1.一種適合石墨烯生長的制備裝置，其特征在于：包括生長沉淀倉（1），冷卻倉（2）；生長沉淀倉（1）與冷卻倉（2）內(nèi)設(shè)有傳輸帶（3），傳輸帶（3）上放置基底（4），基底（4）上放置石墨烯材料（5）；所述的生長沉淀倉（1）內(nèi)設(shè)有加熱裝置，冷卻倉（2）進行冷卻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適合石墨烯生長的制備裝置，其特征在于：所述的加熱裝置為若干根加熱棒（6），若干根加熱棒（6）縱向布置，相互之間平行放置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適合石墨烯生長的制備裝置，其特征在于：所述的生長沉淀倉（1）還設(shè)有進風管（7）；進風管（7）布置在傳輸帶（3）上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的適合石墨烯生長的制備裝置，其特征在于：所述的生長沉淀倉（1）頂部還有設(shè)有抽風設(shè)備（8）。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適合石墨烯生長的制備裝置，其特征在于：所述的冷卻倉（2）內(nèi)設(shè)有冷卻設(shè)備（9）；冷卻設(shè)備（9）分別布置在冷卻倉（2）的側(cè)壁與頂端。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適合石墨烯生長的制備裝置，其特征在于：所述的生長沉淀倉（1）開啟加熱裝置進行石墨烯生長。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的適合石墨烯生長的制備裝置，其特征在于：關(guān)閉加熱裝置進行石墨烯沉淀。