm。進(jìn)一步優(yōu)選地，第一電介質(zhì)膜層2為SiZrO_x膜層、TiO₂膜層、SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、AZO膜層中的任一種膜層。第一電介質(zhì)膜層2為減反射膜層，起著連接玻璃基板1和第二電介質(zhì)膜層3的作用，并且能有效阻止玻璃基板1中的Na⁺向其他膜層中滲透。

在優(yōu)選實(shí)施例中，第二電介質(zhì)膜層3的厚度為15nm～25nm。第二電介質(zhì)膜層3為ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層中的任一種。

結(jié)合起來，第一電介質(zhì)膜層2和第二電介質(zhì)膜層3為減反射膜層，起著連接玻璃基板1和其他功能膜層的作用，要求膜層與玻璃之間粘結(jié)性能好，并能夠緩解整個(gè)低輻射膜的內(nèi)部應(yīng)力。

優(yōu)選地，銀功能膜層4的厚度為3nm～30nm。

優(yōu)選地，阻擋膜層5的厚度為1nm～5nm。阻擋膜層5為鎳鉻膜層、氧化鎳鉻膜層或氮化鎳鉻膜層中任一種。

優(yōu)選地，第三電介質(zhì)膜層6的厚度為5nm～10nm。第三電介質(zhì)膜層6為ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層、AZO膜層中的任一種。

優(yōu)選地，第四電介質(zhì)膜層7的厚度為10nm～15nm。第四電介質(zhì)膜層7為ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層中的任一種。

在一優(yōu)選實(shí)施例中，第五電介質(zhì)膜層8的厚度為25nm～30nm。

進(jìn)一步優(yōu)選地，第五電介質(zhì)膜層8為SiO₂膜層、Ta₂O₅膜層、SiN_xO_y膜層、BiO₂膜層、Al₂O₃膜層、Nb₂O₅膜層、Si₃N₄膜層、ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層中的任一種。

在一優(yōu)選實(shí)施例中，第六電介質(zhì)膜層9的厚度為5nm～10nm。

進(jìn)一步優(yōu)選地，第六電介質(zhì)膜層9為TiO₂膜層、ZnSnO_x膜層、SnO₂膜層、ZnO膜層、Al₂O₃膜層、AZO膜層中的任一種。

第五電介質(zhì)膜層8和第六電介質(zhì)膜層9電介質(zhì)膜層作為外層減反射膜層，直接影響到產(chǎn)品的抗劃傷，耐磨和抗腐蝕性能，有較高的硬度，以起到對功能層保護(hù)的作用。

電介質(zhì)膜層、銀功能膜層和阻擋層的相互配合，以及通過改變各膜層的厚度，從而沉積出顏色明亮鮮艷、可見光透過率非常高的超高透低輻射膜。通過調(diào)節(jié)第三電介質(zhì)膜層6和第四電解質(zhì)膜層7的厚度比例，使得透過色更加趨向于無色，結(jié)合第六電介質(zhì)膜層9，可以提高產(chǎn)品的抗氧化性能和抗劃傷性能，解決了普通低輻射鍍膜玻璃在可見光透過率上的限制，擴(kuò)大了可選擇的范圍，因此，僅僅通過鍍膜工藝的調(diào)整，即可達(dá)到在浮法玻璃原片上解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。

上述各膜層在所限定的厚度范圍內(nèi)按順序結(jié)合，具有輻射率低(小于0.08)，玻面顏色接近無色(a*可達(dá)-0.5)，透過色也接近無色(a*可達(dá)2.0，b*可達(dá)-1)，光學(xué)性能穩(wěn)定、色彩明亮且容易調(diào)節(jié)，可見光透過率高，不同批次玻璃的色差小等特點(diǎn)，完全可以達(dá)到兼具低輻射鍍膜玻璃性能以及比擬白玻的可見光透過率的效果，因此，具有廣泛的市場應(yīng)用前景，適合推廣至民用建筑。

相應(yīng)地，在上文所述的超高透低輻射鍍膜玻璃的基礎(chǔ)上，本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了本實(shí)用新型實(shí)施例超高透低輻射鍍膜玻璃的一種制備方法。作為本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例，該超高透低輻射鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：

所述玻璃基板1一表面向外，依次疊設(shè)第一電介質(zhì)膜層2、第二電介質(zhì)膜層3、銀功能膜層4、阻擋膜層5、第三電介質(zhì)膜層6、第四電介質(zhì)膜層7、第五電介質(zhì)膜層8、第六電介質(zhì)膜層9。

在該實(shí)施例的制備方法中，第一電介質(zhì)膜層2為氮化硅膜層、第二電介質(zhì)膜層3為氧化鋅膜層、阻擋膜層5為鎳鉻膜層、第三電介質(zhì)膜層6為AZO膜層、第四電介質(zhì)膜層7為氧化鋅膜層、第五電解質(zhì)膜層8為氮化硅膜層、第六電介質(zhì)膜層9為氧化鈦膜層，玻璃基板1為普通白玻璃。

具體地，在玻璃基板1表面疊設(shè)膜層前，先采用Benteler清洗機(jī)對普通白色浮法玻璃進(jìn)行清洗，去除玻璃基板1表面的有機(jī)污染物質(zhì)。

具體地，疊設(shè)的所有氮化硅膜層(第一電介質(zhì)膜層2、第五電解質(zhì)膜層8)采用中頻電源加旋轉(zhuǎn)陰極在氬氮分為中濺射沉積，濺射功率為30kW～80kW，中頻電源頻率為30～50kHz；

第二電介質(zhì)膜層3、第三電介質(zhì)膜層6、第四電介質(zhì)膜層7和第六電介質(zhì)膜層9采用中頻電源加旋轉(zhuǎn)陰極在氬氧氛圍中濺射沉積，濺射功率為10～50kW中頻電源頻率為30～40kHz。

阻擋膜層5在氬氣氛圍中濺射鉻平面靶材，濺射功率為2～5kW。

銀功能膜層4在氬氣氛圍中直流或直交流加脈沖磁控濺射，濺射功率為3～10kW。

具體參數(shù)詳見表1所示。

表1本實(shí)用新型超高透低輻射鍍膜玻璃制備過程工藝參數(shù)

本實(shí)用新型實(shí)施例超高透低輻射鍍膜玻璃的制備工藝工序簡單、生產(chǎn)效率高、生產(chǎn)成本低，結(jié)構(gòu)牢固、緊湊，產(chǎn)品性能滿足人們對超高透低輻射鍍膜玻璃的需求。

以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包括在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。